DE3546325C2

DE3546325C2 - Magnetisches Aufzeichnungsmedium

Info

Publication number: DE3546325C2
Application number: DE3546325A
Authority: DE
Inventors: Juro Endo; Shiro Murakami; Shigeo Fujii; Shigeru Oguma; Masayuki Nakao
Original assignee: Hitachi Metals Ltd
Current assignee: Proterial Ltd
Priority date: 1985-01-17
Filing date: 1985-12-30
Publication date: 1994-06-01
Anticipated expiration: 2005-12-31
Also published as: JPS61267929A; DE3546325A1; US4774130A

Description

Die Erfindung betrifft ein magnetisches Aufzeichnungsmedium gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruches 1. Ein solches Aufzeichnungsmedium ist aus der DE 31 17 931 A1 bekannt.

Als Schutzfilm für das Aufzeichnungsmedium wurden bereits die verschiedensten Stoffe verwendet, zu denen Metalle, wie z. B. Osmium, Ruthenium, Iridium, Mangan und Wolfram, Oxide, wie z. B. Siliziumoxid, Titanoxid, Tantaloxid und Hafniumoxid, verschie dene Nitride, Karbide, Bor, Kohlenstoff, Legierungen von Koh lenstoff mit Bor, Polykieselsäure sowie Kohlenstoff in Diamant struktur zählen.

Unter diesen Stoffen erfreut sich Kohlenstoff aufgrund seiner hervorragenden Schmiereigenschaften großer Beliebtheit. Der Schutzfilm aus Kohlenstoff zeigt jedoch eine relativ hohe Durchlässigkeit für H₂O und O₂. Die Schutzwirkung des Films, die dem magnetischen Film auch eine verbesserte Beständigkeit gegen Korrosion und Umweltbedingungen verleihen soll, zeigt damit gewisse Mängel.

Die aus anderen Stoffen als Kohlenstoff hergestellten Schutzfilme haben im Vergleich zu dem Kohlenstoff-Schutzfilm eine mehr oder weniger erhöhte Beständigkeit gegen Korrosion und Umweltbedingungen, ihre Schmiereigenschaften sind jedoch deutlich schlechter.

Das aus der obengenannten DE 31 17 931 A1 bekannte magne tische Aufzeichnungsmedium besteht aus einem scheibenförmigen Substrat aus einer Aluminiumlegierung oder dergleichen, auf dem nacheinander eine harte Zwischenschicht, eine magnetische Schicht aus einer Kobalt-Nickel-Phosphor-Legierung als die eigentliche Aufzeichnungsschicht und eine Schutzschicht aus gebildet sind. Die Schutzschicht besteht aus einem Halbmetall oxidfilm etwa aus Polysilikat, einem Metalloxidfilm mit Oxiden etwa von Si, Ge oder Cr und/oder einem Metallfilm sowie einem dünnen Schmiermittelfilm aus einem festen Schmiermittel, etwa Fluorkohlenstoff oder Graphit.

Die Dicke des Schmiermittelfilmes beträgt dabei 0,1 nm bis einige Nanometer, während die Dicke des Halbmetalloxidfilmes oder Metalloxidfilmes 100 nm bis 150 nm beträgt.

Zur Erzeugung des Schmiermittelfilmes wird das feste Schmiermittel unter Druck auf der Oberfläche des Aufzeichnungs trägers verrieben, das heißt es wird ein festes, pulverförmiges Fluorkohlenstoff-Schmiermittel über den Halbmetalloxidfilm ver teilt und ein mit demselben Fluorkohlenstoffpulver besprühtes Poliertuch unter einem Druck p dagegen gerieben.

Mit einer solchen Vorgehensweise kann jedoch nicht sicher gestellt werden, daß das Schmiermittel auch gleichmäßig über die Oberfläche der Magnetplatte verteilt ist. Insbesondere kann die Schmiermittelschicht Lücken aufweisen, in denen dann der Auf zeichnungskopf über die Magnetplatte kratzt und diese zerstört. Auch ist bei dieser Vorgehensweise nicht ausgeschlossen, daß die Bindung der Schmiermittelschicht an die Unterlage zumindest stellenweise nicht ausreichend ist, was zur Folge hat, daß dort die Schmiermittelschicht vom Aufzeichnungskopf weggeschoben wird.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein magne tisches Aufzeichnungsmedium mit einem Schutzfilm anzugeben, der bei hoher Beständigkeit gegen Korrosion und Umweltbedingungen hervorragende Schmiereigenschaften aufweist.

