DE2424002C3 - Flame retardant multilayer printed circuit board and process for their manufacture - Google Patents
Flame retardant multilayer printed circuit board and process for their manufactureInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine stellung einer schwerentflammbaren Mehrschicht-Lei-The present invention relates to a position of a flame-retardant multilayer line
chwerentflammbare Mehrschicht-Leiterplatte und terplatte angegeben werden.Flame-retardant multilayer printed circuit board and sub-board are specified.
:in Verfahren zu deren Herstellung. Die Aufgabe wird, ausgehend von einer schwerent-: in process of their manufacture. The task is, starting from a difficult
flammbaren Mehischicht-Leiterplatte mit zwei Außenschichtmetall-Schaltungen, mindestens einer Innenschichtmetall-Schaltung, die zwischen den Außenschicht-Schaltungen liegt, und mit Isolierschichten aus einem zumindest teilweise gehärteten wannhärtbaren bromierten Epoxidharz, wobei die Schaltungen mittels der jeweiligen Isolierschichten aneinanderhaften, erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß mindestens der Oberflächenteil der Isolierschicht, der mit der Oberfläche der glänzenden Seite der Schaltung in Berührung ist, einen Bromgehalt von weniger als 10 Gewichtsprozent aufweist, und daß der andere Teil der Isolierschicht einen derartigen Bromgehalt besitzt, daß der gesamte Bromgehalt des Harzes insgesamt mehr als etwa 15 Gewichtsprozent beträgtflammable multilayer printed circuit board with two Outer layer metal circuits, at least one Inner layer metal circuit between the Outer layer circuits lies, and with insulating layers made of an at least partially hardened when-hardenable brominated epoxy resin, whereby the circuits adhere to one another by means of the respective insulating layers, according to the invention achieved in that at least the surface part of the insulating layer, the is in contact with the surface of the shiny side of the circuit, a bromine content of less than 10% by weight, and that the other part of the insulating layer has such a bromine content possesses that the total bromine content of the resin is greater than about 15 weight percent overall
Die Erfindung sieht also zusammenfassend eine schwerentflammbare Mehrschicht-L^iterplatte mit zwei Außenschicht Schaltungen, mindestens einer Innenschicht-Schaltung und Isolierschichten aus einem ausgehärteten wärmehärtbaren Epoxidharz zur Verbindung benachbarter Schaltungen vor, wobei mindestens der Oberflächenteil der Isolierschichten, der mit der Oberfläche der glänzenden Seite der Schaltung verbunden ist, einen Bromgehalt von weniger als ungefähr 10 Gewichtsprozent und der andere Teil der Isolierschichten einen solchen Bromanteil aufweist, daß der gesamte Bromanteil des Harzes insgesamt größer als ungefähr 15 Gewichtsprozent ist, bezogen auf das Harz. Die Leiterplatte hat eine ausgezeichnete Hochtemperatur-Haftfestigkeit und gute Lötmittelbeständigkeit.In summary, the invention also provides a flame-retardant multilayer conductor plate two outer layer circuits, at least one inner layer circuit and insulating layers a cured thermosetting epoxy resin for connecting adjacent circuits, wherein at least that part of the surface of the insulating layers that corresponds to the surface of the shiny side of the Circuit connected, a bromine content of less than about 10 weight percent and the other part of the insulating layers has such a bromine content that the entire bromine content of the resin is greater than about 15 weight percent total based on the resin. The circuit board has excellent high temperature adhesive strength and good solder resistance.
Nachfolgend wird die Erfindung an Hand der Zeichnung näher erläutert.The invention is explained in more detail below with reference to the drawing.
Es zeigtIt shows
Fig. 1 einen Schnitt durch ein mit Kupfer überzogenes Laminat,Fig. 1 is a section through a coated with copper Laminate,
F i g. 2 eine Kurve zur Erläuterung der Beziehung zwischen dem Bromgehalt des Harzanteiles in der Oberflächenschicht eines Laminats und der Hochtemperatur-Haftfestigkeit des Laminats gegenüber der Kupferfolie,F i g. FIG. 2 is a graph showing the relationship between the bromine content of the resin content in FIG Surface layer of a laminate and the high temperature adhesive strength of the laminate versus the copper foil,
F i g. 3 eine Kurve zur Erläuterung der Beziehung zwischen dem Bromgehalt des gesamten Laminats und der Widerstandsfähigkeit gegen Entflammung undF i g. 3 is a graph showing the relationship between the bromine content of the entire laminate and the resistance to fire and
F i g. 4 A bis 4 H ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung einer schwerentflammbaren Mehrschioht-Leiterplatte.F i g. 4 A to 4 H an embodiment of the inventive method for producing a flame-retardant multi-layer circuit board.
Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß die Hochtemperaturhaftung einer Schaltungs—Metallfolie
und die thermische Beständigkeit gegenüber dem Lötmittel der Isolierschichten befriedigend werden, wenn
der Halogengehalt des Harzanteili· in der Oberflächenschicht,
die mit der Metallfolie verbunden wird, weniger als 10 Gewichtsprozent beträgt. Unter
praktischen Gesichtspunkten und für eine schwere Entflammbarkeit des Schichtwerkstoffes sollte die
Dicke der Schicht mit einem so niedrigen Bromgehalt etwa 30 μπι nicht überschreiten. Die Haftfestigkeit
nimmt, auch wenn die Dicke der Schicht mit dem niedrigen Bromgehalt 30 μπι überschreitet, nicht zu.
Andererseits ist eine Dicke der Schicht mit niedrigem Bromgehalt von wenigstens ΙΟμίη erforderlich, um
eine ausreichende Haftfestigkeit für die Kupferfolie zu erzielen. Das Laminat kann nicht nur durch Brom,
sondern auch durch Chlor schwerentflammbar gemacht werden, wobei jedoch Brom wirksamer als
Chlor ist. Es ist bei der Erfindung wesentlich, eine Bromverbindung zuzusetzen, wobei jedoch auch eins
Chlorverbindung zusammen mit der Bromverbindung vorgesehen werden kann.
