DE2263804C3

DE2263804C3 - Process for the production of a relief plate

Info

Publication number: DE2263804C3
Application number: DE19722263804
Authority: DE
Inventors: Masayoshi Tokio; Nouno Noboru Asaki Saitama; Nakamura Tsutomu; Anaii Koushi; Tokio; Mizunö (Japan)
Original assignee: Asahi Kasei Kogyo KK
Current assignee: Asahi Kasei Corp
Priority date: 1971-12-28
Filing date: 1972-12-28
Publication date: 1977-07-28

Description

R¹ S R³ R ¹ SR ³

\ Il /\ Il /

Ν—C-NΝ — C-N

R^: R ^:

R⁴ R ⁴

in der jeder der Reste R¹, R², R³ und R⁴ ein Wasserstoffatom eine Allyl-, Amino-, Acetyl-, Phenyl- oder Alkylgruppe mit höchstens 10 Kohlenstoffatomen bedeutet, ein Monosaccharid oder Disaccharid, Ascorbinsäure, Äthylendiamintetraessigsäure oder deren Alkalimetallsalze, Oxalsäure oder deren Alkalimetallsalze, Thiosulfatsalze, Thiocyanatsalze, Stannosalze oder Ferrosalze als Reduktionsmittel in einer Menge von 0,001 Gew,-% bis zur Sättigungskonzentration enthält.in which each of the radicals R ¹ , R ² , R ³ and R ^{4 is} a hydrogen atom, an allyl, amino, acetyl, phenyl or alkyl group with a maximum of 10 carbon atoms, a monosaccharide or disaccharide, ascorbic acid, ethylenediaminetetraacetic acid or its alkali metal salts, Oxalic acid or its alkali metal salts, thiosulphate salts, thiocyanate salts, stannous salts or ferrous salts as reducing agents in an amount of 0.001% by weight up to the saturation concentration.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man eine wäßrige Lösung oder Emulsion verwendet, die 0,1 bis 2OGew.-°/o der membranbildenden polymeren Verbindung oder des Wachses enthält.2. The method according to claim 1, characterized in that one is an aqueous solution or Emulsion used which is 0.1 to 20% by weight contains membrane-forming polymeric compound or wax.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man als membranbildende polymere Verbindung oder Wachs Natriumalginat, Gummiarabicum, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon wasserlösliche Ceiluloseverbindungen, Stärkeverbindungen und Polymere des Äthylenoxyds mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von etwa 10 000 bis 200 000, Paraffinwachs oder Carnaubawachs verwendet.3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that the membrane-forming polymeric compound or wax sodium alginate, gum arabic, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone water-soluble ceilulose compounds, starch compounds and polymers of ethylene oxide with an average molecular weight of about 10,000 to 200,000, paraffin wax or Carnauba wax is used.

4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß man ein lichtempfindliches Material behandelt, das a) 100 Gewichtsteile eines ungesättigten Polyesters, b) 10 bis 200 Gewichtsteile, pro 100 Gewichtsteile des ungesättigten Polyesters, mindestens eines äthylenisch ungesättigten Monomeren, c) 0,001 bis 10 Gewichtsteile pro 100 Gewichtsteile des lichtempfindlichen Materials, eines Photopolymerisationsinitiators und d) 0,0001 bis 2,0 Gewichtsteile, pro 100 Gewichtsteile des lichtempfindlichen Materials, eines thermischen Polymerisationsstabilisators enthält.4. Process according to claims 1 to 3, characterized in that one is a photosensitive Treats material that contains a) 100 parts by weight of an unsaturated polyester, b) 10 to 200 parts by weight, per 100 parts by weight of the unsaturated polyester, at least one ethylenically unsaturated monomer, c) 0.001 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the light-sensitive material, one Photopolymerization initiator; and d) 0.0001 to 2.0 parts by weight per 100 parts by weight of the photosensitive Material containing a thermal polymerization stabilizer.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß man eine wäßrige Lösung oder Emulsion verwendet, die das Reduktionsmittel in einer Menge von 0,01 bis 30 Gewichtsprozent enthält.5. The method according to claim 4, characterized in that one is an aqueous solution or Emulsion used containing the reducing agent in an amount of 0.01 to 30 percent by weight contains.

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Reliefplatte durch bildweises Belichten eines lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterials mit einer photopolymerisierbaren Schicht, Entwickeln des Aufzeichnungsmaterials zum Relief durch Herauslösen der unbelichteten Stellen der photopolymerisierbaren Schicht und Nachbelichten des entstandenen Reliefs.The invention relates to a method for producing a relief plate by imagewise exposing a light-sensitive recording material with a photopolymerizable layer, developing the recording material for relief by removing the unexposed areas of the photopolymerizable Layer and post-exposure of the resulting relief.

Es ist üblich, Reliefplatten herzustellen indem eine Schicht einer lichtempfindlichen Masse einer gewünschten Dicke auf einem geeigneten Substrat gebildet wird, die erhaltene Schicht durch ein bildtragendes Diapositiv mit aktinischer Strahlung belichtet wird, beispielsweise durch ein photographisches Negativ, um die Bildbereiche zu photopolymerisieren, die nicht belichteten Bereiche mit einer wäßrigen alkalischen Lösung oder einem Lösungsmittel ausgewaschen und die erhaltenen Reliefplatten getrocknet werden.It is common to make relief plates by using a A layer of photosensitive composition of a desired thickness is formed on a suitable substrate, the layer obtained is exposed to actinic radiation through an image-bearing slide, for example through a photographic negative to photopolymerize the areas of the image that were not exposed Areas washed out with an aqueous alkaline solution or a solvent and the obtained Relief plates are dried.

Um die Härte und Festigkeit der Reliefbildbereiche zu erhöhen, wenn Musterplatten zur Matrizenprägung und Reliefdruckplatten mit hoher Druckbeständigkeit oder Reliefdruckplatten, die Abdrucke hoher Qualität liefern, hergestellt werden, wird außerdem die gesamte Oberfläche der erhaltenen Reliefdruckplatten mit aktinischer Strahlung nachbelichtet, um die Photoreaktion weiterzuführen und die Härtung der Reliefbildbereiche zu vervollständigen. Im allgemeinen besteht die Neigung, daß diese Nachbelichtung durch molekularen Sauerstoff der Luft verzögert wird, und es ist daher schwierig, die Oberfläche der Polymerplatten nur durch Bestrahlen mit aktinischer Strahlung vollständig zu härten. Bei dieser Nachbelichtung können jedoch die Seiten der Reliefbildbereiche und insbesondere feine Punkte oder feine Linien, d. h. die Grenzbereiche zwischen Bildbereichen und nicht belichteten Bereichen, hen, nicht vollständig gehärtet werden. So bleibt die Oberfläche von Reliefplatten viskos und verursacht verschiedene Nachteile, wie das Anhaften von Matern an der Musterplatte bei der Durchführung der Matrizenprägung, das Ansammeln von Staub aus Druckpapier in den Reliefplatten und Bahnbrüche des Druckpapiers, das während eines Druckvorgangs klebrig oder viskos geworden ist.To increase the hardness and strength of the relief image areas when pattern plates are used for die embossing and relief printing plates with high printing resistance or relief printing plates which have high quality imprints deliver, are produced, the entire surface of the relief printing plates obtained will also be with post-exposed actinic radiation in order to continue the photoreaction and the hardening of the relief image areas to complete. In general, this post-exposure tends to be caused by molecular Oxygen in the air is delayed and it is therefore difficult to just pass through the surface of the polymer sheets Exposure to actinic radiation to cure completely. With this post-exposure, however, the Sides of the relief image areas and in particular fine dots or fine lines, d. H. the border areas between image areas and unexposed areas, hen, cannot be fully cured. So it stays The surface of relief plates is viscous and causes various disadvantages, such as the sticking of mats on the pattern plate when performing the die stamping, the accumulation of dust from Printing paper in the relief plates and web breaks in the printing paper that are used during a printing process has become sticky or viscous.