Diese Aufgabe wird, ausgehend von dem eingangs genannten Stand der Technik, erfindungsgemäß mit den im Patentanspruch 1 angegebenen Merkmalen gelöst.

Demgegenüber wird gemäß der eingangs genannten Druckschrift der Schmiermittelfilm nicht durch Sputtern, sondern durch Verreiben hergestellt, außerdem ist Si nur als Polysilikat und Ge nur als Oxid vorgesehen und als Schmiermittel kein amorpher Kohlenstoff.

Die Unteransprüche beinhalten vorteilhafte Ausgestaltungen des Aufzeichnungsmediums nach Anspruch 1.

Aus der EP 00 26 496 A1 ist es zwar bekannt, eine gesput terte Kohlenstoffschicht als Schmiermittelfilm auf einer Metall schicht aufzubringen, jedoch besteht diese Metallschicht aus Titan, das lediglich als Zwischenschicht zwischen der magneti schen Schicht und dem Schmiermittelfilm zur Haftverbesserung dient. Darüber hinaus besteht der Schmiermittelfilm hier aus kristallinem Kohlenstoff mit einer Dicke von mehr als 100 nm, der sich in seinen Eigenschaften von amorphem Kohlenstoff we sentlich unterscheidet.

Die Vorteile des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmediums gehen aus der folgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungs beispiele hervor, die unter Bezugnahme auf die anliegenden Zeichnungen erfolgt. In den Zeichnungen zeigen

Fig. 1 die Kennlinie eines für die Prüfung der CSS-Bestän digkeit in Beispielen und Vergleichsuntersuchungen verwendeten Antriebs; und die

Fig. 2 und 3 Darstellungen der Meßergebnisse bei den Bei spielen und den Vergleichsuntersuchungen.

Bei eingehenden Untersuchungen eines bei einem magnetischen Aufzeichnungsmedium auf dem magnetischen Film auszubildenden Schutzfilmes fanden die Erfinder heraus, daß ein Schutzfilm her vorragenden Werte für die Korrosionsbeständigkeit und die Be ständigkeit gegen Umweltbedingungen sowie für die Schmiereigen schaften aufweist, der aus einer ersten Schicht, die zumindest einen aus der Gruppe Cr₂O₃, Si und Ge gewählten Stoff ent hält, und aus einer zweiten Schicht aus amorphem Kohlenstoff (C) oder Graphit mit amorphem Kohlenstoff aufgebaut ist, die auf die erste Schicht aufgebracht ist.

Das Substrat wird aus Aluminium, einer Aluminiumlegierung, die nicht mehr als 7 Gew.-%, vorzugsweise 3 bis 4 Gew.-%, Magnesium enthält, einer Zink enthaltenden Aluminiumlegierung oder einer Titanlegierung hergestellt. Unter den verfügbaren Materialien erweist sich die Aluminiumlegierung als besonders geeignet, da sie leicht, billig und einfach zu verarbeiten ist. In den letzten Jahren fanden aus Keramiken hergestellte Substrate steigende Aufmerksamkeit. Für die vor liegende Erfindung sind derartige Keramiksubstrate, beispiels weise aus ZrO₂ oder Al₂O₃, und selbst Glassubstrate verwend bar.

Die Oberfläche des zu verwendenden Substrats wird bei spielsweise durch mechanisches oder chemisches Schleifen flach und glatt bearbeitet. Auf dem Substrat wird eine feste Unterschicht, beispielsweise aus Alumite oder einer Ni-P-Le gierung, gebildet, um eine Deformation der Scheibenoberfläche aufgrund des Aufsetzens des Magnetkopfes zu vermeiden. (Diese Unterschicht ist nicht immer erforderlich, wenn das Substrat aus einem keramischen Stoff hergestellt ist.)