Das bei der vorliegenden Erfindung verwendeteThe invention is based on the knowledge that the high-temperature adhesion of a circuit metal foil and the thermal resistance to solder of the insulating layers become satisfactory when the halogen content of the resin component in the surface layer which is bonded to the metal foil is less than 10% by weight. From a practical point of view and for a difficult inflammability of the layer material, the thickness of the layer with such a low bromine content should not exceed about 30 μm. The adhesive strength does not increase, even if the thickness of the layer with the low bromine content exceeds 30 μm. On the other hand, a thickness of the layer with a low bromine content of at least ΙΟμίη is required in order to achieve sufficient adhesive strength for the copper foil. The laminate can be made flame retardant not only with bromine, but also with chlorine, although bromine is more effective than chlorine. It is essential in the invention to add a bromine compound, but a chlorine compound can also be provided along with the bromine compound.
That used in the present invention
Epoxidharz ist im allgemeinen beispielsweise ein Bisphenol-A-Epoxidharz, ein Resorcin-Epoxidharz, ein Tetrahydroxyphenyläthan-Epoxidharz, ein Novolack-Epoxidharz, ein Polyalkohol-Epoxidharz, ein Polyglycol-Epoxidharz, ein Glycerin-Triäther-Epoxidharz, ein Polyolefm-Epoxidharz, ein alicyclisches Epoxidharz od. dgl.Epoxy resin is generally, for example, a bisphenol-A epoxy resin, a resorcinol epoxy resin, a tetrahydroxyphenylethane epoxy resin, a novolac epoxy resin, a polyalcohol epoxy resin, a polyglycol epoxy resin, a glycerine triether epoxy resin, a polyolefin epoxy resin, an alicyclic epoxy resin or the like.
Als Härter für diese Epoxidharze können alle bisher verwendeten Härter vorgesehen werden, beispielsweise Aminhärter, Säureanhydridhärter od. dgl.All previously used hardeners can be provided as hardeners for these epoxy resins, for example Amine hardener, acid anhydride hardener or the like.
Als Halogenquelle zur Erzeugung einer schweren Entflammbarkeit für die obenerwähnten Epoxidharze können beispielsweise bromhaltige Bisphenol-AEpoxidharze, bromhaltige Novolack-Epoxidharze usw. vorgesehen werden; es ist jedoch auch möglich, diese Stoffe gegebenenfalls mit anderen Materialien zu mischen, beispielsweise mit Füllstoffen, Phosphorverbindungen usw. Weiterhin können auch als halogenhaltige Härter 4,4'-Methylenbis-(2-chloraniIin), 4,4'-Methylenbis-(2,3-dichloranilin), 4,4'-Methylenbis-(2,3-dichloramlin), 4,4'-Methylenbis-(2,5-dichloranilin), Het. Säureanhydrid, Tetrabromphthalsäureanhydrid, Tetrachlorphthalsäureanhydrid usw. verwendet werden.As a halogen source for making the above-mentioned epoxy resins difficult to ignite For example, bromine-containing bisphenol A epoxy resins, bromine-containing novolac epoxy resins etc. are provided; however, it is also possible to combine these substances with other materials if necessary to mix, for example with fillers, phosphorus compounds, etc. Furthermore, as halogen-containing Hardener 4,4'-methylenebis (2-chloroaniline), 4,4'-methylenebis (2,3-dichloroaniline), 4,4'-methylenebis (2,3-dichloramline), 4,4'-methylenebis (2,5-dichloroaniline), Het. Acid anhydride, tetrabromophthalic anhydride, Tetrachlorophthalic anhydride, etc. can be used.
Um eine Schicht mit niedrigem Bromgehalt auf der Oberflächenschicht herzustellen, die mit einer Metallfolie des Schichtwerkstoffes verbunden ist, wird zunächst ein Vorimprägnat hergestellt, indem ein Harz mit einem hohen Bromgehalt verwendet wird, worauf auf dem Vorimprägnat eine Schicht aus einem Harz mit einem niedrigen Bromgehalt durch eine Beschichtungs- Sprüh- oder Tauchverfahren erzeugt wird.To make a low bromine layer on the surface layer covered with a metal foil of the layer material is connected, a prepreg is first made by adding a resin with a high bromine content is used, followed by a layer of a resin on the prepreg with a low bromine content is produced by a coating, spraying or dipping process.
Der Schichtwerkstoff kann auch durch Laminieren eines Vorimprägnats mit hohem Bromgehalt und eines Vorimprägnats mit niedrigem Bromgehalt hergestellt werden.The laminate can also be obtained by laminating a prepreg with a high bromine content and a low bromine prepreg.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer schwerentflammbaren Mehrschicht-Leiterplatte ist dadurch gekennzeichnet, daß beidseitig mit einem Kupferüberzug kaschierte Schichtwerkstoffe hergestellt werden, daß eine Innenschicht-Schaltung auf der einen Seite des jeweiligen Schichtwerkstoffes gebildet wird, daß mehrere Schichten aus mindestens einem schwerentflammbaren Vorimprägnat aus einem wärmehärtbaren Epoxidharz aufgebracht werden, wobei mindestens ein Oberflächenteil des Vorimprägnats einen Bromgehalt von weniger als etwa 10 Gewichtsprozent und der andere Teil des Vorimprägnats einen solchen Bromgehalt aufweist, daß der gesamte Bromgehalt des Harzes insgesamt größer als ungefähr 15 Gewichtsprozent, bezogen auf das Harz, ist, so daß die Schicht mit dem geringen Bromgehalt des Vorimprägnats mit der Innenschichtschaltungs-Oberfläche in Berührung sein kann, daß die gesamte Anordnung zur Haftung der Schichten gepreßt wird und daß schließlich die sich ergebende Mehrschicht-Leiterplatte gebohrt, nichtglavanisch kupferplattiert, elektrisch kupferplattiert und dem Fotodruck, einer Goldplattierung und einer Entfernung der Schutzschicht- und Ätzrückstände nach an sich bereits entwickelten Verfahren unterworfen wird.The method according to the invention for producing a flame-retardant multilayer printed circuit board is characterized in that laminated materials laminated with a copper coating on both sides are produced that an inner layer circuit is formed on one side of the respective layer material is that several layers of at least one flame-retardant prepreg from one thermosetting epoxy resin are applied, wherein at least a surface part of the prepreg less than about 10 weight percent bromine and the other portion of the prepreg has a bromine content such that the total bromine content of the resin as a whole is greater than about 15 percent by weight, based on the resin, so that the layer with the low bromine content of the Pre-impregnation with the inner layer circuit surface may be in contact that the entire assembly is pressed to adhere the layers and that finally the resulting multilayer printed circuit board is drilled, non-Glavanese copper-clad, electrical copper-plated and the photo printing, a gold plating and a removal of the protective layer and etching residues is subjected to processes that have already been developed.