Außerdemi verbleibt gemäß einem Verfahren zur Herstellung von Photopolymerplatten, das in US-PS 63 222 beschrieben ist, diese Klebrigkeit noch in der Trägerschicht, die durch Belichten einer lichtempfindlichen Masse von der Unterseite her mit aktinischem Licht, d. h., von der gegenüberliegenden Seite eines bildtragenden Diapositivs, gebildet wurde, und verursacht häufig Nachteüe, wie die vorstehend beschriebenen. Die feinen Punkte und Linien, die im Hinblick auf ihr Volumen größere Seitenber eiche aufweisen, können nicht vollständig gehärtet werden, Selbst durch Nachbelichtung ist es schwierig, die Reliefbildbereiche zu härten und zu festigen.Also remains in accordance with a method of making photopolymer plates disclosed in U.S. Pat 63 222 is described, this stickiness is still in the carrier layer, which is caused by exposure of a light-sensitive Mass from the underside with actinic light, d. i.e., from the opposite side of one image-bearing transparencies, and often causes night-time such as those described above. The fine points and lines, which have larger side areas in terms of their volume, can not be fully cured, even after exposure it is difficult to remove the relief image areas to harden and consolidate.

Um diese Nachteile auszuschalten, wurden bereits verschiedene Methoden vorgeschlagen. Eine Methode besteht in der Nachbelichtung der Platten in einer Inertgasatmosphäre, wie gasförmigen Kohlendioxid oder Stickstoff. Diese Methode erfordert jedoch eineVarious methods have been proposed to eliminate these disadvantages. A method consists in the post-exposure of the plates in an inert gas atmosphere such as gaseous carbon dioxide or nitrogen. However, this method requires a

rasdichtverschlossene Vorrichtung und das Verdrängen ier Luft mit diesem Inertgas für jede Platte. Eine andere Methode! besteht darin, die Oberfläche der Platten mit »im Klunstharzfilm oder mit Cellophanpapier zurazor-tight device and dislodging ier air with this inert gas for each plate. Another method! is to use the surface of the panels »In synthetic resin film or with cellophane paper

deckem, um Luft von der Oberfläche auszuschließen. Es ist jedoch unmöglich, dieses Verfahren auf Reliefplatten anzuwenden, die einer Belichtung zum Ausbildein von Reliefbildern und dem Auswaschen von nicht belichteten Bereichen unterworfen wurden.cover to exclude air from the surface. However, it is impossible to apply this method to relief plates that are exposed to Formation of relief images and washing of unexposed areas were subjected.

Es war andererseits bekannt, für ein unter Bildübertraßung durchgeführtes Reproduktionsverfahren einOn the other hand, it has been known for a method of reproducing by image transmission

hotopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial zu verwenden, in welchem auf die photopolymerisierbare eine sauerstoffundurchlässige Schutzschicht (DTAS 12 65 579) Bi di VfhTo use hot-polymerizable recording material, in which the photopolymerizable an oxygen-impermeable protective layer (DTAS 12 65 579) Bi di Vfh

ι ο nal, Gummiarabicum, Casein, wasserlösliche Celluloseverbindungen, wie Carboxymethylcellulose, Methylcellulose, Äthylcellulose, Hydroxyäthyl-cellulose, Stärke und Stärkederivate, wie Natriumstärkeglycolat, wasserlösliche polymere Verbindungen, wie Polyvinylalkohol und dessen Teilester, Äther und Acetale, Polyvinyl-pyr· rolidon, Polyacrylsäure, Natrium-polyacrylat, Polyacrylamid, Polymere von Äthylenoxid mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von etwa 10 000 bis 000 000, Methylvinyl/Maleinsäureanhydnd-Copolymere, mineralische Wachse, wie Paraffinwachs, pflanzliche Wachse, wie Carnauba, Japanwachs, tierische Wachse, Naturwachse, wie Bienenwachs, synthetische ι ο nal, gum arabic, casein, water-soluble cellulose compounds such as carboxymethyl cellulose, methyl cellulose, ethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, starch and starch derivatives such as sodium starch glycolate, water-soluble polymeric compounds such as polyvinyl alcohol and its partial esters, ether and acetals, polyvinylpyrolidone , Sodium polyacrylate, polyacrylamide, polymers of ethylene oxide with an average molecular weight of about 10,000 to,000,000, methylvinyl / maleic anhydride copolymers, mineral waxes such as paraffin wax, vegetable waxes such as carnauba, Japan wax, animal waxes, natural waxes such as beeswax, synthetic

c hirht eine sauersioriunaurcmassige acnuizscnicni Wachse, flüssiges Paraffin, Polystyrol und Styrol-Copo- ? Ptraeen ist(DT-AS 12 65 579). Bei diesem Vertan- 15 lymere, Polyvinylidenchlorid und dessen Copolymere, erfolgt die bildmäßige Belichtung durch die Polyvinylacetat und dessen Copolymere und PolyacrylaoühntTschicht, um die Sauerstoffeinflüsse auszuschalten. te und Acrylat-Copolymere.c hirht an acidic acnuizscnicni waxes, liquid paraffin, polystyrene and styrene copo- ? Ptraeen is (DT-AS 12 65 579). In this case of vertebral polymers, polyvinylidene chloride and its copolymers, the image-wise exposure takes place through the polyvinyl acetate and its copolymers and polyacrylate coated layer, to switch off the effects of oxygen. te and acrylate copolymers.

npr pirfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei der Die Konzentration der membranbildenden polyme-The npr pir invention is based on the task of The concentration of the membrane-forming polymer

_u ctPltane einer Reliefplatte nach dem Entwickeln der ren Verbindung oder des Wachses wird in der Weise Käßig belichteten Schicht eine möglichst vollständi- 20 eingestellt, daß die Dicke der auf ^ ^photopolymerplat-P ^polymerisation zu ermöglichen, um die te aufgetragenen Membran etwaι 001 Mikron.bis etwa IpliSbereiche, insbesondere feine Punkte und 50 Mikron, vorzugsweise 0.1Mikron bis 20 Mikron Hn e? u verfestigen und dem Reliefbild Wasserbestän- beträgt. Wenn die Dicke geringer als 0,01Mikro»ist Ä.U verleihen, so daß es in zufriedenstellender werden die gewünschten Wirkungen kaum erzieh, wie als Druckplatte verwendet werden kann und 25 Wenn andererseits die Dicke einen Wert von mehr aU SU -«_b Anwendung eine ausreichend lange ^"^>™^$^$i£Z _U ctPltane a relief plate after the development of the ren compound or the wax is set in such a way Käßig exposed layer as completely as possible that the thickness of the on ^ ^p hotopolymerplat-P ^ polymerization to allow the te applied membrane about 001 microns .to about IpliS areas, in particular fine points and 50 microns, preferably 0.1 microns to 20 microns Hn e? u solidify and the relief image is water-resistant. When the thickness is less than 0.01 micro »so that it can more satisfactorily produce the desired effects such as can be used as a printing plate, and on the other hand, when the thickness is more than aU SU -« _b application sufficiently long ^ "^> ™ ^ $ ^ $ i £ Z