Ist das Substrat aus Aluminium oder einer Aluminiumle gierung hergestellt, wird seine Oberfläche anodisch oxidiert, um eine Alumiteschicht aufwachsen zu lassen, die als eine untere Beschichtungsschicht dienen soll. Obwohl die Dicke dieser Alumiteschicht nicht besonders eingeschränkt ist, liegt sie im allgemeinen in einem Bereich von einigen Mikrometer bis einigen zehn Mikrometer, und zwar z. B. bei etwa 10 Mikrometer. Die Oberfläche der Unterschicht aus Alumite oder Ni-P sollte geschliffen werden, um die Ausbildung des magne tischen Films darauf vorzubereiten. Die Oberflächenrauhig keit sollte vorzugsweise nicht über 0,02 µ (Oberflächen rauhigkeit Ra) liegen. Die Oberfläche kann mechanisch-chemisch unter Verwendung eines Kolloid-Silikapulvers poliert werden.

Auf der Unterlageschicht wird der magnetische Filme ausge bildet. Der magnetische Film kann aus einer Legierung oder Metalloxid hergestellt werden. Beispiele für eine vorteil haft zu verwendende Legierung sind Co-Ni, Co-Ni-Pt, Co-Ni-P, Co-Pt, Co-Cr, Co-Cr-Pt und Co-Ni-Cr. In diesen Legierungen kann Fe für einen Teil des Co oder Ni substituiert werden. In der Co-Ni-Legierung kann zumindest ein aus der Gruppe Ti, Cr, Hf, Ru und Pt gewählter Stoff eingebaut werden, um einen Teil des Co zu substituieren. Ein typisches Beispiel für einen Oxid-Magnetfilm ist ein aus γ-Fe₂O₃ hergestellter magnetischer Film.

Der oben beschriebene magnetische Film kann nach einem der herkömmlichen Sputterverfahren ausgebildet werden, bei spielsweise mit einem Beschichtungsverfahren aus der Dampf phase oder aus der Flüssigphase wie es in der japanischen Patentoffenlegungsschrift SHO 56 (1981)-41524 dargestellt ist.

Vorzugsweise enthalten die magnetischen Filme aus Co-Ni,- Co-Ni-Pt und Co-Ni-P Ni in einer Konzentration im Bereich von 5 bis 40 Atom-%, vorzugsweise von 10 bis 30 Atom-%. In den zusätzlich zu Co und Ni Pt enthaltenden Legierungen sollte der Pt-Gehalt nicht über 12 Atom-%, vorzugsweise 10 Atom-%, hinausgehen. In den zusätzlich zu Co und Ni P enthal tenden Legierungen sollte der P-Gehalt 12 Atom-% nicht über steigen. In dem magnetischen Co-Pt-Film sollte der Pt-Gehalt nicht über 12 Atom-%, vorzugsweise nicht über 10 Atom-% liegen.

In dem Co-Cr-Film sind 5 bis 20 Atom-%, vorzugsweise 5 bis 7 Atom-%, Cr enthalten. In den Co-Cr-Pt-Filmen sind 5 bis 20 Atom-%, vorzugsweise 5 bis 7 Atom-%, Cr und 1 bis 10 Atom-%, vorzugsweise 5 bis 9 Atom-% Pt enthalten. In den Co-Ni-Cr-Filmen sind 10 bis 35 Atom-% Ni und 3 bis 15 Atom-% Cr, vorzugsweise 15 bis 25 Atom-% Ni und 3 bis 10 Atom-% Cr enthalten.

Der magnetische Film sollte eine Dicke im Bereich von 30 bis 300 nm, vorzugsweise von 50 bis 150 nm haben. Ist die Dicke kleiner als 30 nm, hat der magnetische Film keine stabilen Eigenschaften. Liegt die Dicke über 300 nm, dauert die Bildung des magnetischen Films sehr lange, und die Herstellungskosten sind hoch.

Auf dem magnetischen Film ist ein Schutzfilm ausgebildet, der aus einer ersten Schicht, die aus zumindest einem Stoff aus der Gruppe Cr₂O₃, Si und Ge hergestellt ist, und einer zweiten Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder Graphit mit amorphem Kohlenstoff aufgebaut ist, die auf der Oberfläche der ersten Schicht abgeschieden ist. Die erste Schicht kann im einzelnen aus einem der folgenden sieben Stoffe gebildet sein: (1) Nur Si, (2) nur Ge, (3) nur Cr₂O₃, (4) Si-Ge, (5) Si-Cr₂O₃₁ (6) Ge-Cr₂O₃ und (7) Si-Ge-Cr₂O₃.

