DE19956753A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Tempern von flachen Körpern - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Tempern von flachen KörpernInfo
- Publication number
- DE19956753A1 DE19956753A1 DE1999156753 DE19956753A DE19956753A1 DE 19956753 A1 DE19956753 A1 DE 19956753A1 DE 1999156753 DE1999156753 DE 1999156753 DE 19956753 A DE19956753 A DE 19956753A DE 19956753 A1 DE19956753 A1 DE 19956753A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- tempering
- tempering container
- ceramic
- container
- particularly preferably
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 238000005496 tempering Methods 0.000 title claims abstract description 83
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims abstract description 42
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 32
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 38
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000505 Al2TiO5 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 3
- AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N propan-2-yl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(C)C AABBHSMFGKYLKE-SNAWJCMRSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 210000004127 vitreous body Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B27/00—Tempering or quenching glass products
- C03B27/04—Tempering or quenching glass products using gas
- C03B27/044—Tempering or quenching glass products using gas for flat or bent glass sheets being in a horizontal position
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B27/00—Tempering or quenching glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B27/00—Tempering or quenching glass products
- C03B27/012—Tempering or quenching glass products by heat treatment, e.g. for crystallisation; Heat treatment of glass products before tempering by cooling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B35/00—Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
- C03B35/14—Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands
- C03B35/20—Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands by gripping tongs or supporting frames
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Tempern von flachen Körpern insbesondere aus einem amorphen, anorganischen Werkstoff, insbesondere Flachglasscheiben oder Glaskeramikscheiben, wobei einer oder mehrere der flachen Körper einer Wärmebehandlung im Temperaturbereich zwischen Raumtemperatur und der jeweiligen Glasübergangstemperatur unterzogen werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Wärmebehandlung in einem Temperbehälter durchgeführt wird.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Tempern von flachen Körpern z. B.
aus einem amorphen, anorganischen Werkstoff, insbesondere
Flachglasscheiben, bei dem eine oder mehrere Flachglasscheiben innerhalb
eines Temperbehälters einer Wärmebehandlung im Bereich zwischen
Raumtemperatur und der jeweiligen Glasübergangstemperatur, d. h.
typischerweise bis zu 1000°C, unterzogen wird bzw. werden sowie einen
geschlossenen ausgeführten Temperbehälter zum Tempern flacher Körper z. B.
solchen aus einem amorphen, anorganischen Werkstoff, insbesondere
Flachglasscheiben und die Verwendung eines derartigen Behälters zur
Wärmebehandlung, beispielsweise Tempern, von Flachglasscheiben,
insbesondere für Displayanwendungen oder von Glaskeramikscheiben.
Bei der Herstellung von flachen Körpern aus einem amorphen, anorganischen
Werkstoff, vorzugsweise Flachglas, ist es, insbesondere im Fall von zumeist
im Ziehverfahren erhaltenen Displaygläsern, erforderlich, die flachen Körper
bzw. Flachglasscheiben nach ihrer Herstellung einer weiteren
Wärmebehandlung zu unterziehen. Diese Notwendigkeit ergibt sich
beispielsweise aus besonderen Anforderungen an die Planität der
Glasscheiben, die unter Umständen direkt im Heißformgebungsprozeß nicht
eingerichtet werden können. In diesem Fall läßt sich die Planität nachträglich
verbessern, indem man die Flachglasscheiben auf einer ebenen Unterlage auf
eine Temperatur in der Größenordnung der Glasübergangstemperatur
erwärmt, bei dieser Temperatur eine Zeit lang hält, so daß das Glas sich unter
seinem Eigengewicht an die Unterlage anpaßt, und schließlich langsam
wieder abkühlt. Die so erreichbare Planität der Glasscheiben ist im
wesentlichen nur noch von der Planität der Unterlage und der
Dickenverteilung abhängig.
Ein weiterer, ebenso wichtiger Grund, Flachglasscheiben einer nachträglichen
Wärmebehandlung zu unterziehen, ergibt sich aus den besonderen
Eigenschaften der Glasstruktur. Glas ist strukturell amorph, wobei seine
amorphe Struktur nicht fest ist, sondern empfindlich von der thermischen
Vorgeschichte abhängt. Sie kann sich auch nach der Herstellung noch
ändern, wenn man das Glas wieder auf Temperaturen erwärmt, bei denen
Relaxationsprozesse aktiviert werden. Mit jeder Änderung der amorphen
Struktur ist auch eine Änderung des Ordnungszustandes im Glas und somit
eine Änderung der Dichte verbunden. So wird bei schneller Kühlung des
Glases nach der üblicherweise bei Temperaturen weit oberhalb der
Glasübergangstemperatur stattfindenden Heißformgebung eine relativ
ungeordnete Struktur eingefroren, so daß das Glas eine vergleichsweise
geringe Dichte aufweist. Bei einer nachfolgenden Temperaturbelastung kann
diese Struktur teilweise relaxieren und einen Zustand höherer Ordnung
einnehmen, was mit einer Erhöhung der Dichte verbunden ist. Dies bedeutet
jedoch, daß der Glaskörper durch die nachträgliche Erwärmung schrumpft.
Umgekehrt kann es, abhängig von der vorangegangenen Kühlung und der Art
der folgenden Temperaturbelastung, auch dazu kommen, daß die Dichte sinkt
und sich der Glaskörper ausdehnt.