^Un>Sg der Aufgabe erfolgt mit einem Verfahren Verbindung oder dem Wachs angefüllt und die Dicke ^U n> Sg the task is done with a method compound or the wax is filled and the thickness

f H Sung ejS Reliefpfatte durch bildweises der aufgetragenen Membran wird «"gleichmäßigf H Sung ejS relief plate by image-wise the applied membrane becomes "" even

Be ichtcn eineslichtempfindlichen Aufzeichnungsmate- 30 Infolgedessen geht die Genauigkeit d*Dicke derWhen considering a photosensitive recording material, the accuracy d * thickness is less than

X mΪ einer photopolymerisierbaren Schicht, Entwik- resultierenden Photopolymerplatte verloi en und die X mΪ a photopolymerizable layer, development resulting photopolymer plate verloi en and the

^denenl .. ,^s', 1_ „_:. „;L. .,,artri^n ΐΛ,πηα r,H_Pr 60Gew.-%,vorzugsweise0,1 bis20Gew.-°/o. ^denl .., ^s ', 1_ " _: . "; L. . ,, artri ^ n ΐΛ, πηα r, H _Pr 60% by weight, preferably 0.1 to 20% by weight.

Zu Beispielen für geeignete Reduktionsmittel, die verwendet werden können, um die Dauer derExamples of suitable reducing agents that can be used to reduce the duration of the

denen iivtit*-¹**! ****** — " . ,which iivtit * - ¹ **! ****** - ".,

der Nachbelichtung mit einer wäßrigen Losung oder einer Emulsion behandelt wird, die 0,05 bis 60 Gew.-% mindestens einer membranbildenden polymeren Verbindung oder eines Wachses sowie eine Thioharnstoffverbinciung der Formelthe post-exposure is treated with an aqueous solution or an emulsion which contains 0.05 to 60% by weight at least one membrane-forming polymeric compound or a wax and a thiourea compound the formula

R¹ R ¹

R³ R ³

Nachbelichtung zu verkürzen, gehören folgende Ver-To shorten post-exposure, the following

(7) Thioharnstoff-Verbindungen der allgemeinen Formel (7) Thiourea compounds of the general formula

IlIl

N—C—NN — C — N

R¹ R ¹

4545

IlIl

N—C—NN — C — N

R³ R ³

in der jeder der Reste R', R², R³ und R* ein Wasserstoffatom, eine Allyl-, Ammo-, Acetyl- Phenyl- oder Alkylgruppe mit höchstens 10 Kohlenstoffatomen bedeutet, ein Monosaccharid oder Disaccharid, Ascorbinsäure, Äthylendiamintetraessigsäure oder deren Alkalimetallsalze, Oxalsäure oder deren Alkalimetallsalze Thiosulfatsalze, Thiocyanatsalze, Stannosalze oder Ferro&alze als Reduktionsmittel in einer Menge von 0 001 Gew -% bis zur Sättigungskonzentration enthalt. ' Durch das erfindungsgemäße Verfahren wird der Vorteil erzielt, daß die erhaltenen Reliefplatten in allen Bereichen, auch in Bereichen mit feinen Punkten und Linieri, vollständig und frei von Klebrigkeit ausgehärtet werden Darüber hinaus ist es möglich, die Dauer der Nachbelichtung, die zum vollständigen Aushärten der Reliefbildbereiche der Photopolymerplatte erforderlich ist mfrklich zu verkürzen.in which each of the radicals R ', R ² , R ³ and R * is a hydrogen atom, an allyl, ammo, acetyl, phenyl or alkyl group with a maximum of 10 carbon atoms, a monosaccharide or disaccharide, ascorbic acid, ethylenediaminetetraacetic acid or its alkali metal salts, Oxalic acid or its alkali metal salts contains thiosulphate salts, thiocyanate salts, stannous salts or ferrous salts as reducing agents in an amount of 0 001% by weight up to the saturation concentration. The method according to the invention has the advantage that the relief plates obtained are cured completely and free of tack in all areas, including areas with fine points and lines Relief image areas of the photopolymer plate required to be shortened considerably.

Beispiele für geeignete membranbildende polymere Verbindungen und Wachse, die zur Herste hung der erf ndungsgemäß verwendeten wäßrigen Lösungen oder Emulsionen geeignet sind, umfassen Natr.umalg.-ei^Ä^rlSf^rSyf
AMgruppe mit höchstens 10 kohlenstoffatomen stehen. Zu Beispielen für diese Thioharnstoff-Verbindungen gehören
Thioharnstoff, Allylthioharnstoff,Examples of suitable membrane-forming polymeric compounds and waxes which are suitable for the preparation of the aqueous solutions or emulsions used according to the invention include Natr.umalg.- ei ^ Ä ^ rlSf ^ rSyf
AM group with a maximum of 10 carbon atoms. Examples of these thiourea compounds include
Thiourea, allylthiourea,

Ν,Ν-Diallylharnstoff,Ν, Ν-diallylurea,

Ν,Ν-Diallylthioharnstoff,Ν, Ν-diallylthiourea,

Triallylthioharnstoff,Triallylthiourea,

Tetraallylthioharnstoff,Tetraallylthiourea,

Methylthioharnstoff.Äthylthioharnstoff,Methylthiourea, ethylthiourea,

n-Propylthioharnstoff,n-propylthiourea,

lsopropylthioharnstoff,isopropylthiourea,

n-Butylthioharnstoff,n-butylthiourea,

Ν,Ν-Diäthylthioharnstoff,Ν, Ν-diethylthiourea,

Ν,Ν'-Allylmethylthioharnstoff,Ν, Ν'-allylmethylthiourea,

Ν,Ν'-Diallylmethylthioharnstoff,Ν, Ν'-diallylmethylthiourea,

N.N'-Methyläthylthioharnstoff,N.N'-methylethylthiourea,

Ν,Ν'-Dimethyläthylthioharnstoff,Ν, Ν'-dimethylethylthiourea,

Ν,Ν'-Dimethylallylthioharnstoff,Ν, Ν'-dimethylallylthiourea,

Phcnylthioharnstoff,Phylthiourea,

Ν,Ν'-Diphenylthioharnstoff,Ν, Ν'-diphenylthiourea,

Ν,Ν'-Phenylmethylthioharnstoff,Ν, Ν'-phenylmethylthiourea,

Ν,Ν'-Diphenylmethylthioharnstoff, sΝ, Ν'-diphenylmethylthiourea, s

Acetylthioharnstoff,Acetylthiourea,

Ν,Ν'-Diacetylthioharnstoff,Ν, Ν'-diacetylthiourea,

N.N'-Diacetylthioharnstoff,N.N'-diacetylthiourea,

Ν,Ν'-Acetyläthylthioharnstoff,Ν, Ν'-acetylethylthiourea,

Ν,Ν'-Diacetylmethylthiohärnstoff, Ν,Ν'-AcetylaUylthioharnstoff undΝ, Ν'-diacetylmethylthiourea, Ν, Ν'-AcetylaUylthiourea and

Thiosemicarbazid.Thiosemicarbazide.