Im folgenden werden Vergleichsbeispiele für die Herstellung eines auf einer Seite mit Kupfer kaschierten Schichtwerkstoffes beschrieben. Bei allenThe following are comparative examples for the production of a copper-clad on one side Coating material described. At all
Vergleichsbeispielen werden alle Teile und Prozente in der gleichen Weise wie beim Vergleichsbeispiel 1 gewichtsbezogen. verarbeitet werden.Comparative Examples are all parts and percentages in the same manner as in Comparative Example 1 weight related. are processed.
Ein Lack D mit einem Bromgehalt von 4Vo, be-Vergleichsbeispiel 1 zogen auf den Feststoffgehalt des Lackes, wird ausA varnish D with a bromine content of 4Vo, be-comparative example 1 based on the solids content of the varnish, is made
50 Teile Bisphenol-A-Epoxidharz (Epoxiäquivalent 5 80 Teilen Bisphenol-A-Epoxidharz und 20 Teilen 450 bis 550, Schmelzpunkt 65 bis 75° C), 50 Teile Tetrabrombisphenol-A-Epoxidharz hergestellt. Tetrabrombisphenol-A-Epoxidharz (Epoxyäquivalent Auf die Oberfläche des mit dem Lack C (Vor-50 parts of bisphenol A epoxy resin (epoxy equivalent of 5, 80 parts of bisphenol A epoxy resin and 20 parts 450 to 550, melting point 65 to 75 ° C), 50 parts of tetrabromobisphenol-A epoxy resin. Tetrabromobisphenol-A-epoxy resin (epoxy equivalent on the surface of the lacquer C (pre-
330 bis 380) und 0,5 Teile Benzyldimethylamin als imprägnat C) imprägnierten ebenen Glasgewebes wird Härtungsbeschleuniger werden in 80 Teilen Methyl- der Lack D aufgebracht, so daß der zu beschichtende äthylketon gelöst. Die sich ergebende Lösung wird io Film eine Dicke von 10 μΐη haben kann, was auf die mit 4 Teilen Dicyandiamid als Härter gemischt, das gleiche Weise wie beim Vergleichsbeispiel 1 geschieht, in 20 Teilen Methylcellosolve gelöst ist, wodurch ein Auf diese Weise wird ein B-Stufen-Epoxidvorimprag-Lack mit einer Konzentration von ungefähr 50 Vo er- nat (Vorimprägnat B) mit einem Harzgehalt von 60 °/o halten wird. Dieser Lack wird im folgenden als und einem Bromgehalt von 16%, bezogen auf den ge- »Lack/4« bezeichnet Sein Bromgehalt beträgt 23Vo 15 samten Harzgehalt, erhalten. Wie beim Vergleichsin bezug auf den Feststoffgehalt des Lackes. beispiel 1 werden das Epoxidvorimprägnat und eine330 to 380) and 0.5 part of benzyldimethylamine as impregnate C) impregnated flat glass fabric, curing accelerators are applied in 80 parts of methyl lacquer D so that the ethyl ketone to be coated is dissolved. The resulting solution will have a thickness of 10 μm, which is mixed with 4 parts of dicyandiamide as hardener, in the same way as in Comparative Example 1, is dissolved in 20 parts of methyl cellosolve, thereby creating a B. -Step-epoxy pre-impregnation paint with a concentration of approximately 50% (pre-impregnation B) with a resin content of 60%. This varnish is referred to below as having a bromine content of 16%, based on the total “varnish / 4”. Its bromine content is 23% of the total resin content. As in the comparison with regard to the solids content of the paint. Example 1 are the epoxy prepreg and a
Dann werden 100 Teile eines Bisphenol-A-Epoxid- Kupferfolie unter Wärmeeinwirkung gepreßt, um harzes (Epoxyäquivalent 450 bis 550, Schmelzpunkt einen einseitig kupferkaschierten Epoxid-Schichtwerk-65 bis 75° C) und 0,5 Teile Benzyldimethylamin als stoff mit einer Dicke von 0,6 mm zu erhalten, wie Härtungsbeschleuniger in 80 Teilen Methyläthylketon ao dieser in der F i g. 1 gezeigt ist. gelöst. Die sich ergebende Lösung wird mit 4 Teilen v ... , . . . .Then 100 parts of a bisphenol-A-epoxy copper foil are pressed under the action of heat to resin (epoxy equivalent 450 to 550, melting point a one-sided copper-clad epoxy layer-65 to 75 ° C) and 0.5 part of benzyldimethylamine as a substance with a thickness of 0.6 mm to be obtained, such as curing accelerator in 80 parts of methyl ethyl ketone ao this in FIG. 1 is shown. solved. The resulting solution is mixed with 4 parts v .... . . .