Die Stoffe Si, Ge und Cr₂O₃ übertreffen den oben genannten amorphen Kohlenstoff bezüglich der Korrosions- und Umwelt beständigkeit. Die Elemente Si und Ge zeigen ziemlich zufrie denstellende Schmiereigenschaften. Cr₂O₃ ist fest und geeignet, die CSS-Beständigkeit des Schutzfilms zu steigern.

Die zweite Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder Graphit mit amorphem Kohlenstoff hat hervorragende Schmiereigenschaf ten. Insbesondere besitzt eine Schicht aus amorphem Kohlen stoff oder Graphit mit amorphem Kohlenstoff mit einem spezi fischen Widerstand im Bereich von 10^-2 bis 102² Ω·cm eine hohe Schmierfähigkeit und eine hohe Abriebfestigkeit. Ist bei zufriedenstellenden Schmiereigenschaften der spezifische Widerstand kleiner als 10^-3 Ω·cm, ist der Verschleiß stark und die CSS-Beständigkeit nicht hinreichend. Übersteigt der spezifische Widerstand 10⁴ Ω·cm, nimmt der amorphe Kohlen stoff ein Gefüge ähnlich der Diamantstruktur an und zeigt keine ausreichenden Schmiereigenschaften.

Wenn die Dicke des Schutzfilms (die Gesamtdicke der ersten und zweiten Schicht) 100 nm übersteigt, wird die für die Bildung des Schutzfilms erforderliche Zeit übermäßig lang, und gleichzeitig nimmt der Abstand zwischen dem Magnetkopf und dem Magnetfilm zu und die elektromagnetischen Umwandlungs eigenschaften der Platte werden verschlechtert. Wenn die Dicke übermäßig klein ist, kann der Schutzfilm naturgemäß seine Funktionen nicht erfüllen. Die Dicke dieses Films sollte daher vorzugsweise im Bereich zwischen 30 und 100 nm liegen.

Die erste Schicht sollte eine Dicke etwa zwischen 10 und 30 nm aufweisen. Ist diese Dicke kleiner als 10 nm, ist die Wirksamkeit der ersten Schicht für die Verbesserung der Korrosions- und Witterungsbeständigkeit nicht ausreichend. Liegt sie über 30 nm, wird es bei ausreichender Korrosions- und Witterungsbeständigkeit notwendig, die Dicke der zweiten Schicht (Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder amorphen Kohlenstoff enthaltendem Graphit) entsprechend zu verringern, da aus den oben beschriebenen Gründen die gesamte Dicke des Schutzfilms nicht über 100 liegen soll.

Die zweite Schicht sollte eine Dicke etwa zwischen 20 und 70 nm aufweisen. Ist diese Dicke kleiner als 20 nm, ist die Wirksamkeit der zweiten Schicht für die Verbesserung der Schmiereigenschaften nicht ausreichend. Übersteigt sie 70 nm, entsteht wieder die Notwendigkeit, die Dicke der ersten Schicht zu beschränken. Auf den Schutzfilm kann noch ein Schmier mittel aufgebracht werden, das aus einem organischen Stoff, wie z. B. Perfluoralkylpolyether, Mono stearin-Briacontinol-Trymethoxisilan oder Melamin-Cyanurat, hergestellt ist.

Die auf dem magnetischen Film ausbildete, Cr₂O₃, Si und Ge enthaltende erste Schicht hat eine hervorragende Korrosions- und Umweltbeständigkeit. Die zweite Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder amorphen Kohlenstoff enthaltendem Graphit hat hervorragende Schmiereigenschaften.

Der in das magnetische Aufzeichnungsmedium einbezogene Schutzfilm vereinigt die Vorteile der ersten und zweiten Schicht. Da der erfindungsgemäße Schutzfilm des magnetischen Aufzeichnungsmediums eine hervorragende Korrosions- und Umweltbeständigkeit aufweist, ermöglicht er einen weitgehenden Schutz des magnetischen Films und eine hervor ragende Haltbarkeit des magnetischen Aufzeichnungsmediums. Daneben zeigt dieser Schutzfilm eine extrem hohe Schmier fähigkeit und eine hervorragende praktische Brauchbarkeit.