(2) Monosaccharide und Disaccharide einschließlich Glucose, Mannose, Galactose, Lactose und Maltose, (2) monosaccharides and disaccharides including glucose, mannose, galactose, lactose and maltose,

(3) Ascorbinsäure,(3) ascorbic acid,

(4) Äthylendiamin-tetraessigsäure und deren Alkalimetallsalze, einschließlich das Natriumsalz und Kaliumsalz von Äthylendiamin-tetraessigsäure,(4) Ethylenediamine tetraacetic acid and its alkali metal salts, including the sodium salt and Potassium salt of ethylenediamine tetraacetic acid,

(5) Oxalsäure und deren Alkalimetallsalze, einschließlieh Natriumoxalat, Kaliumoxalat und Kaliumhydrogenoxalat, (5) oxalic acid and its alkali metal salts, including Sodium oxalate, potassium oxalate and potassium hydrogen oxalate,

(6) Salze der Thioschwefelsäure, einschließlich Natriumthiosulfat, Kaliumthiosulfat, Calciumthiosulfat und Ammoniumthiosulfat,(6) salts of thiosulfuric acid, including sodium thiosulfate, Potassium thiosulphate, calcium thiosulphate and ammonium thiosulphate,

(7) salzartige Thiocyanate, einschließlich Natriumthiocyanat, Kaliumthiocyanat, Calciumthiocyanat und Ammoniumthiocyanat,(7) salt-like thiocyanates, including sodium thiocyanate, Potassium thiocyanate, calcium thiocyanate and ammonium thiocyanate,

(8) Stannosalze, einschließlich Stannochlorid, Stannobromid, Stannosulfat und Stannooxalat, und(8) stannous salts, including stannous chloride, stannobromide, Stannous sulfate and stannous oxalate, and

(9) Ferrosalze, einschließlich Ferrochlorid, Ferrobromid, Ferrosulfat, Ferroammoniumsulfat und Ferroacetat. (9) ferrous salts, including ferrochloride, ferrobromide, Ferrous sulfate, ferrous ammonium sulfate and ferroacetate.

Die Konzentration des Reduktionsmittels liegt im Bereich von etwa 0,001 Gew.-% bis zur Sättigung, wobei der bevorzugte Bereich 0,01 Gew.-% bis 30 Gew.-% beträgt. Wenn die Konzentration unter 0,001 Gew.-% abfällt, werden die gewünschten Wirkungen kaum erzielt.The concentration of the reducing agent is in the range from about 0.001% by weight to saturation, where the preferred range is 0.01 wt% to 30 wt%. If the concentration is below 0.001 wt% drops, the desired effects are hardly achieved.

Zur Herstellung der wäßrigen Emulsionen kann jeder übliche Emulgator verwendet werden. Zu Beispielen für geeignete Emulgatoren gehören nichtionische, anionische und kationische oberflächenaktive Mittel, wie Polyoxyäthylen-nonylphenyläther, Polyoxyäthylen-alkyläther, Sorbitan-fettsäureester, Natriumalkylsulfate und -sulfonate mit 12 bis 18 Kohlenstoffatomen, Alkylaminocarboxylate und -dicarboxylate.Any customary emulsifier can be used to prepare the aqueous emulsions. For examples of suitable emulsifiers include nonionic, anionic and cationic surfactants, such as Polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene alkyl ether, Sorbitan fatty acid esters, sodium alkyl sulfates and sulfonates with 12 to 18 carbon atoms, Alkyl aminocarboxylates and dicarboxylates.

Die Konzentration des Emulgators liegt vorzugsweise im Bereich von etwa 0,01 bis 20 Gew.-%.The concentration of the emulsifier is preferably in the range from about 0.01 to 20% by weight.

Um die Stabilität der wäßrigen Emulsionen zu verbessern, können außerdem kolloidale Kieselsäure, Polyäthylene mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von etwa 500 bis 5000, Kolophonium, Harnstoff, Fettsäuren, organische Lösungsmittel r.nd Ammoniak zur Herstellung der wäßrigen Emulsionen verwendet werden.In order to improve the stability of the aqueous emulsions, colloidal silica, Polyethylene with an average molecular weight of about 500 to 5000, rosin, urea, Fatty acids, organic solvents and ammonia are used to produce the aqueous emulsions will.

Die erfindungsgemäßen wäßrigen Lösungen oder Emulsionen werden leicht und einfach durch Auflösen oder Emulgieren der membranbildenden polymeren Verbindung oder des Wachses gemeinsam mit dem Reduktionsmittel in Wasser hergestellt.The aqueous solutions or emulsions of the present invention become easy and simple by dissolving them or emulsifying the membrane-forming polymeric compound or the wax together with the Reducing agent made in water.

Wenn die membranbildende polymere Verbindung oder das Wachs mit dem Reduktionsmittel in einem organischen Lösungsmittel gelöst und die resultierende Lösung anstelle der wäßrigen Lösung oder Emulsion verwendet wird, ist es möglich, Rclicfbildbcreichc einer Polymcrplatte vollständig zu härten. Die Photopolymerplalte neigt jedoch zum Quellen und die Festigkeit der Relicfbildbcreiche wird vermindert. Außerdem ist die praktische Verwendung von organischen Lösungsmitteln mit zahlreichen Nachteilen verbunden, wie Entzündlichkeit, Toxizitat, störender Geruch und aufwendige Wiedergewinnung der verflüchtigten organischen Lösungsmittel.When the membrane-forming polymeric compound or the wax with the reducing agent in one Dissolved organic solvent and the resulting solution instead of the aqueous solution or emulsion is used, it is possible to fully cure the image area of a polymer plate. The photopolymer panel however, it tends to swell and the strength of the relief image areas is decreased. Besides, the practical use of organic solvents associated with numerous disadvantages, such as Flammability, toxicity, unpleasant smell and laborious recovery of the volatilized organic Solvent.

Zur Behandlung einer Photopolymerplatte mit der wäßrigen Lösung oder Emulsion, die eine membranbildende polymere Verbindung oder ein Wachs zusammen mit einem Reduktionsmittel enthält, kann jede übliche Methode angewendet werden. So wird beispielsweise die Photopolymerplatte einige Sekunden bis etwa 5 Minuten in die wäßrige Lösung oder Emulsion eingetaucht. Außerdem kann die wäßrige Lösung oder Emulsion auf die Photopolymerplatte durch Besprühen, mit Hilfe eines Walzenpaares oder einer Bürste oder eines Pinsels aufgetragen werden.For treating a photopolymer plate with the aqueous solution or emulsion, which forms a membrane polymeric compound or a wax together with a reducing agent can be any conventional Method to be applied. For example, the photopolymer plate is a few seconds to about 5 Immersed in the aqueous solution or emulsion for minutes. In addition, the aqueous solution or Emulsion onto the photopolymer plate by spraying, with the help of a pair of rollers or a brush or applied with a brush.

Die so behandelte Photopolymerplatte wird nachbelichtet. Die Photopolymerplaite kann vor, nach oder gleichzeitig mit der Nachbelichtungsstufe getrocknet werden.The photopolymer plate treated in this way is post-exposed. The photopolymer plate can be before, after or be dried at the same time as the post-exposure stage.

Die Nachbelichtung erfolgt mit aktinischer Strahlung einer Wellenlänge von etwa 2000 bis 8000 Angströmeinheiten. Zu praktischen Quellen für diese aktinische Strahlung gehören Kohlenbogenlampen, Hochdruck-Quecksilberlampen, Superhochdruck-Quecksüberlampen, Niederdruck-Quecksilberlampen, Xenonlampen, Ultraviolett-Fluoreszenzlampen und Tageslicht. Die Belichtungsdauer beträgt etwa 5 Sekunden bis 30 Minuten.The post-exposure takes place with actinic radiation with a wavelength of about 2000 to 8000 Angstrom units. Practical sources of this actinic radiation include carbon arc lamps, high pressure mercury lamps, Super high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, xenon lamps, Ultraviolet fluorescent lamps and daylight. The exposure time is about 5 seconds to 30 seconds Minutes.