einer Konzentration von 50Vo erhalten wird. Dieser gleichsbeispiel 1), 50 Teile Tetrabromisphenol-A-Lack wird im folgenden als »Lack B« bezeichnet. as Epoxidharz (wie beim Vergleichsbeispiel 1), 16,5 Teilea concentration of 50Vo is obtained. This same example 1), 50 parts of tetrabromisphenol A lacquer, is referred to below as "lacquer B". as epoxy resin (as in Comparative Example 1), 16.5 parts
Ein ebenes Glasgewebe mit einer Dicke von unge- 4,4'-Methylbis-(2-chloranilin) als halogenhaltiger fähr 100 μΐη und aus 60/25-mm-Kettfäden und Härter und 1,0 Teile Bortrifluoridmonomethylaniin 58/25-mm-Schuß wird mit dem obenerwähnten als Härtungosbeschleuniger werden in Methyläthyl-Lack A imprägniert und dann bei 130° ClO min zum keton gelöst und Lackkonzentration auf 50Vo eingehalb ausgehärteten Zustand (B-Stufe) getrocknet. Das 30 stellt, wodurch ein Lack E erhalten wird. Der Bromerhaltene Vorimprägnat wird im folgenden als »Vor- und Chlorgehalt des Lackes beträgt 21 Ve bzw. 3,70Zo, prägna: A « bezeichnet Der Lack B wird dann auf die bezogen auf den Feststoffgehalt. Oberfläche des mit einer Kupferfolie zu verbindenden 100 Teile Bisphenol-A-Epoxidharz (wie beim Verimprägnierten Gewebes aufgebracht so daß die gleichsbeispiel 1) und 16,5 Teile 4,4'-Methylenbis-Dicke der oberen Schicht im trockenen Zustand bei- 35 (2-cb.loramlin) als Härter werden in Methyläthylketon spielsweise lOjim beträgt und anschließend bei gelöst um einen Lack F mit einer Lackkonzentration 130° C 10 min getrocknet um die Schicht des von 30Ve herzustellen. Der Chlorgehalt des Lackes Lacks B in die B-Stufe überzuführen. Das erhaltene beträgt 3,7Ve, bezogen auf den Feststoffgehalt. Vorimprägnat wird im folgenden als »Vorimprä- Auf die gleiche Weise wie beim Vergleichsbei-A flat glass fabric with a thickness of unge-4,4'-methylbis (2-chloroaniline) as a halogen-containing approximately 100 μm and made of 60/25 mm warp threads and hardener and 1.0 part boron trifluoride monomethylaniin 58/25 mm weft is impregnated with the above-mentioned hardening accelerator in methylethyl lacquer A and then dissolved at 130 ° ClO min to form the ketone and the lacquer concentration is dried to a half-cured state (B stage). This represents 30, whereby a varnish E is obtained. The pre-impregnated material obtained from bromine is referred to below as “the pre-impregnation and chlorine content of the lacquer is 21 Ve and 3.7 0 Zo, precise: A ”. The lacquer B is then referred to based on the solids content. Surface of the 100 parts bisphenol-A-epoxy resin to be connected with a copper foil (applied as in the case of the impregnated fabric so that the same example 1) and 16.5 parts 4,4'-methylenebis thickness of the top layer in the dry state at 35 (2 -cb.loramlin) as a hardener are in methyl ethyl ketone, for example, lOjim and then dissolved to dry a varnish F with a varnish concentration of 130 ° C for 10 minutes to produce the layer of 30Ve. Transfer the chlorine content of the varnish varnish B to the B stage. The amount obtained is 3.7Ve, based on the solids content. Pre-impregnation is referred to in the following as »pre-impregnation- In the same way as with the comparative example
gnat B« bezeichnet Der Harzgehalt des Vorimprä- 40 spiel 1 wird ein ebenes Glasgewebe mit dem Lack E gnats beträgt 55 V· und der Bromgehalt bezogen auf (Vorimprägnat E) imprägniert, und der Lack F wird den gesamten Harzgehalt 19Ve. auf das imprägnierte Gewebe geschichtet um eingnat B «denotes the resin content of prepreg 1, a flat glass fabric is impregnated with varnish E gnats is 55 V · and the bromine content based on (prepreg E), and varnish F has the total resin content 19Ve. layered on the impregnated fabric around a
Die glänzende Oberfläche einer 105 μπι dicken B-Stufen-Epoxidvorimprägnat (Vorimprägnat F) mit Kupferfolie wird mit einer Atzlösung aufgerauht die einem Harzgehalt von 60 Ve und einem Halogengehalt durch Lösen von 40 g Kupferchlorid und 500 ml 45 von etwa 21V·, bezogen auf den gesamten Harzge-Salzsäure in Wasser auf 11 erhalten wird; die Kupfer- halt herzustellen. Das Vorimprägnat F und eine folie wird dann in eine 1 Votige wäßrige Lösung eines Kupferfolie weiden unter Wärmeeinwirkung auf die Aminosilan-Bindemitteis (Wz A 1100 der US-Firma gleiche Weise gepreßt wie beim Vergleichsbeispiel 1. Uaion Carbide Caqy$ getaucht und daoe 30 ram bei Auf diese Weise e era otä kupferkascfaier-100° C getrocknet BneSduchl des VoränpTä^nats B 50 ter Epoxid-Sdricfatwerkstoff ffiä einer Dicke von BDd 1BJeT Sejacfatea des VtHütipi-iignrtl* A waden auf 0,6 mm, wie dieser in der Fig. 1 dargestellt ist die so behandefte Sjopfeifofie gebracht und die ge- Der emseä% famfee Epoxid-Schichtwerk-The glossy surface of a 105 μm thick B-stage epoxy