DE19923655A1

DE19923655A1 - Device for treating track, sheet or plate-shaped substrate with electric corona discharge, has suction device that sucks out air between substrate and support surface with air suction opening(s)

Info

Publication number: DE19923655A1
Application number: DE1999123655
Authority: DE
Inventors: Klaus W Gerstenberg; Volker Schaft
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1999-05-22
Filing date: 1999-05-22
Publication date: 2000-12-07

Abstract

The device has a treatment electrode and a counter electrode forming a treatment gap between them in which the substrate (3) can be placed and a substrate support element with a substrate support surface (8). A suction device (10) sucks out the air between the substrate and the support surface, which has at least one air suction opening.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Behand lung einer Oberfläche eines als Bahn, Bogen, Platte oder dergleichen vorliegenden Substrats mittels elektrischer Koronaentladung gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1.The invention relates to a device for treatment development of a surface as a sheet, arch, plate or the like present substrate electrical corona discharge according to the preamble of Claim 1.

Einige Materialien beziehungsweise Substrate haben die Eigenschaft, daß ein auf ihre Oberfläche aufge brachtes vorzugsweise flüssiges Medium die Oberflä che nicht gleichmäßig benetzt, sondern sich trop fenförmig verteilt oder überhaupt nicht auf der Oberfläche haftet. Insbesondere lassen sich deshalb solche Materialien nicht bedrucken oder beschich ten.Have some materials or substrates the property of being on their surface brought preferably liquid medium to the surface che not wetted evenly, but tropically distributed like a window or not at all on the Surface adheres. In particular, therefore do not print or coat such materials ten.

Eine Vorrichtung zur Behandlung einer Materialober fläche ist aus der EP 02 53 145 B1 bekannt. Diese dient zur Behandlung der Materialoberfläche mittels einer elektrischen Koronaentladung. Sie besitzt eine auch als Koronaelektrode bezeichnete Behand lungselektrode und eine Gegenelektrode, die als Walze ausgebildet ist. Auf der Walze liegt das zu behandelnde Material als Bahn auf und wird mit Ab stand unter der Behandlungselektrode vorbeigeführt. Durch Anlegen einer hohen elektrischen Spannung tritt zwischen der Behandlungselektrode und der Ma terialbahn eine Koronaentladung auf, die die Mate rialoberfläche derart beeinflußt, daß eine nachfol gende Beschichtung des Materials erleichtert oder sogar erst ermöglicht wird.A device for treating a material upper Area is known from EP 02 53 145 B1. This is used to treat the surface of the material an electrical corona discharge. she owns a treatment also called a corona electrode tion electrode and a counter electrode, which as Roll is formed. That's on the roller treating material as a web and is with Ab stood under the treatment electrode. By applying a high electrical voltage occurs between the treatment electrode and the Ma a corona discharge that the mate rial surface so influenced that a subsequent coating of the material facilitates or is even made possible.

Nachteilig bei der bekannten Vorrichtung ist, daß sich als Bogen oder Platte vorliegende Materialien nicht oder nur schwer behandeln lassen.A disadvantage of the known device is that materials present as sheets or sheets not or difficult to be treated.

Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Vorrich tung der eingangs genannten Art anzugeben, mit der auch als Bogen oder Platte vorliegende Substrate mittels elektrischer Koronaentladung behandelbar sind.It is therefore an object of the invention, a Vorrich tion of the type mentioned at the beginning with which substrates also available as sheets or sheets treatable by electrical corona discharge are.