Die Membran, die auf der Oberfläche der Reliefbildbereiche durch die erfindungsgemäße Behandlung ausgebildet wurde, dient dazu, die Photohärtungsreaktion an der Oberfläche der Reliefteile zu vervollständigen und führt zu einer Verfestigung der Reliefbildbereiche, die feine Punkte und feine Linien aufweisen und zum Verbessern der Druckbeständigkeit von Photopolymerplatten. Wenn die Membran aus einer erfindungsgemäßen wäßrigen Paraffinwachsemulsion gebildet wird, wird die Wasserbeständigkeit der Photopolymerplatten erhöht und darüber hinaus wird bei Verwendung einer Photopolymerplatte als Mustcrplatte zur Matrizenprägung die Photopolymerplatte kaum durch das in der Papierbahn enthaltene Wasser beeinflußt und auf diese Weise wird die Wirksamkeit der Bildung des Musters verbessert.The membrane that is on the surface of the relief image areas by the treatment according to the invention is formed, serves to complete the photo-setting reaction on the surface of the relief parts and leads to solidification of the relief image areas which have fine dots and fine lines and to improve the printing resistance of photopolymer plates. If the membrane is made from an inventive aqueous paraffin wax emulsion is formed, the water resistance of the photopolymer plates is increased and moreover, when used a photopolymer plate as a pattern plate for die embossing, the photopolymer plate barely through the in affects the water contained in the paper web and in this way the effectiveness of the formation of the Pattern improved.

Die erfindungsgemäße Behandlung mit einer wäßrigen. Lösung oder Emulsion ist besonders wirksam für lichtempfindliche Materialien des Photopolymertyps, die in den US-Patentschriften 29 02 365, 29 27 022, 29 46 611, 30.24 180, 29 27 710 und 29 72 540 und der japanischen Patentveröffentlichung 29 525/1971 sowie den US-Patentschriften 35 56 791, 36 28 963 und 36 63 222 sowie der US-Patentanmeldung 2 91 992 vom 24. Nov. 1971 beschrieben sind.The treatment according to the invention with an aqueous. Solution or emulsion is especially effective for photosensitive materials of the photopolymer type disclosed in US Patents 29 02 365, 29 27 022, 29 46 611, 30.24 180, 29 27 710 and 29 72 540 and the Japanese Patent Publication 29 525/1971 and U.S. Patents 35 56 791, 36 28 963 and 36 63 222 and US patent application 2 91 992 dated Nov. 24, 1971.

Die erfindungsgemäße Behandlung ist besonders wirksam für ein lichtempfindliches Material, das (a) einen ungesättigten Polyester, (b) mindestens ein !ithylenisch ungesättigtes Monomcrcs, (c) einen Photopolymerisationsinitiator und (d) einen thermischen Polymcrisationsslabilisator umfaßt.The treatment according to the invention is particularly effective for a photosensitive material which (a) an unsaturated polyester, (b) at least one ethylenically unsaturated monomer, (c) a photopolymerization initiator and (d) a thermal polymerization stabilizer.

Eine Reliefdruckplatte kann beispielsweise hergestellt werden, indem eine durchsichtige Reproduktions-Bildvorlagc, beispielsweise ein Negativfilm, auf eine für aktinisches Licht durchlässige Glasscheibe gelegt wird, der Negativfilm mit einem für aktinisches Licht durchlässigen Film wie einem Polyesterfilm, bedeckt wird, die lichtempfindliche Masse auf dem Film unterA relief printing plate can be produced, for example, by using a transparent reproduction image template, For example, a negative film is placed on a sheet of glass that is permeable to actinic light, the negative film is covered with an actinic light transmitting film such as a polyester film is taking the photosensitive composition on the film

Bildung einer 0,1mm bis 10 mm dicken Schicht abgelagert wird, ein Substrat oder Trägermaterial, wie ein Polyesterfilm nach dem in DT-OS 20 29 238 beschriebenen Verfahren und der dort beschriebenen Vorrichtung auf die Schicht gelegt wird, eine für aktinisches Licht durchlässige Glasscheibe auf das Trägermaterial gelegt wird, die gesamte Anordnung mit aktinischem Licht bestrahlt wird, was zuerst von der Seite des Trägermaterials und danach von der Seite des Negativfilms oder gleichzeitig von der Seite des Trägermaterials und der Seite des Negativfilms oder, bei Verwendung von metallischen Trägermaterialien oder opaken Trägermalerialien, von der Seite des Negativfilms her erfolgt, die Glasscheiben, der Negativfilm und der den Negativfilm bedeckende Film von der Anordnung entfernt werden, wonach die nicht belichteten Bereiche der Schicht ausgewaschen werden und die erhaltene Druckplatte mit einer wäßrigen Lösung oder Emulsion gemäß der Erfindung behandelt und die gesamte Reliefdruckplatte nachbelichtet wird.Formation of a 0.1mm to 10mm thick layer is deposited, a substrate or carrier material, such as a polyester film according to that in DT-OS 20 29 238 described method and the device described there is placed on the layer, one for actinic light-permeable glass plate is placed on the carrier material, the entire arrangement with actinic light is irradiated, first from the side of the carrier material and then from the side of the Negative film or simultaneously from the side of the substrate and the side of the negative film or, when using metallic carrier materials or opaque carrier materials, from the side of the Negative film takes place, the glass panes, the negative film and the film covering the negative film from the Arrangement are removed, after which the unexposed areas of the layer are washed out and the obtained printing plate treated with an aqueous solution or emulsion according to the invention and the entire relief printing plate is post-exposed.

Die erfindungsgemäße Behandlung kann auch bei der Herstellung von verschiedenen Reliefstrukturen, wie von hervorgehobener Schrift und Namensschildern verwendet werden.The treatment according to the invention can also be used in the production of various relief structures, such as used by highlighted fonts and name tags.

In den nachstehenden Beispielen bedeuten die angegebenen Teile Gewichtsteile, wenn nichts anderes ausgesagt ist.In the examples below, the parts indicated are parts by weight, unless otherwise specified is stated.

example 1

Unter einer Atmosphäre aus gasförmigem Stickstoff wurden 3 Mol Propylenglycol, 2 Mol Äthylenglykol, 2,5 Mol Fumarsäure und 2,5 Mol Adipinsäure bei einer Maximaltemperatur von 190⁰C während etwa 10 Stunden in Gegenwart von 0,5 g p-Toluolsulfonsäure als Katalysator und 0,2 g Hydrochinon als Anti-Gelbildungsmittel umgesetzt, wobei ein ungesättigter Polyester mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 2240 und einer Säurezahl von 25 gebildet wurde. Zu 100 Teilen des ungesättigten Polyesters wurden 25 Teile Diäthylenglycoldimethacrylat, 15 Teile Diacetonacrylamid, 1 Teil Benzoinäthylätherund 0,1 Teil Hydrochinon gegeben, um eine lichtempfindliche Masse zu erhalten.Under an atmosphere of gaseous nitrogen, 3 mol of propylene glycol, 2 mol of ethylene glycol, 2.5 mol of fumaric acid and 2.5 mol of adipic acid at a maximum temperature of 190 ⁰ C for about 10 hours in the presence of 0.5 g of p-toluenesulfonic acid as a catalyst and 0.2 g of hydroquinone reacted as an anti-gelling agent, whereby an unsaturated polyester with an average molecular weight of 2240 and an acid number of 25 was formed. To 100 parts of the unsaturated polyester, 25 parts of diethylene glycol dimethacrylate, 15 parts of diacetone acrylamide, 1 part of benzoin ethyl ether and 0.1 part of hydroquinone were added to obtain a photosensitive composition.