Die auf diese Weise auftretenden Größenänderungen liegen, je nach
Temperaturbelastung und vorangegangener Kühlung typischerweise in der
Größenordnung von maximal 0,1%, vielfach jedoch durch die geringe
Temperaturbelastung (im Haushalt z. B. üblicherweise unter 100°C)
wesentlich darunter, so daß dieser Effekt in den meisten Fällen überhaupt
nicht bemerkbar ist. Bei der Herstellung von Flachbildschirmen ist dieser
Effekt hingegen signifikant, da hier auf einer Flachglasscheibe zumeist in
mehreren aufeinanderfolgenden Schritten strukturierte Schichten,
beispielsweise Halbleiterschichten, bei Temperaturen von typischerweise
250-600°C aufgebracht werden. Ein hierbei auftretender Schrumpf bzw. eine
Ausdehnung hat zur Folge, daß im darauffolgenden Prozeßschritt die
verwendete Maske nicht mehr zu den bereits auf das Glas aufgebrachten
Strukturen paßt. Insbesondere gilt dies für einen beispielsweise durch
Temperaturinhomogenitäten verursachten ungleichmäßigen Schrumpf, da
dieser im Gegensatz zum gleichmäßigen Schrumpf auch durch ein Anpassen
der Masken nicht kompensiert werden kann. Bei einer derartigen Anwendung
ist es daher erforderlich, daß die bei der jeweils relevanten
Temperaturbelastung auftretende Größenänderung typischerweise einen
Betrag in der Größenordnung von 10 ppm nicht übersteigt.
Einen derart geringen Schrumpf bzw. geringe Ausdehnung kann man
erreichen, wenn man die verwendeten Flachglasscheiben nach der
Heißformgebung einer zusätzlichen Wärmebehandlung im Bereich zwischen
Raumtemperatur und der Glasübergangstemperatur unterzieht, bei der eine
starke Vorverdichtung des Glases stattfindet. Eine solche Vorverdichtung hat
zur Folge, daß die mögliche Größenänderung bei nachfolgender
Temperaturbelastung wesentlich kleiner ausfällt. Diesbezüglich wird auf G. W.
Scherer, Relaxation in Glass and Composites, Wiley, 1986, Seiten 113-174
verwiesen.
Wesentlich für den Erfolg dieser zusätzlichen Wärmebehandlung ist neben der
Wahl eines geeigneten Temperaturprogramms, daß diese mit einer sehr
homogenen Temperaturverteilung durchgeführt wird, d. h. sowohl die
Gradienten innerhalb einer Glasscheibe als auch die Temperaturunterschiede
zwischen den einzelnen Scheiben müssen so gering wie möglich gehalten
werden, da sonst zwar der Schrumpf bzw. die Ausdehnung bei nachfolgender
Temperaturbelastung wie erwünscht klein ausfällt, innerhalb einer Scheibe
bzw. zwischen den einzelnen Scheiben jedoch schwankt, was beispielsweise
auch durch eine Maskenanpassung nicht kompensiert werden kann. Diese an
die Temperaturhomogenität gestellte Anforderung gilt hinsichtlich der
Homogenität innerhalb einer Scheibe gleichfalls für eine Temperung zur
Verbesserung der Planität, da Temperaturinhomogenitäten stets zu
Spannungen in der Flachglasscheibe führen.
Ein Verfahren zur Wärmebehandlung von Flachglasscheiben mit hoher
Temperaturhomogenität ist aus der DE 197 44 666 C1 bekannt. Hiernach wird
die Wärmebehandlung in einem Strahlungsofen in der Weise durchgeführt,
daß eine Flachglasscheibe bzw. ein Stapel von Flachglasscheiben sich auf
einer Keramikplatte bzw. zwischen zwei Keramikplatten hoher
Wärmeleitfähigkeit befindet. Durch den Kontakt mit der hochwärmeleitenden
Keramikplatte läßt sich der Einfluß eines im Ofen herrschenden
Temperaturgradienten auf das Glas größenordnungsmäßig halbieren.
Nachteilig an diesem Verfahren ist, daß an den verwendeten Ofen sehr hohe
Ansprüche hinsichtlich seiner Sauberkeit gestellt werden müssen. Da zu
Beginn der Wärmebehandlung die Flachglasscheiben in der Regel noch keine
optimale Planität aufweisen, sind zwischen den einzelnen Scheiben
stellenweise schmale Luftspalte vorhanden, so daß im Ofen befindliche
Partikel zwischen die Scheiben gelangen können und so zu einer
Beschädigung der Oberfläche führen. Diese Gefahr besteht insbesondere bei
Verwendung eines Umluftofens.
Problematisch ist des weiteren, daß die Anwendung des aus der
DE 197 44 666 C1 bekannten Verfahrens im wesentlichen auf einen
Chargenbetrieb im Strahlungsofen beschränkt ist. Jede Passage des
beschriebenen Stapelaufbaus aus Keramikplatten und Flachglasscheiben
durch einen Durchlaufofen kann leicht zur Bildung von Oberflächendefekten
durch Verrutschen der Keramikplatten bzw. Flachglasscheiben führen. Dies
gilt in besonderem Maße bei Verwendung eines Umluftofens, da die im Ofen
herrschenden Luftströmungen ein Verrutschen begünstigen.
In den Schriften JP 05330836 und JP 05339021 wird die Verwendung von
Glaskeramikplatten als Schutz vor von den Ofenwänden bzw. Heizelementen
stammenden Partikeln beschrieben. Diese bieten zwar einen gewissen Schutz
der Flachglasscheiben vor Verunreinigungen aus dem Ofen, können jedoch
eine in einer Produktionsumgebung praktisch unvermeidbare Kontamination
durch Staub aus der Umgebung nicht verhindern.