Der magnetische Film und der Schutzfilm können durch die Sputtertechnik ausgebildet werden. Für dieses Sputter verfahren wird im allgemeinen eine herkömmliche Sputter vorrichtung verwendet, die ein Gehäuse mit einem Target und einem Platte für die Montage einer Probe, einen Heizer für die Erhitzung des Innern des Gehäuses, eine Vakuumpumpe für die Evakuierung des Gehäuseinneren sowie einen Gaszylinder aufweist, der mit diesem Gehäuse verbunden ist. Das in dieser Vorrichtung zu verwendende Target ist vorteilhaft aus einer Legierung hergestellt, die der Legierungszusammensetzung des zu bildenden Films entspricht oder ähnlich ist.

Das Sputtern wird vorzugsweise in einer Atmosphäre aus verdünntem Gas oder Argon (Ar)-Gas durchgeführt. Der Druck dieser Atmosphäre sollte im Bereich zwischen 0,133 bis 13,3 Pa, vorzugsweise im Bereich zwischen 0,66 und 6,6 Pa als Gesamtdruck liegen. Der Behälter, in dem das Sputtern durch geführt wird, sollte vor der Bildung der oben genannten Atmosphäre für das Sputtern auf ein Vakuum nicht über 1,33×10^-3Pa (10^-5 Torr) evakuiert werden.

In Vorbereitung auf das Sputtern kann das Substrat er hitzt oder auf Raumtemperatur gehalten werden. Wird das Substrat erhitzt, sollte die erhöhte Temperatur des Substrats nicht über 250°C, vorzugsweise nicht über 220°C liegen. Die Sputterzeit läßt sich bestimmen, indem die Dicke des zu bildenden Films durch die Durchschnittsgeschwindigkeit der Filmformierung geteilt wird.

Die Sputtervorrichtung ist vorzugsweise so ausgelegt, daß verschiedene Bedingungen eingestellt werden können, wie z. B. die Temperatur, die Atmosphäre und der Atmosphärendruck.

Beispiele für bekannte und erfindungsgemäß anwendbare Sputter vorrichtungen sind eine Hochfrequenzmagnetron-Sputtervorrich tung, eine Kreismagnetron-Sputtervorrichtung, eine Planar magnetron-Sputtervorrichtung, eine Magnetron-Sputtervorrich tung mit zylindrischer Elektrode, eine Ionenstrahl-Sputter vorrichtung, eine Hochfrequenz-Sputtervorrichtung und eine Gleichstrom-Bipolarsputtervorrichtung.

Zwischen das Substrat und den magnetischen Film kann zusätzlich zu der Unterlageschicht eine Zwischenschicht ein gefügt werden, die geeignet ist, die Haftfestigkeit des magne tischen Films zu erhöhen. Für die Einfügung zwischen die ge nannten Schichten eignet sich vorzugsweise eine etwa 5 bis 50 nm dicke Schicht aus Cr, V oder Mn.

Die Erfindung läßt sich auf scheibenförmige magnetische Aufzeichnungsmedien anwenden, deren Durchmesser zwischen 2,5 und 5 cm (1 bis 2 Zoll) und 25,4 cm (10 Zoll) oder mehr liegt.

Die Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf konkrete Beispiele im einzelnen beschrieben. Die beschriebenen Beispiele wurden unter Verwendung einer Magnetron- Hochfrequenzsputtervorrichtung hergestellt. Selbstverständlich läßt sich die Erfindung mit ähnlicher Wirksamkeit beispiels weise auch unter Verwendung einer Ionenstrahl-Sputtervor richtung umsetzen.