prepreg (prepreg F) with copper foil is roughened with an etching solution which has a resin content of 60 Ve and a halogen content by dissolving 40 g of copper chloride and 500 ml 45 of about 21V, based on the total Harzge hydrochloric acid in water to 11 is obtained; to produce the copper stop. The prepreg F and a foil are then dipped into a 1 Votige aqueous solution of a copper foil with the action of heat on the aminosilane binder (Wz A 1100 from the US company in the same way as in Comparative Example 1. Uaion Carbide Caqy $ and then 30 ram In this way it was dried copper casings-100 ° C BneSduchl des VoränpTä ^ nats B 50 ter epoxy-Sdricfatwerkstoff ffiä a thickness of BDd 1 BJeT Sejacfatea des VtHütipi-iignrtl * A waden to 0.6 mm, like this one in Fig. 1 shows the treated Sjopfeifofie and the applied epoxy layer
stoff, der nach einem der Va#äc&sfeeispiefe I bis 3fabric that is classified according to one of the Va # äc & sfeeispiefe I to 3
rarter aef ITO0C 60 mm gepreBt Auf hergestellt wmde, wird iänsichtOcii der Hochbandiese Weise eatsbeat ein einseitig kopfedcascaierter 55 peratnr-fiaBfest^eä, der LötmäteibestHndigfceit andrarter aef ITO 0 C 60 mm pressed on wmde, iänsichtOcii the high bandiese way eatsbeat a one-sided head encased 55 peratnr-fiaBfest ^ eä, the soldering machine is made and
a Dicke von 0,6 nnn, der Sdreensmamrabaifceä mit einem einseitig knpi I d Fi 1 fki f dia thickness of 0.6 nnn, the Sdreensmamrabaifceä with a one-sided knpi I d Fi 1 fki f di
i g pi g p
wie dieser räder Fig. 1 daqgesteHt ist. Ia der Fig. 1 feikasciiier!£aSchichtwerkstoS verseilen, der auf dieHow these wheels Fig. 1 is shown. Ia of Fig. 1 stranding! £ a layered material, which is applied to the
sind eine KüpfexfoBe i, eme Schiebt 2 mil einem ge- gleiche Weise wie beim igcbeispiel 1 mit einemare a KüpfexfoBe i, eme pushes 2 in the same way as in igc example 1 with one
iingen n aod eme Schicht 3 aal eisern bereits eafwicketeen Vorimprägnat beigestellt wmde, hoiKO Br.^i^jehalt vtH^sebea. 60 wobei jedoch kerne Schicht mit geringem Bromgehailiingen after aod eme layer 3 aal iron already prepared pre-impregnation was provided, hoiKO Br. ^ i ^ jehalt vtH ^ sebea. 60 but with a core layer with little bromine content
V****™******«**V **** ™ ****** «** harn Vogleicb^ei^iel 1 ansgebüdei warde. Die er- harn Vogleicb ^ ei ^ iel 1 ansgebüdei warde. Which he-
zogen adf den FeststoBgehalt des Lacfes, wirf her- drew the solids content of the lacfes, threw befle 1 znsarameffijBfalft.befle 1 znsarameffijBfalft.
gestdBt, indem 15 TeBe des beim Vergtechsbeispiel I ^ IHe Hachlemperatar-Üaffes^eit ist die Ab-died, in that 15 te
lBifalA^xkaiarzes and SS Teile sdkSLfk&ägBsit der &rafedNfe bd 260° C bei einemlBifalA ^ xkaiarzes and SS parts sdkSLfk & ägBsit der & rafedNfe bd 260 ° C at a
dte ^poxy- iO0X25^^^&^iKf i 0)dte ^ poxy- iO0X25 ^^^ & ^ iKf i 0 )
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der Mitte durch Ätzen entfernt wurde. Die Lötmittelbeständigkeit ist die Zeit, die erforderlich ist, bis sich die Kupferfolie hebt und ablöst, wenn ein 100 X 100 mm großer Prüfkörper auf der Oberfläche eines Lötmittelbades bei 260° C schwimmt, wobei die Oberfläche mit der Kupferfolie unten liegt. Die Widerstandsfähigkeit gegen Entflammung wird gemessen, indem die Kupferfolie von einem Prüfkörper mit einer Dicke von 12,7 mm und einer Länge von 135 mm durch Ätzen entfernt und der Prüfkörperthe center was removed by etching. Solder resistance is the time it takes to settle the copper foil lifts and comes off when a 100 X 100 mm test piece is on the surface a solder bath floats at 260 ° C, with the surface with the copper foil on the bottom. The resilience Against ignition is measured by removing the copper foil from a test specimen with a thickness of 12.7 mm and a length of 135 mm removed by etching and the test specimen
zweimal entsprechend (US- oder japanische Norm) UL 94 gezündet wird, wobei das Versuchsstück senkrecht gehalten und die Zeit bis zum Erlöschen der Flammen bestimmt wird. Für jeden Schichtwerkstoff wurden sechs Prüfkörper verwendet. Die Mittelwe.te der Messungen und die Meßbereiche (oberster und unterster Wert) sind in der Tabelle 1 gezeigt. (Hier ist ein Mittelwert von 5 s oder weniger und ein höchster Wert von 10 s oder weniger durch (US- oder japanische Norm) SE-O vorgeschrieben).twice according to (US or Japanese standard) UL 94 is ignited, with the test piece perpendicular and the time until the flames go out is determined. For every layer material six specimens were used. The mean of the measurements and the measuring ranges (top and lowest value) are shown in Table 1. (Here is a mean of 5 s or less and a highest Value of 10 s or less prescribed by (US or Japanese standard) SE-O).