Eine andere Möglichkeit des Schutzes eines Temperstapels wird in der
JP08151224 aufgezeigt. Hiernach wird der Temperstapel seitlich von
daneben gestellten Quarzgutplatten begrenzt. Nachteilig an diesem Verfahren
ist, daß bedingt durch die mangelnde Dichtigkeit des Aufbaus die Scheiben
nicht zuverlässig gegen Verunreinigungen geschützt sind. Des weiteren kann
bei dieser Anordnung ein Verrutschen der Flachglasscheiben während der
Passage eines Durchlaufofens auch nicht sicher verhindert werden.
Schließlich ist das aus der JP08151224 bekannte Verfahren nicht ausreichend
temperaturhomogenisierend, da die Wärmeleitfähigkeit des hiernach als
Boden- und Deckplatte verwendeten Edelstahls gering ist und keine
Vorkehrungen zur Vermeidung senkrechter Temperaturgradienten getroffen
werden.
Aufgabe der Erfindung ist es, die Nachteile des Standes der Technik zu
überwinden und ein Verfahren zu schaffen, das eine Beschädigung der
Oberflächen der Flachglasscheiben vermeidet. Insbesondere soll eine
Wärmebehandlung auch großer Losgrößen mit hoher Prozeßstabilität
ermöglicht werden.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß die
Wärmebehandlung in einem vorzugsweise geschlossenen Temperbehälter
durchgeführt wird. Hierdurch können Beschädigungen der Oberfläche
aufgrund von Verschmutzungen vermieden werden.
Vorteilhafterweise ist der Temperbehälter derart ausgestaltet oder gelagert,
daß die flachen Körper, vorzugsweise die Flachglasscheiben, während der
Wärmebehandlung, insbesondere auch in einem Durchlaufofen ortsfest fixiert
sind. Dies hat den Vorteil, daß die Flachglasscheiben gegen ein Verrutschen
gesichert sind, so daß Beschädigungen der Oberfläche beispielsweise beim
Transport vermieden werden.
In einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung wird der Temperbehälter
schräg gelagert, so daß an wenigstens zwei Rändern der Flachglasscheiben
wenigstens ein Randpunkt an jeweils wenigstens einem Punkt von wenigstens
zwei der Seitenflächen des Temperbehälters anliegt.
In einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung wird die
Wärmebehandlung einer oder mehrerer Flachglasscheiben in einem
Temperbehälter auf einer Keramikplatte bzw. zwischen zwei Keramikplatten
hoher Wärmeleitfähigkeit durchgeführt. Hierdurch kann eine hohe laterale
Temperaturhomogenität erreicht werden.
Der Temperbehälter ist in der bevorzugten Ausführungsform ein
geschlossener Behälter, bei dem Abdeckfläche und Seitenflächen das
Oberteil des Temperbehälters ausbilden sowie die Auflagefläche das Unterteil.
Dadurch wird die Beladung des Behälters mit den Keramikplatten und
Flachglasscheiben erleichtert.
Der Temperbehälter kann aus Aluminium, Kupfer oder einem anderen
Material hoher Wärmeleitfähigkeit bestehen, wodurch die
Temperaturhomogenität innerhalb des Glases verbessert wird. In einer
alternativen Ausgestaltung bestehen die Seitenwände des Temperbehälters
aus einem Material mit geringer Wärmeleitfähigkeit, was zur Verringerung
lateraler Temperaturgradienten beiträgt.
Erfindungsgemäß können sowohl die Flachglasscheiben als auch die
Keramikplatte durch die Seitenwände des Temperbehälters gegen
Verrutschen gesichert sein, so daß auch ruckartige Bewegungen des
gesamten Aufbaus nicht zu Beschädigungen der Glasoberflächen führen
können. Damit wird die Verwendung eines Durchlaufofens problemlos
möglich. Bevorzugt wird hierbei der Temperbehälter schräg gelagert, so daß
an wenigstens zwei Rändern der Flachglasscheiben wenigstens ein
Randpunkt an jeweils wenigstens einer Seitenfläche des Temperbehälters
anliegt.
Vorteilhafterweise kann die Berührungsfläche zwischen Ober- und Unterteil
des Temperbehälters gestuft, beispielsweise in Form eines Labyrinths
ausgeführt sein, um einen optimalen Schutz der Flachglasscheiben vor
Verschmutzung zu gewährleisten. Damit ist es praktisch möglich, daß
innerhalb des Temperbehälters Reinraumbedingungen herrschen, während
der geschlossene Behälter von außen rauhen Produktionsbedingungen
ausgesetzt ist. Beispielsweise kann auch der in einem Reinraum beladene
Temperbehälter nach Abschluß der Wärmebehandlung von außen gereinigt
und wiederum im Reinraum geöffnet werden, um eine Prozessierung der
Flachglasscheiben unter optimal sauberen Bedingungen zu gewährleisten,
ohne daß hierzu besondere Anforderungen an den Ofen gestellt werden
müssen.
Über die oben genannten Vorteile hinaus tragen die erfindungsgemäße
Vorrichtung und das erfindungsgemäße Verfahren wesentlich dazu bei, daß
die Entstehung von Temperaturgradienten, insbesondere lateraler Gradienten,
innerhalb der Flachglasscheibe bzw. des Stapels aus Flachglasscheiben
weitestgehend vermieden wird. Dies soll anhand eines Beispiels näher
erläutert werden.