Auf eine 10 mm dicke, durchsichtige Glasscheibe wurde ein Negativfilm für eine Zeitung von 390 mm χ 550 mm gelegt. Dann wurde der Negativfilm mit einem Deckfilm aus Polyäthylentercphthulat einer Dicke von 12 Mikron bedeckt und die lichtempfindliche Müsse wurde mit Hilfe eines Streichrakcls auf den Deckfilm aufgetragen, wobei eine 0,8 mm dicke Schicht der lichtempfindlichen Masse gebildet wurde. Eine Seite einer Polyttthylcnterephthalul-Filmbüsis einer Dicke von 200 Mikron wurde mit einem Epoxy-Klebtniitel (erhalten durch Vermischen eines Epoxyhnrzes mit einem Polyamidharz als Htlrtcr Im Gew.-Vcrhttltnis 1 :1) in einer Dicke von etwa 10 Mikron bedeckt und die beschichtete Seite der Filmbasis wurde auf die Schicht des lichtempfindlichen Muterlals nufkuschicrt. Dann wurde eine 5 mm dicke, durchsichtige Glasplatte daritufgelegt. Von der Seite der Filinbasis her wurde die gesamte Anordnung 30 Sekunden mit 10 parallel angeordneten 20-W-UV-Fluoreszenzlampen, die in einem Abstand von 5 cm von dem Gltis angeordnet wuren, belichtet. Anschließend wurde die Anordnung von der Seite des Ncgnllvfllms 3 Minuten mit der gleichen Lichtquelle, die vorher verwendet worden war, In einem Abstand von Scm belichtet. Nach der Belichtung wurden die beiden Glasscheiben' und der Polyeslcrdeekrilm entfernt und die photopolymcrisierie Schicht auf der Polyester-Filmbasis wurde 2 Minuten unter einem Druck von 1,5 kg/cm² mit einer 1,0%igen wäßrigen Boraxlösung besprüht, um die nichtbelichteten Bereiche auszuwaschen.A negative film for a newspaper of 390 mm × 550 mm was placed on a 10 mm thick, transparent glass plate. Then the negative film was covered with a cover film made of polyethylene terephthalate 12 microns thick, and the photosensitive paste was applied to the cover film with the aid of a squeegee to form a 0.8 mm thick layer of the photosensitive composition. One side of a polyethylene terephthalul film bushing 200 microns thick was covered with an epoxy adhesive (obtained by mixing an epoxy resin with a polyamide resin as a resin in a ratio of 1: 1 by weight) to a thickness of about 10 microns and the coated side of the Film base was nufkuschicrt on the photosensitive mother layer. Then a 5 mm thick, transparent glass plate was placed on top. From the side of the filin base, the entire arrangement was exposed for 30 seconds to 10 20 W UV fluorescent lamps arranged in parallel, which were arranged at a distance of 5 cm from the gltis. The arrangement was then exposed from the side of the Ncgnllvfllms for 3 minutes with the same light source that had been used before, at a distance of Scm. After exposure, the two glass panes and the polyester film were removed and the photopolymerized layer on the polyester film base was sprayed for 2 minutes under a pressure of 1.5 kg / cm ² with a 1.0% aqueous borax solution around the unexposed areas to wash out.

Jede der so erhaltenen Reliefplatten wurde während 30 Sekunden in die verschiedenen in Tabelle 1 angegebenen wäßrigen Lösungen eingetaucht, getrocknet und dann 15 Minuten mit der vorstehend beschriebenen Lichtquelle nachbelichtet, um eineEach of the relief plates thus obtained was immersed in the various in Table 1 for 30 seconds indicated aqueous solutions immersed, dried and then 15 minutes with the above post-exposed light source described to a

ίο Reliefdruckplatte für eine Zeitung zu erhalten.ίο To get relief printing plate for a newspaper.

Die Seiten der Reliefbilder und die Oberflächen der Polyester-Filmbasis der erhaltenen Reliefdruckplatte waren nicht viskos. Die Dauer der Nachbelichtung, bei der die Viskosität bzw. die Klebrigkeit an den Seiten der Reliefbilder und an der Oberfläche der Filmbasis der Reliefdruckplalte nicht mehr beobachtet werden konnten, ist in Tabelle 1 gezeigt. Unter Verwendung der erhaltenen Reliefdruckplatte wurde ein Rotationsdruck für eine Zeitung. durchgeführt, wobei etwa 500 000The sides of the relief images and the surfaces of the polyester film base of the relief printing plate obtained were not viscous. The duration of the post-exposure at which the viscosity or the stickiness on the sides of the Relief images and on the surface of the film base of the relief printing plate could no longer be observed, is shown in Table 1. Rotary printing was carried out using the relief printing plate obtained for a newspaper. carried out, with about 500,000

ze Abdrucke mit hoher Qualität ohne jegliche Deformation und Beschädigung der Reliefbilder hergestellt wurden.Ze prints with high quality without any deformation and damage to the relief images were made.

Herstellung der ParaffinwachsemulsionPreparation of the paraffin wax emulsion

Zusammensetzungcomposition

Gewichtsteile Parts by weight

Paraffinwachs 57,2° C 30Paraffin wax 57.2 ° C 30

30. Oberflächenaktives Mittel30. Surfactant

(Sorbitanmonostearat) 3(Sorbitan monostearate) 3

Oberflächenaktives MittelSurface active agent

(Polyoxyäthylen-sorbitan-(Polyoxyethylene sorbitan

monostearat) 3monostearate) 3

Die Paraffinwachsemulsion wurde hergestellt, indem die Masse bei 6O⁰C gehalten wurde, dazu allmählich unter heftigem Rühren 64 Gew.-Teile Wasser von 60⁰C zugesetzt wurden und das Rühren fortgesetzt wurde, bis die Temperatur des Gemisches auf Raumtemperatur abgekühlt war, und indem die erhaltene Emulsion anschließend mit Wasser oder einer der in Tabelle 2 angegebenen wäßrigen Lösungen auf das lOfachc des ursprünglichen Volumens verdünnt wurde.The paraffin wax emulsion was prepared by keeping the mass at 6O ⁰ C, 64 parts by weight of water at 60 ⁰ C were gradually added with vigorous stirring and stirring was continued until the temperature of the mixture had cooled to room temperature, and by the emulsion obtained was then diluted to 10 times the original volume with water or one of the aqueous solutions given in Table 2.