Diese Aufgabe wird mit einer Vorrichtung zur Be handlung einer Oberfläche eines als Bahn, Bogen, Platte oder dergleichen vorliegenden Substrats mit tels elektrischer Koronaentladung gelöst, die die Merkmale des Anspruchs 1 aufweist. Diese Vorrich tung besitzt eine Behandlungselektrode und eine Ge genelektrode, die zwischen sich einen Behandlungs spalt bilden, in den das auch als Material bezeich nete Substrat einbringbar ist. Weiterhin weist die Vorrichtung ein Substratstützelement auf, welches eine Auflagefläche für das Substrat besitzt. Erfin dungsgemäß ist dem Substratstützelement eine Absau geinrichtung zugeordnet, die zum Absaugen der zwi schen Substrat und Auflagefläche vorliegenden Luft dient. Somit wird während der Behandlung der Mate rialoberfläche beziehungsweise Substratoberfläche sichergestellt, daß das zu behandelnde Substrat sicher auf dem Substratstützelement aufliegt bezie hungsweise gegen Verrutschen auf dem Substrat stützelement ausreichend gesichert beziehungsweise fixiert ist.This task is carried out with a device for loading act of a surface one as a web, arch, Plate or the like present substrate solved by electrical corona discharge, which the Features of claim 1. This device device has a treatment electrode and a Ge gene electrode that has a treatment between them form a gap in which this is also referred to as material Nete substrate can be introduced. Furthermore, the Device on a substrate support element, which has a support surface for the substrate. Erfin According to the invention, the substrate support element is a suction g device assigned to suction the two air and substrate serves. Thus, during the treatment of the mate rial surface or substrate surface ensured that the substrate to be treated rests securely on the substrate support element against slipping on the substrate support element sufficiently secured respectively is fixed.

Insbesondere wenn bei der eingangs beschriebenen bekannten Vorrichtung die Materialbahn der Behand lungselektrode schnell, das heißt mit hoher Ge schwindigkeit zugeführt wird, ist es insbesondere bei sehr dünnen Substraten möglich, daß sich diese vom Substratstützelement ablösen, wodurch die Be handlung mittels elektrischer Koronaentladung nicht mehr möglich ist. Dieser Ablöseeffekt wird bei der bekannten Vorrichtung noch verstärkt, da diese eine Gasabsaugeinrichtung aufweist, die zum Absaugen des bei der Koronaentladung entstehenden Gases dient. Durch diese Gasabsaugeinrichtung wird ein Ablösen des zu behandelnden Substrats vom Substratstützele ment unterstützt, da dünne und somit leichte Substrate vom Luftstrom der Gasabsaugeinrichtung mitgerissen werden können. Bogen oder Platten las sen sich somit mit der bekannten Vorrichtung nicht behandeln.Especially when the described above known device the material web of the treatment tion electrode quickly, that is, with a high Ge speed is supplied, it is in particular with very thin substrates it is possible that these detach from the substrate support element, whereby the loading do not use electrical corona discharge is more possible. This detachment effect is used in the known device reinforced because this one Has gas extraction device, which is used to extract the serves during the corona discharge gas. Detachment is achieved by this gas suction device of the substrate to be treated from the substrate support ment supports because it is thin and therefore light Substrates from the air flow of the gas extraction device can be carried away. Read sheets or plates sen thus not with the known device to treat.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung vermeidet diesen Nachteil, da die Absaugeinrichtung eine Unterdruck erzeugung zwischen der Auflagefläche für das Substrat und dem Substrat ermöglicht, so daß dieses sicher auf dem Substratstützelement fixiert ist. Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung lassen sich also Substrate behandeln, die auch als dünne Bogen oder Platten vorliegen und aus Kunststoff oder Me tall bestehen.The device according to the invention avoids this Disadvantage because the suction device has a negative pressure generation between the contact surface for the Substrate and the substrate allows, so this is securely fixed on the substrate support member. With the device according to the invention So treat substrates that are also called thin sheets or plates and made of plastic or me tall exist.

In einer Weiterbildung der Erfindung ist vorgese hen, daß auf der Auflagefläche des Substratstütz elements zumindest eine Luftabsaugöffnung mündet. Selbstverständlich ist es auch möglich, daß mehrere Luftabsaugöffnungen vorgesehen sind, die auf der Auflagefläche verteilt münden können.In a further development of the invention, it is provided hen that on the support surface of the substrate support elements at least one air suction opening opens. Of course, it is also possible that several Air extraction openings are provided on the Support surface can open distributed.

Bei einem Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, daß das Substratstützelement als Sieb ausgebildet ist und die der Behandlungselektrode zugewandte Sieb oberseite die Auflagefläche bildet. Bei der Ausbil dung des Substratstützelements als Sieb werden die Luftabsaugöffnungen durch die Sieböffnungen gebil det, so daß in einer Weiterbildung der Erfindung die zwischen Substrat und Auflagefläche vorliegende Luft durch das Sieb hindurch abgesaugt werden kann.In one embodiment it is provided that the substrate support element is designed as a sieve and the screen facing the treatment electrode top forms the contact surface. At the training Formation of the substrate support element as a sieve Air extraction openings through the sieve openings det, so that in a further development of the invention the one present between the substrate and the contact surface Air can be sucked through the sieve.