Es sei angenommen, daß zur Durchführung der Wärmebehandlung ein Stapel
von Flachglasscheiben auf einer 6 mm dicken Platte aus silicuminfiltriertem
SiC gelagert wird, die aufgrund ihrer hohen Wärmeleitfähigkeit (ca. 100 W/mK
bei 200°C) allein schon einen gewissen Beitrag zur
Temperaturhomogenisierung liefert, wie in der DE 197 44 666 C1 ausgeführt
wird. Liegt diese SiC-Platte ihrerseits auf einer 16 mm dicken Kupferplatte, die
den Boden bzw. die Auflagefläche eines erfindungsgemäßen Temperbehälters
darstellt, so ergibt sich aus der Wärmeleitfähigkeit des Kupfers (373 W/mK bei
200°C) und den anderen obengenannten Daten eine Erhöhung der
temperaturhomogenisierenden Wirkung um den Faktor 10. Den gleichen
Effekt erhält man an der Oberseite des Stapels, vorausgesetzt, der
Temperbehälter ist derart dimensioniert, daß sein Deckel sich im Kontakt mit
der oberen SiC-Platte befindet. Die oben erwähnte Kupferplatte kann auch mit
einer Beschichtung gegen Verzundern versehen sein.
Im Falle eines Kontaktes zwischen oberer SiC-Platte und Deckel bzw.
Abdeckfläche des Temperbehälters besitzt das erfindungsgemäße Verfahren
den weiteren Vorteil, daß bei Verwendung hochwärmeleitfähiger Seitenwände
des Temperbehälters die obere und die untere Keramikplatte thermisch
kurzgeschlossen sind, so daß die Auswirkungen nicht nur horizontaler,
sondern auch vertikaler im Ofen herrschender Temperaturgradienten auf die
Flachglasscheiben weitestgehend eliminiert werden. In einer vorteilhaften
Ausgestaltung der Erfindung kann vorgesehen sein, daß bei einem
Temperbehälter, der vollständig aus einem Material hoher Wärmeleitfähigkeit
besteht, zur Verbesserung der lateralen Temperaturhomogenität die
Seitenwände zusätzlich von einem Material geringer Wärmeleitfähigkeit
umgeben sind.
Wird das erfindungsgemäße Verfahren in einem Strahlungsofen bzw. einem
Ofen, in dem der Wärmetransport zumindest teilweise durch Strahlung erfolgt,
durchgeführt, so ist es vorteilhaft, wenn ein Wärmeaustausch durch Strahlung
zwischen dem Temperbehälter und seiner Umgebung stattfinden kann. Dies
ist im Fall einer stark reflektierenden Metalloberfläche nur sehr eingeschränkt
möglich.
Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung läßt sich der Wärmeaustausch
durch Strahlung dadurch optimieren, daß man den Temperbehälter mit einer
Beschichtung versieht, die im Infrarotbereich eine hohe Emissivität aufweist.
Hierfür können beispielsweise keramische Beschichtungen auf der Basis von
Aluminiumtitanat Verwendung finden. Soll der Wärmetransport bevorzugt über
die Ober- und Unterseite des Temperbehälters stattfinden, was nochmals zur
Verbesserung der lateralen Temperaturhomogenität beiträgt, so kann die
Beschichtung mit hoher Emissivität auf diese Flächen beschränkt sein.
Anhand der Figur und der nachfolgenden Ausführungen soll das
erfindungsgemäße Verfahren und die erfindungsgemäße Vorrichtung
beispielhaft beschrieben werden.
Es zeigen:
Fig. 1 einen erfindungsgemäßen Aufbau eines Temperbehälters zur
Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens.
In Fig. 1 ist ein erfindungsgemäßer Temperbehälters 1 zur Durchführung des
erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt. Der Temperbehälter 1 ist zweiteilig
ausgeführt und besteht aus einem Oberteil 3 sowie einem Unterteil 5. Das
Oberteil 3 umfaßt die Abdeckfläche 4 sowie die Seitenflächen 6.1, 6.2, das
Unterteil 5 den Boden bzw. die Auflagefläche 8 des erfindungsgemäßen
Temperbehälters 1. Bevorzugt ist das Material des Ober- und des Unterteils
des Temperbehälters 1 beispielsweise ein Metall. In einer fortgebildeten
Ausführungsform kann die Metalloberfläche des Temperbehälters 1, die zum
Ofen hin zeigt mit einer nicht dargestellten Beschichtung, die im Infraroten
eine hohe Emissivität besitzt, ausgestaltet sein.
Die Berührungsfläche zwischen Oberteil 3 und Unterteil 5 des
Temperbehälters ist mit einer Stufe 7 ausgeführt. Durch eine derartige
Ausgestaltung wird der Stapels 9 aus Flachglasscheiben 11 im Innern des
Temperbehälters 1 optimal vor dem Eindringen von Verschmutzungen
geschützt. Erfindungsgemäß befindet sich der Stapel 9 aus Flachglasscheiben
11 zwischen zwei im Inneren des Behälters 1 angeordneten Keramikplatten
13, 15, die wiederum in Kontakt mit, der Abdeck- bzw. Auflagefläche stehen.