Vergleichsbeispiel 4Comparative example 4
Um den Einfluß des Bromgehaltes im Oberflächenteil des mit einer Kupferfolie verbundenen Schichtwerkstoffes auf die Haftfestigkeit zu ermitteln, sind die folgenden Versuche durchgeführt worden. Lacke warden aus Bisphenol-A-Epoxidharz und aus Tetrabrombisphenol-A-Epoxidharz wie beim Vergleichsbeispiel 1 hergestellt, wobei die Menge des verwendeten Tetrabrombisphenol-A-Epoxidharzes verändert wurde. Die sich ergebenden Lacke wurden als Oberflächenschicht auf das Vorimprägnat A beim Vergleichsbeispiel 1 aufgebracht, um entsprechende Vorimprägnate herzustellen. Die Beziehung zwischen dem Bromgehalt des Harzanteiles in der Oberflächenschicht und der Hochtemperatur-Haftfestigkeit des Schichtwerkstoffes für eine Kupferfolie ist in der F i g. 2 gezeigt. Wenn der Bromgehalt in der Oberflächenschicht 10*/ο überschreitet, verringert sich die Hochtemperatur-Haftfestigkeit stark. Da eine Haftfestigkeit von mehr als ungefähr 50 g/cm zu einer sicheren Haftung zwischen der Kupferfolie und dem Schichtwerkstoff erforderlich ist, sollte der Bromgebalt im allgemeinen geringer als 10°/« sein.In order to determine the influence of the bromine content in the surface part of the layer material connected with a copper foil on the adhesive strength, the following tests were carried out. Paints are made from bisphenol A epoxy resin and tetrabromobisphenol A epoxy resin as in Comparative Example 1, with the amount of tetrabromobisphenol A epoxy resin used being changed. The resulting paints were applied as a surface layer to prepreg A in Comparative Example 1 to produce corresponding prepregs. The relationship between the bromine content of the resin content in the surface layer and the high-temperature adhesive strength of the layer material for a copper foil is shown in FIG. 2 shown. If the bromine content in the surface layer exceeds 10 * / ο, the high-temperature adhesive strength is greatly reduced. Since an adhesive strength of more than approximately 50 g / cm is required for reliable adhesion between the copper foil and the layer material, the bromine content should generally be less than 10%.
Weiterhin ist die Beziehung zwischen dem Bromgehalt des gesamten Schichtwerkstoffes nnd der Wkierstandsfahigkeit gegen Entflammung in der Fig. 3 gezeigt. Wie aus der Fig. 3 hervoigelit, erföHt die Flammen-Löschzeit nicht die Forderungen der Güte SE-O der UL-94-Νοπη der Widerstandsfähigkeit gegen Entflammung, wenn der Bromgeaalt geringer ab 15*/· ist.Furthermore, the relationship between the bromine content of the entire layer material and the Resistance to ignition is shown in FIG. 3. As shown in FIG. 3, learned the flame extinguishing time does not meet the demands the quality SE-O the UL-94-Νοπη the resistance against inflammation, if the Bromgeaalt is less from 15 * / ·.
Im folgenden wenden weitere Beispiele der ErSndang erläutert, in denen ebenfalls alle Teile rand Prozente gewichtsbezogen smd.In the following further examples apply the ErSndang explained in which all parts are also rand percentages weight-related smd.
Zwei beidseitig arasemerte Schichtwerkstoffe 6$ nut einer Dicke des Tragennateriak 11 von 0,6 mm nnd einer Widerstandsfähigkeit gegen Entflammung entsprechend der Gute SE-O werden hergestellt, wobei die eine Seite mit einer 35 μπι dicken Kupferfolie und die andere Seite mit einer 70 μπι dicken Kupferfolie versehen wird. Eine Innenschaltung 10' mit 300/o einer geätzten Fläche wird auf der jeweiligen Seite der 70 μΐη dicken Kupferfolie 10 der beidseitig kupferkaschierten Schichtwerkstoffe hergestellt (Fi g. 4 A und AB). Die Kupferoberflächen der oben beschriebenen beidseitig kupferkaschierten Schichtwerkstoffe werden bei 30° C 3 min mit einer Ätzlösung aufgerauht, die durch Lösen von 40 g Kupferchlorid und 500 ml 37e/oiger Salzsäure auf 1 1 hergestellt wird, dann in eine l%tige wäßrige Lösung eines Aminosilan-Bindemittels getaucht und bei 100° C 30 min getrocknet. Drei Schichten 12 des Vorimprägnats B des Vergleichsbeispiels 1 werden zwischen die Innenschicht-Schaltungs-Kupferfolien 10' dieser beidseitig kaschierten Schichtwerkstoffe gebracht, so dafi die Schicht der Vorimprägnats mit geringem Bromgehalt in Berührung mit den Innenschaltungs-Oberflächen sein kann. Die gesamte Anordnung wird zwischen zwei Metallplatten gebracht, die 3 min untei einem Druck von 3 kg/cm2 in einer auf 170° C erwärmten Presse und dann 60 min unter einem Drucl von 40 kg/cm2 gehalten werden, um die Schichtei miteinander zn verbinden. Die sich ergebende Mehr schicht-Leiterplatte wird dann gebohrt, nichtgalva nisch und galvanisch mit Kupfer plattiert, mittel: Fotodruck bedruckt, mit GoM plattiert tmd von dei Schatz- aod Ätzschichten befreit, was nach einem be lens entwickelten Verfahren durghrt wird, wii dies in den Fig. 4D bis 4H gezeigt ist; dort si» em durchgehendes Loch 13, ein mchtgalvanisch ab geschiedener KupferBwrzug 14, ein galvanisch abge schiedener Kupferüberzug 15, eine Schutzschicht Ii ein Goldüberzug 17 und ein geätzter TeO (Fenster seseheTwo layer materials arasemerte on both sides with a thickness of the carrier material 11 of 0.6 mm and a resistance to inflammation corresponding to the good SE-O are produced, one side with a 35 μm thick copper foil and the other side with a 70 μm thick Copper foil is provided. An internal circuit 10 'with 30 0 / o of an etched surface is formed on the respective side of the 70 μΐη thick copper foil 10 on both sides of the copper-clad laminated materials (Fi g. 4 A and AB). The copper surfaces of the above-described two-sided copper-clad laminate materials are at 30 ° C for 3 to g by dissolving 40 copper chloride and 500 ml of 37 e / cent hydrochloric acid then term