DE2820301B2 - Anordnung zur Innenbeschichtung von Rohren - Google Patents
Anordnung zur Innenbeschichtung von RohrenInfo
- Publication number
- DE2820301B2 DE2820301B2 DE19782820301 DE2820301A DE2820301B2 DE 2820301 B2 DE2820301 B2 DE 2820301B2 DE 19782820301 DE19782820301 DE 19782820301 DE 2820301 A DE2820301 A DE 2820301A DE 2820301 B2 DE2820301 B2 DE 2820301B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- arrangement
- pipe
- sputtering target
- pipes
- coated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/046—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
35
Die Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung zur Innenbeschichtung von Rohren mit Schichtmaterial aus
Metall bzw. dessen Legierungen im Vakuum mittels Kathodenzerstäubung, bei der das Sputtertarget als
stabförmige Elektrode dient und in der Längsachse des zu beschichtenden Rohres angeordnet ist.
Solche Anordnungen sind bereits bekannt (DE-PS 76 529).
Bekannt ist auch bereits ein Verfahren zur Innenbeschichtung von Rohren — besonders Metallrohren —,
bei dem eine schlauchförmige Folie aus korrosions- und hitzebeständigem Kunststoff mit einem ganz oder
nahezu dem Innendurchmesser des Rohres entsprechenden Außendurchmesser in das Rohr axial eingeführt
und dann zur Haftung an der Rohrinnenwand gebracht wird, wobei Innenwand und/oder Folie einer
zur Haftung dienenden Vorbehandlung unterworfen sind (DE-OS 26 02 108). Mittels einströmendem Druck
eines flüssigen oder gasförmigen Mediums — nach einseitigem Abschluß des Rohres — wird dort die Folie
lückenlos an die Rohrinrenwand zur Haftung gebracht.
Es ist auch bereits ein Verfahren zum Aufbringen von Schichten mit im wesentlichen gleichförmiger Dicke auf
Substrate mittels Hochfrequenzkathodenzerstäubung bekannt, bei dem während des Aufstäubvorganges ein
Magnetfeld geeigneter Stärke mit einem Feldlinienverlauf senkrecht zur Targetoberfläche verwendet wird
und der Druck des in der Zerstäuberkammer befindlichen inerten Gases bei konstanter Entladungsenergie so
eingestellt wird, daß eine negative Vorspannung auf der Oberfläche des Substrates aufrechterhalten wird
(DE-AS 19 33 467). Die bekannte Anordnung, welche eine Hochfrequenz-Kathodenzerstäubung unter Zuhilfenahme
eines Magnetfeldes beinhaltet, ist zur Schichtabscheidung auf Substraten mit ebenen Flächen oder
ebenen Flächen mit unregelmäßiger Oberfläche geaignet
Dabei sind die Substrate, typischerweise Scheiben aus Halbleitermaterial, welche beschichtet werden
sollen, auf der Anode der Entladungsstrecke angebracht Direkt gegenüber der Anode befindet sich, in
einem gewissen Abstand, die Kathode mit dem Target aus dem Beschichtungsmaterial. Das verwendete
Magnetfeld dient dazu, die Beschichtung so zu beeinflussen, daß Unregelmäßigkeiten in der Substratoberfläche
die gleiche oder eine ähnliche Schichtdicke erhalten wie die ebenen Oberflächenbereiche.
Auch ein Ringentlgdungsverfahren mit einem nichtmetallischen
Vakuumrezipient ist bereits bekannt (DE-OS2415111).
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Anordnung der eingangs genannten Art so zu
verbessern, daß sich die Innenflächen von Rohren bis zu einem Durchmesser von etwa 50 mm und mehr mit
einer metallenen oder isolierenden Beschichtung hoher Gleichmäßigkeit versehen lassen. Diese Aufgabe wird
durch die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 beschriebenen Mittel gelöst.
Dadurch ist es vorteilhafterweise möglich, Rohrinnenwände auch bei geringen Rohrdurchmessern homogen
zu beschichten und hierbei Schichtmaterialien fast jeder beliebigen Zusammensetzung zu verwenden und
hohe Beschichtungsgeschwindigkeiten zu erreichen.
Im folgenden sind Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnungen näher erläutert. In der
Zeichnung zeigt
F i g. 1 eine perspektivische Ansicht der Elektrode in der Art einer Explosionsdarstellung;
F i g. 2 einen Querschnitt der F i g. 1;
F i g. 3 eine Seitenansicht der Ausführungsbeispiele gemäß F i g. 1;
F i g. 4 einen Querschnitt durch ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Elektrode.