Vorteilhafterweise werden Keramikplatten mit einer solchen Dicke verwendet,
daß das Verhältnis der gesamten Dicke der Keramikplatten zur Höhe des
gesamten Stapels 9 aus Flachglasscheiben mindestens 1/λ 40 W/(m.K)
beträgt, wobei λ die Wärmeleitfähigkeit des Keramikmaterials im Bereich der
Wärmebehandlungstemperatur ist.
Nachfolgend wird die Durchführung eines erfindungsgemäßen Verfahrens in
einem Temperbehälter 1 beschrieben:
Es wird ein Stapel 9 aus zehn in einer Ultraschallreinigungsanlage gereinigten
Scheiben 11 des Glases D263 (Schott DESAG AG, Grünenplan) im Format
340 × 320 × 1,1 mm3 ohne Verwendung eines Trennmittels gebildet und
zwischen zwei ebenso großen, 6 mm starken plan geschliffenen
Keramikplatten 13, 15 aus siliciuminfiltriertem SiC positioniert. Dieser Aufbau
wird in einen Temperbehälter 1 aus Aluminium (Alimex ACP 5080) mit
entsprechenden Innenabmessungen eingebracht, dessen Decke und
Seitenwände eine Wandstärke von 20 mm besitzen, während die Stärke des
Bodens 5 35 mm beträgt. Während des Temperns ist der Temperbehälter
geschlossen.
Zur Durchführung der Wärmebehandlung wird ein Umluftofen mit 48 Zonen
verwendet, in dem ein Temperaturprofil im Bereich zwischen Raumtemperatur
und 500°C eingestellt wird. Die Vorschubgeschwindigkeit wird so gewählt,
daß die Wärmebehandlung insgesamt 14 Stunden dauert.
Zur Bestimmung der Temperaturhomogenität werden sieben mit einer
Genauigkeit von ± 1°C kalibrierte Thermoelemente vom Typ K verwendet, die
zusätzlich in den Aluminiumkasten so eingebracht werden, daß während der
Wärmebehandlung die Temperaturen an allen sechs Seiten und in der Mitte
des Stapels gemessen werden können. Die Messung wird in Form einer
Schleppmessung unter Verwendung entsprechend langer,
temperaturunempfindlicher Kabel durchgeführt und alle Temperaturen in
Abständen von fünf Minuten registriert.
Als Ergebnis der so beschriebenen Wärmebehandlung ergibt sich eine
Temperaturabweichung innerhalb der Kühlphase, d. h. im relevanten Teil des
Temperprogramms, von typischerweise etwa 2 K. Dies entspricht der
Genauigkeit der verwendeten Thermoelemente, so daß Temperaturgradienten
nicht nachgewiesen werden können. Die Inspektion der Flachglasscheiben
nach der Wärmebehandlung ergibt, daß weder Oberflächendefekte durch
Verrutschen der Scheiben noch eine Kontamination durch aus dem Ofen oder
der Umgebung stammende Partikel nachgewiesen werden können.
Somit gibt die Erfindung erstmals ein Verfahren und eine Vorrichtung zum
Tempern einer Vielzahl von flachen Körpern, insbesondere Flachglasscheiben
an, bei dem Beschädigungen beispielsweise aufgrund von im Ofen
befindlichen Verunreinigungen oder des Transportes durch einen
Durchlaufofen sicher vermieden werden. Des weiteren wird eine hohe
Temperaturhomogenität innerhalb der flachen Körper gewährleistet.
Claims (45)
1. Verfahren zum Tempern von flachen Körpern insbesondere aus einem
amorphen, anorganischen Werkstoff, insbesondere Flachglasscheiben
oder Glaskeramikscheiben, wobei einer oder mehrere der flachen
Körper einer Wärmebehandlung im Temperaturbereich zwischen
Raumtemperatur und der jeweiligen Glasübergangstemperatur
unterzogen werden,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Wärmebehandlung in einem Temperbehälter durchgeführt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Temperbehälter wenigstens eine Auflagefläche umfaßt, auf der der
flache Körper bzw. die flachen Körper aufliegen.
3. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Temperbehälter derart ausgestaltet oder gelagert ist, daß der flache
Körper bzw. die flachen Körper während der Wärmebehandlung
ortsfest fixiert ist bzw. sind.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß der Temperbehälter eine Abdeckfläche umfaßt, die den bzw. die
flachen Körper abdecken.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß im Inneren des Temperbehälters wenigstens eine Keramikplatte
vorgesehen ist.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, da die
Keramikplatten zwischen der Auflagefläche und/oder der Abdeckfläche
und dem flachen Körper bzw. Körpern angeordnet ist bzw. sind.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 oder 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Keramikplatte bzw. Keramikplatten eine hohe
Wärmeleitfähigkeit, vorzugsweise größer als 50 W/mK bei
Raumtemperatur, besonders bevorzugt größer als 80 W/mK bei
Raumtemperatur, aufweist bzw. aufweisen.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die Keramikplatten eine solche Dicke aufweisen, daß das
Verhältnis der gesamten Dicke der Keramikplatten zur Glasstapelhöhe
mindestens 1/λ.40 W/(m.K) beträgt, wobei λ die Wärmeleitfähigkeit
des Keramikmaterials im Bereich der Wärmebehandlungstemperatur ist.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet,
daß die Keramikplatte bzw. Keramikplatten eine hohe Planität,
vorzugsweise besser als 100 µm, besonders bevorzugt besser als 50
µm, ganz besonder bevorzugt besser als 20 µm aufweist bzw.
aufweisen.
10. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß die Keramikplatten eine Rauhigkeit Rtm, ≦ 10 µm,
vorzugsweise ≦ 1 µm aufweisen.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, daß die Keramikplatte bzw. Keramikplatten
Siliciumcarbid, vorzugsweise siliciuminfiltriertes SiC umfaßt bzw.
umfassen.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß der Temperbehälter geschlossen ausgeführt ist.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der
geschlossene Behälter die Auflagefläche, die Abdeckfläche sowie
Seitenflächen umfaßt.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß der Temperbehälter ganz oder teilweise ein
Material mit hoher Wärmeleitfähigkeit, vorzugsweise größer als 200
W/mK bei Raumtemperatur, besonders bevorzugt größer als 350 W/mK
bei Raumtemperatur, umfaßt.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß die Seitenwände ganz oder teilweise ein Material
niedriger Wärmeleitfähigkeit, bevorzugt < 20 W/mK, besonders
bevorzugt < 5 W/mK, insbesondere bevorzugt < 2 W/mK, ganz
besonders bevorzugt < 1 W/mK, umfassen.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch
gekennzeichnet, daß das Material des Temperbehälters Aluminium oder
eine Aluminiumlegierung umfaßt.
17. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch
gekennzeichnet, daß das Material des Temperbehälters Kupfer oder
eine Kupferlegierung umfaßt.
18. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch
gekennzeichnet, daß die Seitenflächen des Temperbehälters fest mit
der Abdeckfläche ergebend ein Oberteil, verbunden sind und die
Auflagefläche ein zweites, getrenntes Unterteil darstellt.
19. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch
gekennzeichnet, daß die Berührungsflächen zwischen Ober- und
Unterteil des Temperbehälters gestuft ausgeführt sind, bevorzugt mit
zwei Stufen, besonders bevorzugt mit drei Stufen.
20. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch
gekennzeichnet, daß das Beladen des Temperbehälters unter
Reinraumbedingungen erfolgt.
21. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 20, dadurch
gekennzeichnet, daß das Entladen des Temperbehälters unter
Reinraumbedingungen erfolgt.
22. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 21, dadurch
gekennzeichnet, daß der Temperbehälter ganz oder teilweise eine
Beschichtung umfaßt, die im Infrarotbereich eine hohe Emissivität,
vorzugsweise größer als 0,5, besonders bevorzugt größer als 0,8,
demgegenüber nochmals bevorzugt größer als 0,9 aufweist.
23. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die
Beschichtung eine keramische Schicht umfaßt.
24. Verfahren nach einem der Ansprüche 22 bis 23, dadurch
gekennzeichnet, daß die Beschichtung Aluminiumtitanat, eine Mischung
von Aluminiumoxid und Titanoxid oder eine Mischung von
Zirkoniumoxid und Chrom(III)-oxid umfaßt.
25. Temperbehälter zum Tempern flacher Körper insbesondere aus einem
amorphen, anorganischen Werkstoff, insbesondere von Flachglas- oder
Glaskeramikscheiben (11), in einem Temperaturbereich zwischen
Raumtemperatur und der Glasübergangstemperatur des zu
tempernden Stoffes dadurch gekennzeichnet, daß der Temperbehälter
geschlossen ausgeführt ist.
26. Temperbehälter gemäß Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß der
Temperbehälter wenigstens eine Auflagefläche umfaßt.
27. Temperbehälter gemäß Anspruch 25 oder 26, dadurch gekennzeichnet,
daß der Temperbehälter (1) Mittel umfaßt, die derart ausgestaltet sind,
daß der flache Körper bzw. die, flachen Körper während der
Wärmebehandlung ortsfest fixiert ist bzw. sind.
28. Temperbehälter nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß die
Mittel zum Fixieren der flachen Körper während der Wärmebehandlung
Seitenflächen (6.1, 6.2) sind.
29. Temperbehälter nach einem der Ansprüche 25 bis 28, dadurch
gekennzeichnet, daß die Seitenflächen (6.1, 6.2) des Temperbehälters
fest mit einer Abdeckfläche (4) ergebend ein Oberteil verbunden sind
und die Auflagefläche (8) ein zweites getrenntes Unterteil (5) darstellt.
30. Temperbehälter nach einem der Ansprüche 25 bis 29, dadurch
gekennzeichnet, daß die Berührungsflächen zwischen Ober- und
Unterteil (3, 5) des Temperbehälters (1) gestuft ausgeführt sind,
bevorzugt mit zwei Stufen (7), besonders bevorzugt mit drei Stufen.
31. Temperbehälter nach einem der Ansprüche 25 bis 30, dadurch
gekennzeichnet, daß dieser derart ausgestaltet ist, daß im Innern des
Temperbehälters Keramikplatten angeordnet werden können.
32. Temperbehälter gemäß Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet, daß die
Keramikplatte(n) zwischen der Auflagefläche und/oder der
Abdeckfläche und dem flachen Körper bzw. den flachen Körpern
angeordnet ist bzw. sind.
33. Temperbehälter nach einem der Ansprüche 31 bis 32, dadurch
gekennzeichnet, daß die Keramikplatte bzw. Keramikplatten (13, 15)
eine hohe Wärmeleitfähigkeit, vorzugsweise größer als 50 W/mK bei
Raumtemperatur, besonders bevorzugt größer als 80 W/mK bei
Raumtemperatur aufweist bzw. aufweisen.