in a l% aqueous solution of a min with an etching solution roughened to 1 1 is prepared, Aminosilane binder dipped and dried at 100 ° C for 30 min. Three layers 12 of prepreg B of Comparative Example 1 are placed between the inner layer copper foils 10 'of these double-sided laminated materials so that the layer of prepreg with a low bromine content can be in contact with the inner circuit surfaces. The entire arrangement is placed between two metal plates, which are held for 3 minutes under a pressure of 3 kg / cm 2 in a press heated to 170 ° C. and then for 60 minutes under a pressure of 40 kg / cm 2 in order to zn the layers together associate. The resulting multi-layer circuit board is then drilled, non-galvanically and electroplated with copper, medium: photo printing printed, plated with GoM and freed of the treasure or etching layers, which is carried out according to a process developed by be lens, as this is in the Figures 4D through 4H are shown; There is a through hole 13 there, a non-galvanically separated copper coating 14, an electroplated copper coating 15, a protective layer II, a gold coating 17 and an etched TeO (see window
Auf die gleiche Weise wie im Beispiel 1 wild dB Innenschicht-ScfaaltTmgs-fienoberfläche be handelt Der beim Vergleichsbeispiel 1 verwendetIn the same way as in example 1 wild dB Inner layer folding surface be is the one used in Comparative Example 1
ίοίο
Lack B wird dann auf die Innenschicht-Schaltungs-Kupferfolienoberfläche aufgebracht und 10 min bei 13O0C getrocknet, wodurch ein ß-Stufen-Beschichtuiigsfilm mit einer Dicke von 30 μΐη erhalten wird. Drei Schichten aus einem bereits angegebenen Vorimprägnat (Bromgehalt 20%), bei denen keine Schicht mit einem niedrigen Halogengehalt in der Oberflächenschicht vorgesehen ist, werden dann zwischen diese beiden beidseitig kaschierten Schichtwerkstoffe gebracht und zur Herstellung einer Mehrschicht-Leiterplatte auf die gleiche Weise behandelt wie beim Beispiel 1.Paint B is then applied-copper foil surface inner-layer circuit on and dried for 10 min at 13O 0 C, is obtained μΐη whereby a ß-stage Beschichtuiigsfilm having a thickness of 30th Three layers of an already specified prepreg (bromine content 20%), in which there is no layer with a low halogen content in the surface layer, are then placed between these two layer materials, which are laminated on both sides, and treated in the same way as for the production of a multi-layer circuit board Example 1.
Eine Mehrschicht-Leiterplatte wird wie beim Beispiel 1 behandelt mit der Ausnahme, daß drei Schichten des Vorimprägnats F des Vergleichsbeispiels 3 benutzt werden.A multilayer printed circuit board is treated as in Example 1 with the exception that three layers of the prepreg F of Comparative Example 3 are used.
Ein ungefähr 25 μπι dickes ebenes Glasgewebe aus 65/25-mm-Kettfäden und 52/25-mm-Schuß wird mit dem Lack D des Vergleichsbeispiels 2 imprägniert und bei 1300C 10 min getrocknet, um ein Vorimprägnat G mit einer Dicke von 30 μπι herzustellen. Der Harzgehalt dieses Vorimprägnats beträgt 55°/o. Die beidseitig kaschierten Schichtwerkstoffe des Beispiels 1 werden auf die gleiche Weise behandelt wie beim Beispiel 1. Zwei Schichten aus dem oben beschriebenen Vorimprägnat G werden auf die jeweiligen Innenschicht-Schaltungen der beidseitig kaschierten Schichtwerkstoffe gebracht. Drei Schichten aus einem bereits angegebenen Vorimprägnat (Bromgehalt 20%) mit einer Dicke von 130 μΐη werden zwischen die oben beschriebenen Vorimprägnate G eingebracht. Die gesamte Anordnung wird auf die gleiche Weise behandelt, wie dies beim Beispiel 1 zur Herstellung einer Mehrschicht-Leiterplatte beschrieben wurde.An approximately 25 μπι thick flat glass fabrics of 65/25 mm warps and 52/25-mm-shot is impregnated with the varnish D of Comparative Example 2 and at 130 0 C for 10 min dried to obtain a prepreg G having a thickness of 30 μπι to produce. The resin content of this prepreg is 55%. The double-sided laminated layer materials of Example 1 are treated in the same way as in Example 1. Two layers of the prepreg G described above are applied to the respective inner layer circuits of the double-sided laminated layer materials. Three layers of an already specified prepreg (bromine content 20%) with a thickness of 130 μm are introduced between the prepreg G described above. The entire arrangement is treated in the same way as described in Example 1 for the production of a multilayer printed circuit board.
Sechs Schichten aus dem Vorimprägnat F des Vergleichsbeispiels 3 werden zwischen eine 35 μΐη dicke Kupferfolie für eine beidseitige Kaschierung und eine 70 μΐη dicke Kupferfolie für eine beidseitige Kaschierung gebracht. Die gesamte Anordnung wird 60 min bei 170° C mit einem Druck von 40 kg/cm2 gepreßt.Six layers of the prepreg F of Comparative Example 3 are placed between a 35 μm thick copper foil for lamination on both sides and a 70 μm thick copper foil for two-sided lamination. The entire arrangement is pressed for 60 minutes at 170 ° C. with a pressure of 40 kg / cm 2.
Auf diese Weise entstehen zwei beidseitig kaschierte Schichtwerkstoffe. Auf der 70 μΐη dicken Kupferfolienseite dieser beidseitig kaschierten Schichtwerkstoffe wird eine Innenschicht-Schaltung auf die gleiche Weise wie beim Beispiel 1 hergestellt, worausIn this way, two laminated materials are created on both sides. On the 70 μm thick copper foil side This double-sided laminated material is an inner layer circuit on the manufactured in the same way as in Example 1, from which
ίο eine Mehrschicht-Leiterplatte auf die gleiche Weise wie beim Beispiel 1 erhalten wird.ίο a multilayer circuit board in the same way as in Example 1 is obtained.