Beispiel 1

Die Oberfläche eines Substrats aus einer 4% Magnesium enthaltenden Aluminiumlegierung (130 mm Durchmesser, 40 mm Innendurchmesser und 1,9 mm Dicke) wurde plan und glatt gedreht. Anschließend wurde auf dem bearbeiteten Substrat mit der stromlosen Plattiertechnik eine Ni-P-Schicht in einer Dicke von 25 µm gebildet. Eine Seite der Ni-P-Schicht wurde in einer Dicke von etwa 2 µm abgeschliffen, regellos geritzt, um 0,05 bis 0,1 µm tiefe Einschnitte zu erhalten (Gefügebehandlung) und einem Endschliff auf Spiegelglätte unterzogen.

Anschließend wurde unter Verwendung einer Planarmagnetron- Hochfrequenzsputtervorrichtung eine Unterlageschicht aus Cr in einer Dicke von 300 nm abgeschieden und unmittelbar anschließend darauf ein Co-Ni-Film unter folgenden Bedingun gen gebildet:

Anfangsevakuierung
2,66 × 10^-4 Pa (2 × 10^-6 Torr)
Sputteratmosphäre	Ar
Druck der Sputteratmosphäre	1,6 Pa (12 m · Torr)
Elektrische Versorgungsleistung	1 KW
Target-Zusammensetzung	20 Atom-% Ni (Rest Co)
Elektrodenabstand	108 mm
Dicke des magnetischen Films	50 nm
Geschwindigkeit der Filmformierung	20 nm/min
Substrattemperatur	200°C

Durch Sputtern wurde ein Schutzfilm aus Si in einer Dicke von 20 nm unter Verfolgung des oben beschriebenen Verfahrens gebildet, mit der Ausnahme, daß das Target aus Si mit einer Reinheit von 99,99% war. Auf diesem Schutzfilm wurde zur Vervollständigung des magnetischen Aufzeichnungs mediums eine C-Schicht gebildet. Dieses magnetische Auf zeichnungsmedium wurde auf seine CSS-Beständigkeit unter sucht. Bei der Untersuchung der CSS-Beständigkeit wurde eine mit einem Schutzfilm versehene Probe mit 13,3 cm (5 1/4 Zoll) Durch messer auf einem entsprechenden Plattenantrieb montiert. Bei der Untersuchung wurde ein Mn-Zn-Winchesterkopf verwendet, wobei das Spiel des Kopfes in einem Zwischenraum-Umfangsteil R = 50 cm auf 0,45 µm festgelegt war (bei einem Wert von 3600 U/min). Der CSS-Zyklus entsprach der Darstellung in Figur 1.

Die CSS-Beständigkeit wurde nach Beendigung an dem Punkt beurteilt, an dem der Verlust des Wiedergabeausgangs signals bezogen auf den Anfangswert 10% betrug, oder bei einer Zunahme der Fehleranzahl gerade um eins.

Die Untersuchungsergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.

Beispiel 2

Ein magnetisches Aufzeichnungsmedium wurde entsprechend dem Verfahren von Beispiel 1 hergestellt, bis auf die Aus nahme, daß das Material der ersten Schicht des Schutzfilms und die Dicke der ersten und zweiten Schicht entsprechend Tabelle 1 verändert wurden.

Die Ergebnisse der Untersuchung der CSS-Beständigkeit sind in Tabelle 1 gezeigt.

Vergleichsuntersuchung 1

Mit dem Verfahrens nach Beispiel 1 wurden magnetische Aufzeichnungsmedien hergestellt, bis auf die Aus nahme, daß unabhängig SiO₂, Osmium, Siliziumnitrid, Silizium carbid und Kohlenstoff mit Diamantstruktur als Materialien für die Schutzfilme verwendet wurden. Diese magnetischen Aufzeichnungsmedien wurden auf ihre CSS-Beständigkeit unter sucht.

Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 dargestellt.

Tabelle 1 ist zu entnehmen, daß die Schutzfilme der er findungsgemäßen magnetischen Aufzeichnungsmedien hohe Schmier eigenschafts-Kennwerte zeigen.

