DE3544467A1

DE3544467A1 - Construction of an electron control device (electrode plate) for flat self-illuminating display devices

Info

Publication number: DE3544467A1
Application number: DE19853544467
Authority: DE
Inventors: Alexander Dr Phil Gschwandtner
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1985-12-16
Filing date: 1985-12-16
Publication date: 1987-08-20

Abstract

Technology of an electron control device which is suitable for controlling gas-discharge displays and for vacuum displays. The electrode planes (Z, S) consist of families of straight solid conductors which are arranged parallel and consist of etched metal sheets. A photographic technique is used on both sides of the metal sheets for the connecting galvano-plastic construction of conductor-track strips. A metal coating, which adheres well, is then electroplated in places. In the further course of the method, trenches are etched in the carrier material and strips of insulation material are then applied onto one of the electrode planes, the two electrode planes are connected and the carrier material is selectively etched to form the galvanic construction, until separate conductor tracks are produced. <IMAGE>

Description

Die Erfindung betrifft den Aufbau einer Elektronensteuer einrichtung (Elektrodenplatte), die zwischen den beiden Kammern einer Gasentladungsanzeige oder einer Vakuuman zeige mit einer oder mit mehreren thermischen Kathoden eingebaut wird und aus Scharen gerader, parallel ange ordneter, massiver Leiter besteht, die kreuzweise an geordnet und an ihren Kreuzungspunkten mit Isolatoren verbunden sind.The invention relates to the construction of an electron control device (electrode plate) between the two Chambers of a gas discharge indicator or a vacuum show with one or more thermal cathodes is installed and made of coulters straight, parallel arranged, massive ladder, which is arranged crosswise orderly and at their crossing points with isolators are connected.

Bei der ätztechnischen Herstellung der Elektrodenebenen wird der Ätzprozeß unterbrochen, ehe die Ebenen in ein zelne Leiter zerfallen. Dann werden die Leiter mit Glas lot kreuzweise verbunden und anschließend wird das Ge bilde fertiggeätzt. Daraufhin kann die Elektrodenplatte nach dem üblichen Verfahren (zum Beispiel DE-AS 24 12 869) in die Zelle eingebaut werden.During the etching production of the electrode levels the etching process is interrupted before the levels in one individual ladder disintegrate. Then the ladder with glass lot crosswise connected and then the Ge form etched. Then the electrode plate by the usual method (for example DE-AS 24 12 869) can be installed in the cell.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, den Aufbau einer eingangs beschriebenen Elektronensteuereinrichtung zu realisieren. Gegenstand der Erfindung ist demnach die Technologie einer maßgenauen und kostengünstigen Steuer platte für flache Anzeigevorrichtungen. Ein derartiger Aufbau ist Gegenstand des Patentanspruches.The invention has for its object the structure an electron control device described above to realize. The invention accordingly relates to Technology of an accurate and cost-effective tax plate for flat display devices. Such one Structure is the subject of the claim.

Der Vorteil der Erfindung besteht darin, daß damit eine einfache, maßgenaue und kostengünstige Elektronensteuer einrichtung erzielt wird.The advantage of the invention is that a simple, accurate and inexpensive electron control facility is achieved.

Die Erfindung wird anhand einer schematischen Darstel lung eines Teiles einer Elektrodenplatte erläutert. In der Figur sind mit Z die Zeilenleiter und mit S die Spaltenleiter bezeichnet. Die Isolatoren an den Kreu zungspunkten tragen das Bezugszeichen G und beidseitige galvanische Metallschichten auf den Leitern das Bezugs zeichen M.The invention is explained with reference to a schematic presen- tation of part of an electrode plate. In the figure, Z denotes the row conductors and S the column conductors. The insulators at the crossing points have the reference symbol G and galvanic metal layers on both sides of the conductors have the reference symbol M.

Das erfindungsgemäße Technologieverfahren läuft nach einem Ausführungsbeispiel folgendermaßen ab: Auf zwei Blechen mit an den Bildschirm angepaßten ther mischen Ausdehnungskoeffizienten und der gewünschten Dicke wird eine streifenförmige Phototechnik aufgebracht und entwickelt. Anschließend wird auf den freiliegenden Flächen eine selektiv zum Grundmaterial ätzbare galvani sche Schicht, zum Beispiel Chrom, abgeschieden. Die Pho totechnik wird anschließend entfernt und in die freilie genden Teile der Bleche werden Gräben geätzt. Auf eines der Bleche wird einseitig streifenförmig, zum Beispiel durch Siebdruck, Isolatormaterial (zum Beispiel Glaslot) aufgebracht. Anschließend werden die Bleche kreuzweise verlötet, wobei die Bleche einen bestimmten Abstand von einander haben und elektrisch isoliert sind. Anschlies send wird durch selektive Ätzung des Trägermaterials zum galvanischen Aufbau ein System aus getrennten Leiterbah nen hergestellt. Dabei ist zu beachten, daß überstehen des Trägermaterial sauber entfernt wird.The technology method according to the invention runs on an embodiment as follows: On two sheets with ther adapted to the screen mix expansion coefficient and the desired A strip-shaped photo technique is applied to the thickness and developed. Then the exposed A galvanic surface that can be etched selectively to the base material layer, for example chrome. The Pho dead technology is then removed and in the open trenches are etched in the relevant parts of the metal sheets. On one the sheet is strip-shaped on one side, for example by screen printing, insulator material (e.g. glass solder) upset. Then the sheets are crossed soldered, the sheets a certain distance of have each other and are electrically isolated. Connection send is made by selective etching of the carrier material galvanic construction of a system of separate conductors produced. It should be noted that survive of the carrier material is removed cleanly.

Die nach diesem Verfahren hergestellte Platte kann als Steuereinheit in Gasentladungsanzeigen oder in Vakuum anzeigen mit einer oder mehreren thermischen Elektronen quellen vakuumdicht eingelötet werden.The plate produced by this process can be used as Control unit in gas discharge displays or in vacuum displays with one or more thermal electrons sources are soldered vacuum-tight.

Claims

Structure of an electron control device (electrode plate), which is installed between the two chambers of a gas discharge indicator or a vacuum indicator with one or more thermal cathodes and consists of sheets of straight, parallel, solid conductors, characterized in that the conductors are made of etched metal sheets an adapted to the screen thermal expansion coefficients and the desired thickness, to which both sides a photo technique for the subsequent galvanoplastic construction of conductor strips is applied, on which a well-adhering metal layer ( M ) is galvanically deposited, with the carrier material being separated Layer is selectively etchable that the trenches are then etched into the carrier material and finally the application of strips of insulating material ( G ) to one of the electrode levels is carried out, that the connection is then made by soldering (glass solder) the two electrodes planes ( Z , S ) takes place, and then the selective etching of the carrier material for the galvanic structure is carried out until separate conductor tracks are formed and protruding carrier material is removed.