Die innenfläche eines Rohres 11 wird gemäß der beschriebenen Anordnung mittels Kathodenzerstäubung
unter zusätzlicher Anwendung eines Magnetfeldes in der Oberflächennähe eines Targets 12 beschichtet,
indem das sogenannte Sputter-Target 12 als zylinderförmige Elektrode ausgebildet und unter Anordnung
einer Kühlung — beispielsweise Wasserkühlung — in der Längsachse 16 des zu beschichtenden Rohres 11
angeordnet wird.
Das zylinderförmige Target 12 ist gemäß dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 dergestalt hohlzylindrisch
ausgebildet, daß innerhalb des Targets 12 zwischen zwei Ankerscheiben 13 ein längsmagnetisierter Stabmagnet
14 in Zentrierungen 20 lagert. Diese Ankerscheiben 13 sind mit Bohrungen 15 für die Wasserkühlung
versehen.
Das zu beschichtende Rohr 11 wird nach Einführung der Targetanordnung evakuiert, so daß die Beschichtung
durch einen Zerstäubungsprozeß erfolgen kann. Um nun eine gleichmäßige Abtragung des Targets 12 zu
erhalten, wird zwischen Target und Magnetanordnung eine Relativbewegung durchgeführt.
Die Fig.2 zeigt die polmäßige Anordnung der längsrr.agnetisierten Stabmagnete zwischen den Ankerscheiben,
wenn von letzteren mehr als zwei Verwendung finden.
Die F i g. 3 zeigt ein weiteres Ausführungsheisniel
einer Elektrode nach der beschriebenen Anordnung. Hier sind in einem hohlzylindrischen Target 12 radial
magneiisierte Zylinder 17 gelagert, die auf einem Kupferrohr 19 lagern. Zwischen den einzelnen in der
Magnetflußrichtui.« wechselnden magnetisierten Zylindern
17 sind Eisenverbindungsstrecken 18 angeordnet, die sowohl den Abstand der Magnetzylinder 17, als auch
die Deckung der Kühlmittelbohrungen 15 zwischen Kupferrohr 19 und Eisenverbindungsstrecke 18 fixieren.
Durch die vorbeschriebenen Ausführungsformen wird es erstmals möglich, normale Glimmentladungen
zur Kathodenzerstäubung in engen Rohren zu verwende·!. Dadurch ist es aber auch möglich geworden,
ferromagnetische Rohre innen zu beschichten, was bei den bisherigen Ausführungen nach dem Stand der
Technik, bei denen die Magnete außerhalb der Rohre angeordnet werden mußten, nicht durchführbar war.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Anordnung zur Innenbeschichtung von Rohren mit Schichtmaterial aus Metall bzw. dessen Legierungen
im Vakuum mittels Kathodenzerstäubung, bei der das Sputtertarget als stabförmige Elektrode
dient und in der Längsachse des zu beschichtenden Rohres angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet,
daß das Sputtertarget (12) hohlzylindrisch ausgebildet ist und von einer Magnetanordnung
getragen wird, die entweder Ankerscheiben (13) aufweist, von denen jeweils zwei mit einem
längsmagnetisierten Stabmagnet (14) formschlüssig verbunden sind, oder mit radialmagnetisierten
Zylindern (17) versehen ist, welche entlang der Längsachse (16) des zu beschichtenden Rohres (U)
angeordnet sind, und daß die Magnetanordnung mit Kühlbohrungen (15) für eine Wasserkühlung versehen
ist
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen dem Sputtertarget (12) und der Magnetanordnung eine Relativbewegung erfolgt.
3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die radial magnetisierten
Zylinder (17) zwischen Eisenverbindungsstrecken (18) und einem axialen Stab (19) beispielsweise aus
Kupfer angeordnet sind.
4. Anordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die radial magnetisierten Zylinder (17)
mit wechselseitig gerichteter Magnetstromrichtung nebeneinander durch die Eisenverbindungsstrecken
(18) im Abstand fixiert gelagert sind.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19782820301 DE2820301B2 (de) | 1978-05-10 | 1978-05-10 | Anordnung zur Innenbeschichtung von Rohren |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19782820301 DE2820301B2 (de) | 1978-05-10 | 1978-05-10 | Anordnung zur Innenbeschichtung von Rohren |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2820301A1 DE2820301A1 (de) | 1979-11-15 |
| DE2820301B2 true DE2820301B2 (de) | 1980-11-06 |
Family
ID=6038976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19782820301 Withdrawn DE2820301B2 (de) | 1978-05-10 | 1978-05-10 | Anordnung zur Innenbeschichtung von Rohren |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE2820301B2 (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2546023A1 (fr) * | 1983-05-10 | 1984-11-16 | Balzers Hochvakuum | Dispositif et procede pour traiter la paroi interieure d'un tube au moyen d'un effluve electrique |
| DE19652634C2 (de) * | 1996-09-13 | 2002-12-19 | Euromat Ges Fuer Werkstofftech | Verfahren zum Innenbeschichten eines metallischer Bauteils, insbesondere eines Bauteils mit einem zylindrischen Hohlraum, eine Vorrichtung zu dessen Durchführung sowie die Verwendung des Verfahrens |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4356073A (en) * | 1981-02-12 | 1982-10-26 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
| DE3306738A1 (de) * | 1983-02-25 | 1984-08-30 | Berna AG Olten, Olten | Vorrichtung und verfahren zur beschichtung von substraten mittels glimmentladung, sowie deren anwendung |
| DE3781551T2 (de) * | 1987-06-29 | 1993-04-08 | Hauzer Holding | Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von aushoehlungen von gegenstaenden. |
| DE19726443C2 (de) * | 1997-06-23 | 2003-11-20 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Oberflächenvergütung innerer Oberflächen von Hohlkörpern und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| DE10217277B4 (de) * | 2002-04-18 | 2005-05-19 | Deutsches Elektronen-Synchrotron Desy | Verfahren zur metallischen Innenbeschichtung von Hohlkörpern, insbesondere von Strahlrohrelementen |
| US9765726B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-09-19 | Federal-Mogul | Cylinder liners with adhesive metallic layers and methods of forming the cylinder liners |
-
1978
- 1978-05-10 DE DE19782820301 patent/DE2820301B2/de not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2546023A1 (fr) * | 1983-05-10 | 1984-11-16 | Balzers Hochvakuum | Dispositif et procede pour traiter la paroi interieure d'un tube au moyen d'un effluve electrique |
| DE19652634C2 (de) * | 1996-09-13 | 2002-12-19 | Euromat Ges Fuer Werkstofftech | Verfahren zum Innenbeschichten eines metallischer Bauteils, insbesondere eines Bauteils mit einem zylindrischen Hohlraum, eine Vorrichtung zu dessen Durchführung sowie die Verwendung des Verfahrens |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2820301A1 (de) | 1979-11-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2729286C2 (de) | ||
| DE2902848C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von dünnen optischen Mehrfachschichten | |
| DE4117518C2 (de) | Vorrichtung zum Sputtern mit bewegtem, insbesondere rotierendem Target | |
| DE3004546C2 (de) | Penning-Zerstäubungsquelle | |
| DE4418906B4 (de) | Verfahren zum Beschichten eines Substrates und Beschichtungsanlage zu seiner Durchführung | |
| DE4126236C2 (de) | Rotierende Magnetron-Kathode und Verwendung einer rotierenden Magnetron-Kathode | |
| DE3852430T2 (de) | Magnetron-Zerstäubungsgerät und Verfahren zur Anwendung desselben zur Schichtenherstellung. | |
| EP1476891B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zum beschichten eines substrates mit magnetischen oder magnetisierbaren werkstoffen | |
| DE3413164A1 (de) | Verfahren zur verhinderung des fressens von zusammenwirkenden, verschraubten elementen | |
| CH622828A5 (de) | ||
| EP0334204A2 (de) | Verfahren und Anlage zur Beschichtung von Werkstücken | |
| DE3844064A1 (de) | Katodenzerstaeubungsvorrichtung nach dem magnetron-prinzip mit einer hohlkatode und einem zylindrischen target | |
| DE2820301B2 (de) | Anordnung zur Innenbeschichtung von Rohren | |
| DE69416963T2 (de) | Vorrichtung zur Bogenbeschichtung im Vakuum | |
| DE2433382C2 (de) | Vorrichtung zur Aufdampfung von dünnen Schichten unter Vakuum | |
| DE1515301A1 (de) | Verfahren zur Aufbringung hochwertiger duenner Schichten mittels Kathodenzerstaeubung und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens | |
| EP0966021A2 (de) | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten in einer Vakuumkammer | |
| DE19924094C2 (de) | Vakuumbogenverdampfer und Verfahren zu seinem Betrieb | |
| EP1722005A1 (de) | Verfahren zum Betreiben einer Sputterkathode mit einem Target | |
| DE4239511A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten | |
| EP0647961A1 (de) | Vorrichtung zum Beschichten von langgestreckten biegsamen Erzeugnissen | |
| DE69624896T2 (de) | Dichtung und Kammer mit einer Dichtung | |
| EP2050837B1 (de) | Verfahren zur ionenplasmaapplikation von filmbeschichtungen und vorrichtung zur durchführung des verfahrens | |
| EP1397525B1 (de) | Einrichtung zur plasmaaktivierten bedampfung grosser flächen | |
| DE3425344A1 (de) | Magnetron-sputter-beschichtungsquelle fuer magnetische und nichtmagnetische target-materialien |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OAP | Request for examination filed | ||
| OD | Request for examination | ||
| 8263 | Opposition against grant of a patent | ||
| 8239 | Disposal/non-payment of the annual fee |