34. Temperbehälter nach einem der Ansprüche 31 bis 33, dadurch
gekennzeichnet, daß die Keramikplatten eine solche Dicke aufweisen,
daß das Verhältnis der gesamten Dicke der Keramikplatten zur
Glasstapelhöhe mindestens 1/λ.40 W/(m.K) beträgt, wobei λ die
Wärmeleitfähigkeit des Keramikmaterials im Bereich der
Wärmebehandlungstemperatur ist.
35. Temperbehälter nach einem der Ansprüche 31 bis 34, dadurch
gekennzeichnet, daß die Keramikplatte bzw. Keramikplatten (13, 15)
eine hohe Planität, vorzugsweise besser als 100 µm, besonders
bevorzugt besser als 50 µm ganz besonders bevorzugt besser als
20 µm aufweist bzw. aufweisen.
36. Temperbehälter gemäß einem der Ansprüche 31 bis 35,
dadurch gekennzeichnet, daß die Keramikplatten eine Rauhigkeit Rtm ≦
10 µm, vorzugsweise 1 µm aufweisen.
37. Temperbehälter gemäß einem der Ansprüche 31 bis 36, dadurch
gekennzeichnet, daß die Keramikplatte bzw. die Keramikplatten
Siliciumcarbid, vorzugsweise siliciuminfiltriertes SiC umfaßt bzw.
umfassen.
38. Temperbehälter nach einem der Ansprüche 25 bis 37, dadurch
gekennzeichnet, daß der Temperbehälter ein Material mit hoher
Wärmeleitfähigkeit, vorzugsweise größer als 200 W/mK bei
Raumtemperatur, besonders bevorzugt größer als 350 W/mK bei
Raumtemperatur umfaßt.
39. Temperbehälter gemäß einem der Ansprüche 25 bis 38, dadurch
gekennzeichnet, daß die Seitenwände ganz oder teilweise ein Material
niedriger Wärmeleitfähigkeit, bevorzugt < 20 W/mK; besonders
bevorzugt < 5 W/mK, insbesondere bevorzugt < 2 W/mK, ganz
besonders bevorzugt < 1 W/mK umfassen.
40. Temperbehälter nach einem der Ansprüche 25 bis 39, dadurch
gekennzeichnet, daß der Temperbehälter ganz oder teilweise eine
Beschichtung umfaßt, die im Infraroten eine hohen Emissivität,
vorzugsweise größer als 0,5, besonders bevorzugt größer als 0,8,
demgegenüber nochmals bevorzugt größer als 0,9 aufweist.
41. Temperbehälter gemäß Anspruch 40, dadurch gekennzeichnet, daß die
Beschichtung eine keramische Schicht umfaßt.
42. Temperbehälter nach einem der Ansprüche 40 bis 41, dadurch
gekennzeichnet, daß die Beschichtung Aluminiumtitanat, eine Mischung
von Aluminiumoxid und Titanoxid oder eine Mischung von
Zirkoniumoxid und Chrom(III)-oxid umfaßt.
43. Temperbehälter nach einem der Ansprüche 25 bis 42, dadurch
gekennzeichnet, daß das Material des Temperbehälters Aluminium oder
eine Aluminiumlegierung umfaßt.
44. Temperbehälter nach einem der Ansprüche 25 bis 43, dadurch
gekennzeichnet, daß das Material des Temperbehälters Kupfer oder
eine Kupferlegierung umfaßt.
45. Verwendung eines Temperbehälters gemäß einem der Ansprüche 25
bis 44, zum Tempern von einem oder mehreren der nachfolgenden
Materialien:
- - Flachglasscheiben
- - Displaygläser
- - Glaskeramikplatten
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1999156753 DE19956753A1 (de) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | Verfahren und Vorrichtung zum Tempern von flachen Körpern |
| PCT/EP2000/011535 WO2001038241A1 (de) | 1999-11-25 | 2000-11-21 | Verfahren und vorrichtung zum tempern von flachen körpern |
| AU18583/01A AU1858301A (en) | 1999-11-25 | 2000-11-21 | Method and device for annealing flat bodies |
| EP00981280A EP1242321A1 (de) | 1999-11-25 | 2000-11-21 | Verfahren und vorrichtung zum tempern von flachen körpern |
| TW89125012A TW498057B (en) | 1999-11-25 | 2000-12-30 | Method and device for annealing flat bodies |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1999156753 DE19956753A1 (de) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | Verfahren und Vorrichtung zum Tempern von flachen Körpern |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19956753A1 true DE19956753A1 (de) | 2001-06-28 |
Family
ID=7930296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1999156753 Ceased DE19956753A1 (de) | 1999-11-25 | 1999-11-25 | Verfahren und Vorrichtung zum Tempern von flachen Körpern |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1242321A1 (de) |
| AU (1) | AU1858301A (de) |
| DE (1) | DE19956753A1 (de) |
| TW (1) | TW498057B (de) |
| WO (1) | WO2001038241A1 (de) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI508179B (zh) * | 2010-07-23 | 2015-11-11 | Sunshine Pv Corp | 薄膜太陽能電池的退火裝置 |
| ES2906186T3 (es) | 2012-04-09 | 2022-04-13 | Univ Columbia | Método para la preparación de nanoporo y usos del mismo |
| TWI481057B (zh) * | 2012-05-24 | 2015-04-11 | Sunshine Pv Corp | 薄膜太陽能電池的退火裝置 |
| CA3143926A1 (en) * | 2021-08-19 | 2023-02-19 | James William Masten | Thermophysical process for the heat treatment of glass |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DD158938A1 (de) * | 1981-05-19 | 1983-02-09 | Kurt Kessler | Einsatz fuer einen kammerofen |
| JPH05330836A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-14 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス物品の徐冷炉 |
| JPH05339021A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-21 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス板の徐冷方法 |