Daneben wurden Proben vorbereitet, bei denen die Schutz filme jeweils aus Osmium, Siliziumnitrid, Siliziumcarbid und Kohlenstoff mit Diamantstruktur mit einer festen Dicke von 40 nm hergestellt waren. Bei der Untersuchung der CSS-Be ständigkeit zeigte sich, daß diese gleichbleibend nicht über 10 K hinausging. Selbst bei Aufbringen eines Fluorkohlenstoff- Schmierstoffes in einer Dicke von etwa 10 nm auf die Schutz filme war die CSS-Beständigkeit gleichbleibend geringer als 20 K. Da im allgemeinen eine CSS-Beständigkeit über 10 K oder 20 K erforderlich ist, erfüllten diese Schutzfilme die Zu lässigkeitsvoraussetzungen bezüglich der CSS-Beständigkeit nicht.

Beispiel 3

Unter Anwendung des Verfahrens nach Beispiel 1 wurden magnetische Aufzeichnungsmedien hergestellt, mit der Aus nahme, daß die Gesamtdicke des Schutzfilms im Bereich von 30 bis 100 nm verändert wurde, wobei das Dickenverhältnis der ersten und zweiten Schicht auf 1 : 2 festgelegt war. Diese magnetischen Aufzeichnungsmedien wurden auf ihre CSS-Eigen schaften untersucht. Die Ergebnisse sind in Figur 2 gezeigt.

Vergleichsuntersuchung 2

Entsprechend dem Verfahren der Vergleichsuntersuchung 1 wurden magnetische Aufzeichnungsmedien hergestellt, wobei Schutzfilme aus Kohlenstoff mit Diamantstruktur Anwendung fanden, deren Dicke zwischen 30 und 100 nm verändert wurde. Diese Aufzeichnungsmedien wurden auf ihre CSS-Beständigkeit untersucht. Die Ergebnisse sind in Figur 2 gezeigt.

Aus Figur 2 ist ersichtlich, daß die erfindungsgemäßen magnetischen Aufzeichnungsmedien eine hervorragende CSS-Be ständigkeit aufweisen. Die Ergebnisse zeigen naturgemäß, daß sich die CSS-Beständigkeit proportional zum Anstieg der Film dicke verbessert.

Einige der magnetischen Aufzeichnungsmedien nach den vorhergehenden Beispielen und Vergleichsuntersuchungen, wie sie in Tabelle 1 gezeigt sind, wurden weiterhin auf ihre Korrosions- und Umweltbeständigkeit untersucht.

Diese Untersuchung wurde nach einem Verfahren durchge führt, bei dem eine Probe für eine Woche in reines Wasser mit einem spezifischen Widerstand von 3 MΩ·cm (25°C) einge taucht und der Verlust (ΔBr) der Sättigungs-Magnetflußdichte (Br) gemessen wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 darge stellt.

Figur 3 zeigt eine grafische Darstellung der Ergebnisse von Untersuchungen der Korrosions- und Umweltbeständigkeit, die ähnlicherweise an Proben nach dem Beispiel 3 und der Ver gleichsuntersuchung 2 durchgeführt wurden.

Tabelle 2 und Fig. 3 ist zu entnehmen, daß die erfin dungsgemäßen magnetischen Aufzeichnungsmedien eine hervor ragende Korrosions- und Umweltbeständigkeit aufweisen.

Tabelle 2

Claims

1. Magnetisches Aufzeichnungsmedium, mit einem scheibenförmigen Substrat, einem magnetischen Film auf dem Substrat und einem Schutzfilm auf dem magnetischen Film, wobei der Schutzfilm aus einer durch Sputtern aufgebrachten ersten Schicht, die zumindest Cr₂O₃, Si und/oder Ge enthält, und aus einer durch Sputtern auf der ersten Schicht aufgebrachten zweiten Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder amorphen Kohlenstoff enthaltendem Graphit auf gebaut ist, und wobei die Gesamtdicke des Schutzfilmes 100 nm nicht übersteigt.

2. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die erste Schicht des Schutzfilmes eine Dicke im Bereich von 10 bis 30 nm und die zweite Schicht des Schutzfilmes eine Dicke im Be reich von 20 bis 70 nm hat.

3. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei die zweite Schicht aus amorphem Kohlenstoff oder amorphen Kohlen stoff enthaltendem Graphit mit einem spezifischen Widerstand im Bereich von 10^-2 bis 10² Ωcm hergestellt ist.

4. Magnetisches Aufzeichnungsmedium nach Anspruch 1, wobei auf den Schutzfilm ein Schmierstoff aufgebracht ist.