Example 3

3 Mol Propylenglykol, 2 Mol Äthylenglykol, 2,5 Mol I'umurstUirc und 2,5 Mol Phthalsäureanhydrid wurden in gleicher Weise wie in Beispiel I polykondensiert, wobei3 mol propylene glycol, 2 mol ethylene glycol, 2.5 mol I'umurstUirc and 2.5 mol phthalic anhydride were in polycondensed in the same way as in Example I, wherein

so ein ungesättigter Polyester mil einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 1870 und einer Snurc/.nhl von 30 erhalten wurde. Zu 100 Teilen des erhaltenen ungesättigten Polyesters wurden IO Teile Tetrullthylcnglykoldiacrylnt, 30 Teile Diüthylenglykoldimethucry· Im, I Teil Benzolnisopropylttther und 0,1 Teil Hydrochinon gegeben, um ein leichtempfindliches Material herzustellen. In gleicher Weise wie In Beispiel I wurde die erhaltene lichtempfindliche Masse zur Bildung von Rcliefbildcrn belichtet und zur Herstellung einersuch an unsaturated polyester mil an average Molecular weight of 1870 and a Snurc / .nhl of 30 was obtained. 100 parts of the unsaturated polyester obtained were 10 parts of Tetrullthylcnglykoldiacrylnt, 30 parts of diethyl glycol dimethucry · Im, I part of benzene isopropyl ether and 0.1 part of hydroquinone given to produce a light sensitive material. In the same way as in Example I was made exposed the photosensitive composition obtained to form Rcliefbildcrn and to produce a

(>o Rclicfplattc von nicht belichteten Bereichen freigewa· sehen, Die Oberflüche der so erhaltenen Rclicfpluttc wurde mit der nachstehend angegebenen Waehsomul· sion durch Besprühen beschichtet, getrocknet und dann /ur Bildung einer Rcllcfdruckplatte wUhrend einer(> o Rclicfplattc cleared of unexposed areas See, the surface of the thus obtained Rclicfpluttc was with the Waehsomul · given below sion coated by spraying, dried and then / to form a printing plate during a

(15 Minute mit einer im Abstund von 60 cm von der Isolierplatte ungeordneten 3-KW-l lochdriickqucck&ll· bcrlampe nuchbcliduct. Die Seilen der Relii'fbllcler der Platte sowie die Oberfläche des Trllgers waren nicht (15 minutes with a 3-KW-1 perforated square lamp at a distance of 60 cm from the insulating plate. The ropes of the reliefs of the plate and the surface of the carrier were not

7UO 030/2277UO 030/227

viskos. Unter Verwendung dieser Druckplatten wurden klare und exakte Drucke erzielt.viscous. Clear and precise prints were obtained using these printing plates.

Herstellung der WachsemulsionPreparation of the wax emulsion

Zusammensetzungcomposition

Gewichlsteile Weight parts

Carnaubawachs
Polyoxyäthylenstearat
Ascorbinsäure
WasserCarnauba wax
Polyoxyethylene stearate
Ascorbic acid
water

10 3 110 3 1

8686

Die Wachsemulsion wurde hergestellt, indem das Gemisch unter kräftigem Rühren auf 100⁰C erhitzt wurde und das Rühren fortgesetzt wurde, bis die Temperatur auf Raumtemperatur abgekühlt war.The wax emulsion was prepared by heating the mixture to 100 ^° C. with vigorous stirring and continuing the stirring until the temperature had cooled to room temperature.

Example 4

60 Gewichtsteile Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 85, 30 Gewichtsteile Triäthylenglykoldimethacrylat, 20 Gewichtsteile 2-Hydroxyäthylmethacrylat, 1 Gewichtsteil Benzoinmethyläther, 0,05 GeTabelle 1
Wäßrige Lösung60 parts by weight of polyvinyl alcohol with a degree of saponification of 85, 30 parts by weight of triethylene glycol dimethacrylate, 20 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, 1 part by weight of benzoin methyl ether, 0.05 GeTable 1
Aqueous solution

wichtsteile Hydrochinon und 200 Gewichtsteile Wassei wurden gründlich vermischt, um ein lichtempfindliche: Material herzustellen. Dann wurde ein Abstandskörpei einer Dicke von 0,2 mm auf eine Glasplatte gelegt unc das erhaltene lichtempfindliche Material wurde darau: gegossen und mit Warmluft getrocknet, wobei eine 0,2 mm dicke Platte des lichtempfindlichen Material; gebildet wurde. Die Platte wurde auf eine 0,3 mm dicke Aluminiumplatte mit Hilfe eines Klebstoffes (Lösungparts by weight of hydroquinone and 200 parts by weight of water were mixed thoroughly to create a photosensitive: To manufacture material. Then a spacer with a thickness of 0.2 mm was placed on a glass plate and unc the obtained photosensitive material was then: poured and dried with warm air, whereby a 0.2mm thick photosensitive material plate; was formed. The plate was made to a 0.3 mm thick Aluminum plate with the help of an adhesive (solution

ίο von Polyvinylbutyral in Butylacetat, Tetrastoffgehalt 3ί Gew.-%) aufgeklebt und die erhaltene Platte wurde ir einen Vakuumrahmen gelegt und während einer Minute durch einen Negativfilm mit einer wassergekühlter Hochdruck-Quecksilberlampe von 3 KW in einen Abstand von 60 cm belichtet. Nach dem Auswascher der nicht belichteten Bereiche mit Wasser von 50°C wurde die Platte in die Lösung gemäß Beispiel Versuch 15 während 30 Sekunden eingetaucht, danacl getrocknet und während einer Minute mit der vorhe angewendeten Lichtquelle nachbelichtet. Die erhalten! Platte führte durch Offsetdruck zu Abdrucken hohe Qualität im Vergleich mit einer Platte, die nicht mit de Paraffinwachsemulsion behandelt worden war.ίο of polyvinyl butyral in butyl acetate, tetra fuel content 3ί Wt .-%) and the resulting plate was placed in a vacuum frame and for one minute through a negative film with a water-cooled high pressure mercury lamp of 3 KW into one Exposed at a distance of 60 cm. After washing out the unexposed areas with water at 50 ° C the plate was immersed in the solution according to Example Experiment 15 for 30 seconds, then dried and post-exposed for one minute with the previously used light source. The received! Offset printing plate resulted in high quality imprints compared with a plate that did not match de Paraffin wax emulsion had been treated.

Versuch Wasserlösliche polymere Verbindung (Gew.-%)Experiment water-soluble polymeric compound (% by weight)

Reduktionsmittel
(Gew.-%)Reducing agent
(Wt .-%)

Zeit (Min.)Time (min.)

11 NatriumalginatSodium alginate 22 NatriumalginatSodium alginate 33 NatriumalginatSodium alginate 44th NatriumalginatSodium alginate 55 NatriumalginatSodium alginate 66th GummiarabicumGum arabic 77th GummiarabicumGum arabic 88th GummiarabicumGum arabic 99 GummiarabicumGum arabic 1010 GummiarabicumGum arabic 1111th GummiarabicumGum arabic 1212th GummiarabicumGum arabic 1313th GummiarabicumGum arabic 1414th GummiarabicumGum arabic 1515th GummiarabicumGum arabic 1616 GummiarabicumGum arabic 1717th GummiarabicumGum arabic 1818th GummiarabicumGum arabic 1919th Carboxymethylcellulose mit einemCarboxymethyl cellulose with a VerUtherungsgrnd von 0,8Dietary factor of 0.8 2020th GummiarabicumGum arabic 2121 Curboxyllthylcellulose mit einemCurboxyl ethyl cellulose with a Verüthemngsgrnd von 0,8Reason of suspicion of 0.8 2222nd dcsgl.dcsgl. 2323 desgl.the same 2424 GummiarabicumGum arabic 2525th Polyvinylalkohol mit einem Ver-Polyvinyl alcohol with a seifungsgrud von 85%soap level of 85% 2626th desgl.the same 2727 Hydroxyllthylcellulo.se mit einemHydroxyllthylcellulo.se with a Vcrütherungsgrud von 1,5Prevention factor of 1.5 2828 desgl.the same 2929 dcsgl.dcsgl. 30
3130th
31 desgl.
desgl.the same
the same