Ein ungefähr 35 μΐη dickes ebenes Glasgewebe wie beispielsweise das Glasgewebe des Beispiels 4 wird mit dem Lack B des Vergleichsbeispiels 1 imprägniert und 10 min bei 1300C getrocknet, wodurch ein Vorimprägnat H mit einer Dicke von 30 μΐη erhalten wird. Sechs Schichten des Vorimprägnats E des Vergleichsbeispiels 3 werden zwischen die beiden Schichten des obenerwähnten Vorimprägnats gebracht und dann zwischen eine 35 μπι dicke Kupferfolie und eine 70 μΐη dicke Kupferfolie für eine beidseitige Kaschierung eingebracht. Die gesamte Anordnung wird auf die gleiche Weise wie beim Beispiel 5 in einer Presse bei 1700C behandelt, um eine beidseitige Kaschierung zu bewirken. Eine Innenschicht-Schaltung wird auf diesem beidseitig kaschierten Schichtwerkstoff auf die gleiche Weise hergestellt wie beim Beispiel 1, und drei Schichten des Vorimprägnats F des Vergleichsbeispiels 3 werden zwischen die beidseitig kaschierten Schichtwerkstoffe eingebracht. Die gesamte Anordnung wird zur Herstellung einer Mehrschicht-Leiterplatte auf die gleiche Weise behandelt wie beim Beispiel 1.An approximately 35 μΐη thick flat glass fabric such as glass fabric of Example 4 is impregnated with the varnish B of Comparative Example 1 and is obtained dried for 10 min at 130 0 C whereby a prepreg having a thickness H of 30 μΐη. Six layers of prepreg E of Comparative Example 3 are placed between the two layers of the above-mentioned prepreg and then placed between a 35 μm thick copper foil and a 70 μm thick copper foil for lamination on both sides. The entire arrangement is treated in the same way as in Example 5 in a press at 170 ° C. in order to effect lamination on both sides. An inner-layer circuit is produced on this double-sided laminated material in the same way as in Example 1, and three layers of the prepreg F from Comparative Example 3 are introduced between the double-sided laminated material. The entire arrangement is treated in the same way as in Example 1 to produce a multilayer printed circuit board.
Die Mehrschicht-Leiterplatten der Beispiele 1 bis 6 werden mit einer bereits entwickelten Mehrschicht-Leiterplatte hinsichtlich der Lötmittelbeständigkeit bei 260° C und der Widerstandsfähigkeit gegen Entflammung verglichen. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 2 dargestellt:The multilayer printed circuit boards of Examples 1 to 6 are combined with an already developed multilayer printed circuit board in terms of solder resistance at 260 ° C and resistance to inflammation compared. The results are shown in Table 2:
(see)(lake)
<sec) ** '· ■ ■' - "~ t
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>180> 180
>180> 180
>180> 180
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tend der Technik 30tend of technology 30
Ävo \ ι -»tit oüs ^y.fcjÄvo \ ι - »tit oüs ^ y.fcj
2,6 (I^ Ms 5,8)2.6 (I ^ Ms 5.8)
2,1 (0,8 bis 5,2)2.1 (0.8 to 5.2)
2^ (0,8 bis 5,0)2 ^ (0.8 to 5.0)
3^ (1,0 bis 8,0)3 ^ (1.0 to 8.0)
2,2(0 bis 6,0)2.2 (0 to 6.0)
Beispiel 2Example 2
Beispiel 3Example 3
Beispiel 4Example 4
Beispiel 5Example 5
BespieleExamples
Beispiel nacn SExample according to S
Claims (5)
rückstände nach an sich bereits entwickelten Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Verfahren unterworfen wird. Mehrschicht-Leiterplatte anzugeben, die nicht nur5. A method for producing a difficult to develop 35 An electrolytic copper foil on metal-flammable multilayer printed circuit board according to a layered laminate has a glossy and one of claims 1 to 4, characterized in that it is matt. The matt side corresponds to the part of the layer materials that are drawn on both sides with a copper coating (10) which is produced with the base plate of the metal-covered layer materials (11) in contact that an inner layer circuit (10 ') on the 40, and has great roughness. The surface of one side of the respective layer material (11) of the matt side is treated in order to establish its adhesive strength so that several layers can be increased from as little as possible. A multilayer printed circuit board is produced at least one flame-retardant pre-impregnation by adhesive lamination of the glossy side of the gnat from a thermosetting epoxy resin on copper foil with a pre-impregnation. Which are brought, with at least one upper glossy side having a lower adhesive strength, however, area of the prepreg has a bromine content than the matt side. The shiny side of less than about 10 percent by weight and the part of the prepreg with the same roughness and surface should be subjected to such a treatment as the matt side, has a bromine content that the entire bromine, but at the same time the conductor track or must of the resin as a whole The surface treatment of the glossy impregnate with the low bromine content with the lower side should be limited to photoetching, and the inner layer circuit surface in contact with the Production of the printed multilayer conductor can stand, that the entire arrangement to the plate depends essentially on the adhesive strength of the layers and that 55 of the prepreg. On the one hand, the resulting multi-layer lei-bromine content of the prepreg must be increased, the plate drilled (13), non-electroplated copper plate so that the multilayer circuit board is more difficult to remove (14), electrolytically copper-plated (IS) and becomes flammable On the other hand, however, a high bromine content worsens the photographic print (16), a gold plating (17), the adhesive strength and the soldering and removal of the protective layer and etching agent resistance of the prepreg.
residues according to already developed It is an object of the present invention to subject a method. Multi-layer printed circuit board to indicate that not only
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5456273A JPS505481A (en) | 1973-05-18 | 1973-05-18 | |
| JP5456273 | 1973-05-18 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2424002A1 DE2424002A1 (en) | 1974-11-28 |
| DE2424002B2 DE2424002B2 (en) | 1976-04-15 |
| DE2424002C3 true DE2424002C3 (en) | 1976-11-25 |
Family
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