| JPH08151224A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-06-11 | Asahi Glass Co Ltd | 板ガラスの処理方法 |
| DE19744666C1 (de) * | 1997-10-10 | 1999-06-17 | Schott Glas | Verfahren zum Vorverdichten von Flachglas |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3806330A (en) * | 1968-03-26 | 1974-04-23 | Saint Gobain | Apparatus for treatment of glass sheets |
| DE19813910A1 (de) * | 1998-03-28 | 1999-09-30 | Ald Vacuum Techn Gmbh | Vorrichtung zur Wärmebehandlung von plattenförmigen beschichteten Substraten |
-
1999
- 1999-11-25 DE DE1999156753 patent/DE19956753A1/de not_active Ceased
-
2000
- 2000-11-21 AU AU18583/01A patent/AU1858301A/en not_active Abandoned
- 2000-11-21 WO PCT/EP2000/011535 patent/WO2001038241A1/de not_active Ceased
- 2000-11-21 EP EP00981280A patent/EP1242321A1/de not_active Withdrawn
- 2000-12-30 TW TW89125012A patent/TW498057B/zh active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DD158938A1 (de) * | 1981-05-19 | 1983-02-09 | Kurt Kessler | Einsatz fuer einen kammerofen |
| JPH05330836A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-14 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス物品の徐冷炉 |
| JPH05339021A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-21 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス板の徐冷方法 |
| JPH08151224A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-06-11 | Asahi Glass Co Ltd | 板ガラスの処理方法 |
| DE19744666C1 (de) * | 1997-10-10 | 1999-06-17 | Schott Glas | Verfahren zum Vorverdichten von Flachglas |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Relaxation in Glass and Composites, Wiley 1986, S. 113-174 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1242321A1 (de) | 2002-09-25 |
| TW498057B (en) | 2002-08-11 |
| AU1858301A (en) | 2001-06-04 |
| WO2001038241A1 (de) | 2001-05-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE102010006232B4 (de) | Hochleistungsglaskeramik und Verfahren zur Herstellung einer Hochleistungskeramik sowie ihre Verwendung | |
| DE102014205658B4 (de) | Floatverfahren zur Herstellung einer Floatglasscheibe und Floatglasscheibe | |
| DE19744666C1 (de) | Verfahren zum Vorverdichten von Flachglas | |
| EP2878584B1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Bauteils aus Quarzglas oder Quarzgut | |
| EP2414297B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur keramisierung von gläsern | |
| DE102007004242B4 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Formkörpers aus Quarzglas durch Sintern, Formkörper und Verwendung des Formkörpers | |
| DE3939473A1 (de) | Duennschicht-halbleiter und verfahren zu dessen herstellung | |
| DE102013104589B4 (de) | Floatglasscheibe und Verfahren zur Herstellung einer Floatglasscheibe | |
| DE102010043326A1 (de) | Verfahren zur festigkeitssteigernden Keramisierung eines gefloateten kristallisierbaren Glases | |
| DE1496611B1 (de) | Durchsichtige glaskeramik mit niedrigem waermeausdehnungs koeffizienten verfahren zur herstellung eines aus ihr be stehenden gegenstanes ihre verwendung in teleskopspiegeln sowie thermisch kristallisierbares gla | |
| DE10017696A1 (de) | Transparente Abdeckung der Strahlungsquelle von Lampen | |
| DE19956753A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Tempern von flachen Körpern | |
| DE10017699A1 (de) | Verglasung von Räumen, die einem extrem hohen Temperaturgradienten ausgesetzt sind | |
| DE4420024C2 (de) | Halbzeug in Form eines Verbundkörpers für ein elektronisches oder opto-elektronisches Halbleiterbauelement | |
| DE19918001C2 (de) | Hitzbeständiges, synthetisches Quarzglas und Herstellungsverfahren dafür | |
| WO2002016677A1 (de) | Quarzglastiegel sowie verfahren zur herstellung desselben | |
| DE112022000090B4 (de) | Material mit nanogranularer struktur und verfahren zur herstellung hiervon | |
| EP4108641A1 (de) | Formkörper aus opakem quarzglas sowie verfahren zur herstellung desselben | |
| EP4345074B1 (de) | Brennhilfsmittel aus einem verbundmaterial, verbundmaterial und verfahren zu dessen herstellung sowie dessen verwendung | |
| DE1514012C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Dünnschichtkondensators | |
| DE102015223950A1 (de) | Substrat für eine Sensoranordnung für ein Widerstandsthermometer, Sensoranordnung, Widerstandsthermometer und Verfahren zur Herstellung eines solchen Substrats | |
| DE4204867C2 (de) | ||
| DE102022125049A1 (de) | Glasscheibe mit geringen optischen Fehlern, insbesondere geringen oberflächennahen Brechkräften, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung | |
| DE2719045B2 (de) | Schichtwiderstand und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| EP4345071A1 (de) | Glasscheibe mit geringen optischen fehlern, insbesondere geringen oberflächennahen brechkräften, verfahren zu deren herstellung sowie deren verwendung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| 8131 | Rejection |