0,5 Ascorbinsäure0.5 ascorbic acid

0,5 Thioharnstoff0.5 thiourea

0,5 Allylthioharnstoff0.5 allyl thiourea

0,5 Methylthioharnstoff0.5 methylthiourea

1,5 Acetylthioharnstoff1.5 acetylthiourea

1,5 Thiosemicarbazid1.5 thiosemicarbazide

1,5 Phenylthioharnstoff1.5 phenylthiourea

1,5 Acetylthioharnstoff1.5 acetylthiourea

2,0 N.N'-Methylüthylthio-2.0 N.N'-methylethylthio-

harnstoffurea

2,0 N.N-Diacctylmcthylthio-2.0 N.N-diacctylmethylthio-

harnstoffurea

1,5 Tetiaallylthioharnstoff1.5 tetiaallylthiourea

1,5 Glucose1.5 glucose

2,0 Lactose2.0 lactose

2,0 Mannose2.0 mannose

4,0 Galactose4.0 galactose

5,0 Maltose5.0 maltose

1,5 Ascorbinsäure1.5 ascorbic acid

1,5 Athylendiumintetraucetat1.5 ethylenedium intetracetate

0,5 Äthylendiumintetrnessig·0.5 ethylenedium tetressig

sütiro-Kaliumsalzsütiro potassium salt

2,0 Oxalsäure2.0 oxalic acid

0,5 KnliumhydiOgenoxiilut0.5 Hydrogen Oxide

0,5 Niurlumoxuliu0.5 Niurlumoxuliu

0,5 Knliiitmhiosulfiu0.5 Knliiitmhiosulfiu

3,0 Ammoniumthlosulfat3.0 ammonium thlosulfate

0,5 Nutrlumthiosulfai0.5 nutrlumthiosulfai

0,5 Oxulslture0.5 oxulslture

1,0 Ammonlumihlosulful1.0 Ammonlumihlosulful

I₁O StunnoehloridI ₁ O stunnorid

1,0 Stunnobi'omid1.0 stunnobi'omid

1,0 Forrochlorid1.0 forrochloride

1,0 Fen'oncetut1.0 Fen'oncetut

0,5
1,0
1,0
1,0
1,0
0,5
0,5
1,0
1,00.5
1.0
1.0
1.0
1.0
0.5
0.5
1.0
1.0

1,01.0

1,0
1,0
1,0
1,0
1,0
1,0
0,5
0,5
1,01.0
1.0
1.0
1.0
1.0
1.0
0.5
0.5
1.0

0,5
1,00.5
1.0

1,0
I₁O
1,0
1,01.0
I ₁ O
1.0
1.0

0,5
1,00.5
1.0

0,5
0,50.5
0.5

1,0
ι η 1.0
ι η

3,0 3,0 2,5 3,0 3,0 3,0 6,0 5,0 4,03.0 3.0 2.5 3.0 3.0 3.0 6.0 5.0 4.0

3,53.5

5,0 3,0 2.5 3.5 5,5 3,0 2,5 3,0 6,05.0 3.0 2.5 3.5 5.5 3.0 2.5 3.0 6.0

4,0 5,04.0 5.0

6,0 5,5 4,0 2,56.0 5.5 4.0 2.5

2,5 3,52.5 3.5

2,0 2,5 3,52.0 2.5 3.5 inin

1111th Fortsetzungcontinuation Wasserlösliche polymereWater soluble polymers 22 6322 63 Verbindungconnection einem Zahlen- 2,0a number 2.0 2,02.0 Tabelle 2Table 2 ReduktionsmittelReducing agent 804804 Zeittime 1212th 0,50.5 Zeittime Versuchattempt (Gew.-%)(Wt .-%) mittel des Molekulargewichts vonaverage molecular weight of Wäßrige LösungAqueous solution (Min.)(Min.) (Min.)(Min.) II. Polyäthylenglykol mitPolyethylene glycol with einem Zahlen- 2,0a number 2.0 2000020000 VerVer Keines (Wasser)None (water) bb -- 5,05.0 3232 mittel des Molekulargewichts vonaverage molecular weight of desgl.the same suchsearch StannoehloridStannous chloride 2,52.5 0,50.5 2000020000 ohne Behandlungwithout treatment 11 StannosulfatStannosulfate 3,53.5 22 StannoaceuuStannoaceuu 3,03.0 7,07.0 3333 Polyvinylpyrrolidon mit einem Zahlen- 0,5Polyvinylpyrrolidone with a number - 0.5 33 FerrobromidFerrobromide ReduktionsmittelReducing agent 2,52.5 0,50.5 mittel des Molekulargewichts vonaverage molecular weight of 44th FerroammoniumsulfatFerroammonium sulfate (Gew.-%)(Wt .-%) 4,04.0 4000040000 55 AllylthioharnstoffAllyl thiourea 3,53.5 3,53.5 3434 Polyäthylenglykol mitPolyethylene glycol with bb MethyllhioharnstoffMethyl thiourea AscorbinsäureAscorbic acid 3,03.0 1,01.0 JJ AcetylthioharnstoffAcetylthiourea 4,54.5 BB. PhenyhhioharnstoffPhenyhiourea 4,04.0 4,04.0 3535 99 ThiosemicarbazidThiosemicarbazide desgl.the same 2,52.5 >3C> 3C Vergleichcomparison 1010 TriallylthioharnsioffTriallyl thiouritis 3,53.5 1111th Glucoseglucose 3,03.0 1212th LactoseLactose 3,03.0 1313th AscorbinsäureAscorbic acid 3,53.5 1414th Äthylcndiaminlcira-Ethylcndiaminlcira- 4.04.0 1515th essigsüurcacetic acid 1616 Äthylendiumintctra-Ethylenedium intrac- 4,04.0 cssigslUirc-Kaliumsal/.cssigslUirc-Kaliumsal /. StannochloridStannous chloride 1717th OxalsäureOxalic acid 4,54.5 NatriumhydrogcnoxalaiSodium Hydrogenoxalai 3,53.5 1818th KaliumoxalutPotassium oxalutene 5,05.0 1919th NiitritimihiosuiratNiitritimihiosuirat 5,55.5 2020th CulciumihiosulfatCulcium ihiosulfate KaliumthiocyanatPotassium thiocyanate 4,54.5 2121 AmmoniuimliiosulfalAmmoniuimliiosulfal 3,03.0 2222nd NuiriumthiocyutuiiNuirium thiocyutuii 4,04.0 2323 KuliumthlocyunutKuliumthlocyunut 3,53.5 2424 CaleiumthioeyumilCaleiumthioeyumil Gew.-°/o% By weight 5,05.0 2525th 2b2 B 0,50.5 0,50.5 0,50.5 0,50.5 1,01.0 1,01.0 0,50.5 0,50.5 1,01.0 0,50.5 0,50.5 1,01.0 1.01.0 0,50.5 1.01.0 1.01.0 1.01.0 1,51.5 1,51.5 2,02.0 0,50.5 1.01.0 0,50.5 0,50.5 0,50.5

Claims

Patent claims:

1. Process for the production of a relief plate by imagewise exposing a photosensitive recording material to a photopolymerizable one Layer, developing the recording material into a relief by dissolving out the unexposed areas of the photopolymerizable Layer and post-exposure of the resulting relief, characterized in that before the Post-exposure with an aqueous solution or an emulsion is treated, the 0.05 to 60 wt .-% of at least one membrane-forming polymer Compound or a wax and a thiourea compound of the formula