Bei einem besonders bevorzugten Ausführungsbeispiel ist das Sieb als geschlossenes Siebband ausgebil det, welches zumindest über zwei Umlenkrollen ge führt ist. Je nachdem, welchen Abstand die beiden Umlenkrollen zueinander aufweisen, kann die Größe der Auflagefläche variiert werden.In a particularly preferred embodiment the sieve is designed as a closed sieve belt det, which ge at least over two pulleys leads is. Depending on the distance between the two The deflection rollers can have each other, the size the contact surface can be varied.

Bei einem Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, daß das Sieb ein metallisches Sieb ist. Alternativ kann vorgesehen sein, daß das metallische Sieb eine Kunststoffschicht aufweist. Selbstverständlich ist es auch möglich, ein Kunststoffsieb zu verwenden, welches Metallstrukturen umfaßt, die als Verstär kung des Kunststoffsiebes dienen.In one embodiment it is provided that the sieve is a metallic sieve. Alternatively, you can be provided that the metallic sieve a Has plastic layer. It goes without saying it is also possible to use a plastic sieve which includes metal structures that act as reinforcements serve the plastic sieve.

Bei einem anderen Ausführungsbeispiel ist vorgese hen, daß das Substratstützelement als Walze ausge bildet ist, wobei die äußere Mantelfläche die Auf lagefläche bildet und die Mantelfläche die zumin dest eine Luftabsaugöffnung aufweist. Vorzugsweise wird die zwischen äußerer Mantelfläche und Substrat liegende Luft durch den Mantel hindurch in das Wal zeninnere abgesaugt.Another embodiment is provided hen that the substrate support member out as a roller is formed, the outer surface of the on surface forms and the lateral surface the at least has an air extraction opening. Preferably is that between the outer surface and the substrate lying air through the mantle into the whale vacuumed inside.

Nach einer Weiterbildung der Erfindung ist vorgese hen, daß die Walze drehbar gelagert ist. Vorzugs weise ist dabei vorgesehen, daß die Walze drehan treibbar ist. Somit kann das Substrat auf der Man telfläche mit der Walze mittels Unterdruck gehalten und in den Behandlungsspalt zwischen Behandlungs elektrode geführt werden, wenn die Walze rotiert.After a further development of the invention, it is provided hen that the roller is rotatably mounted. Preferential it is provided that the roller rotates is drivable. Thus, the substrate on the Man surface held with the roller by means of negative pressure and in the treatment gap between treatment electrode are guided when the roller rotates.

Bei einem anderen Ausführungsbeispiel ist das Sieb band umlaufend antreibbar ausgebildet. Somit wird mit dem umlaufend angetriebenen Siebband ebenfalls eine Transporteinrichtung für das Substrat bereit gestellt.In another embodiment, the sieve is band driven drivable. Thus with the rotating driven belt as well a transport device for the substrate posed.

Nach einem weiteren Ausführungsbeispiel kann das Substratstützelement als ebene Platte nach Art ei nes Auflagetisches ausgebildet sein. Soll das Substratstützelement ebenfalls als Transportein richtung für das Substrat dienen, so kann vorgese hen sein, daß die ebene Platte translatorisch be wegbar ist.According to a further embodiment, this can Substrate support element as a flat plate in the manner of egg nes support table be formed. Should that Substrate support element also as a transport unit serve direction for the substrate, can be pre-read hen be that the flat plate be translational is removable.

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist vor gesehen, daß die Auflagefläche eine dielektrische Schicht aufweist. Dadurch ist es möglich, daß mit tels der Vorrichtung auch metallische Substrate be handelbar sind, da durch die dielektrische Schicht ein Kurzschluß zwischen Behandlungs- und Gegenelek trode vermieden wird. Überdies kann die dielek trische Schicht bei Kunststoffsubstraten die Effi zienz der Vorrichtung erhöhen.In a preferred embodiment is before seen that the bearing surface is a dielectric Layer. This makes it possible that with means of the device also be metallic substrates are tradable because of the dielectric layer a short circuit between the treatment and counter elec trode is avoided. In addition, the dielek tric layer for plastic substrates Increase device efficiency.

Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung lassen sich allgemein Substrate aus Kunststoff, insbesondere Kunststoffolien, oder Metallfolien behandeln, da diese durch die durch Unterdruck erzeugte Anhaftung am Substratstützelement sicher gehalten werden.With the device according to the invention generally plastic substrates, in particular Treat plastic films, or metal foils because this due to the adhesion created by negative pressure held securely on the substrate support member.

Eine bevorzugte Ausführungsform zeichnet sich durch eine Gasabsaugeinrichtung aus, die die bei der Ko ronaentladung entstehenden Gase, beispielsweise Ozon, absaugt, da diese Gase, insbesondere das Ozon, aggressiv sind und das Substrat angreifen be ziehungsweise beschädigen könnten.A preferred embodiment is characterized by a gas extraction device that the Ko gases arising from the rona discharge, for example Sucks out ozone because these gases, especially that Ozone that are aggressive and attack the substrate or damage it.

In besonders bevorzugter Ausführungsform bildet das Substratstützelement die Gegenelektrode. Das heißt, daß das Sieb, die Walze oder die ebene Platte die Gegenelektrode bilden, auf der das zu behandelnde Substrat aufliegt und mittels Unterdruck sicher ge halten wird.In a particularly preferred embodiment, this forms Substrate support element the counter electrode. This means, that the screen, the roller or the flat plate Form the counter electrode on which to be treated Substrate rests and ge safe using vacuum will hold.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Behandlung ei ner Oberfläche eines als Bahn oder Bogen vorliegen den Substrats mittels elektrischer Koronaentladung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen mit Bezug auf die Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:The device for treating egg ner surface one as a web or sheet the substrate by means of electrical corona discharge is based on exemplary embodiments explained in more detail with reference to the drawing. It demonstrate:

Fig. 1 bis 3 schematisch jeweils ein Aus führungsbeispiel einer Vorrich tung. Fig. 1 to 3 each schematically illustrate an example of a guide from Vorrich processing.

Fig. 1 zeigt eine Vorrichtung zur Behandlung einer Oberfläche eines Substrats, das zum Beispiel als Bahn, Bogen, Platte oder dergleichen vorliegen kann, mittels elektrischer Koronaentladung, die im folgenden lediglich als Vorrichtung 1 bezeichnet wird. Fig. 1 shows a device for treating a surface of a substrate, for example, as a web, sheet, plate or the like may be present, by means of electric corona discharge, which is merely referred to as the device 1.

Im Zuge dieser Anmeldung wird unter Substrat eine dünne Materialbahn beziehungsweise ein dünner Ma terialbogen verstanden, wobei als Materialien ins besondere dünne Kunststoffolien, Metallfolien, mit einer Oberflächenbeschichtung versehene Substrate und Zellstoff aufweisende papier- oder kartonähnli che Materialien zu verstehen sind, wobei die Zell stoff enthaltenden Materialien gegebenenfalls auch mit einer Beschichtung, beispielsweise einer Kunst stoff- oder Lackschicht versehen sein können.In the course of this application, a thin material web or a thin dimension understood material sheet, where as materials ins special thin plastic films, metal foils, with substrates provided with a surface coating and cellulose-like paper or cardboard che materials are understood, the cell material containing materials if necessary with a coating, for example an art fabric or lacquer layer can be provided.

Bevorzugt werden mit der Vorrichtung 1 Bahnen oder Bogen eines Substrats behandelt, deren Oberfläche schlecht oder nicht oder schlecht geeignet ist, um eine Beschichtung oder Bedruckung aufzubringen. Werden solche Materialien beispielsweise bedruckt, benetzt die Druckfarbe die Oberfläche nicht gleich mäßig, sondern fließt zu Tropfen zusammen. Zufrie denstellende Druckergebnisse beziehungsweise Be schichtungsergebnisse sind somit nicht erzielbar. Deshalb ist es notwendig, derartige Oberflächen mittels elektrischer Koronaentladung zu behandeln, so daß nach der Koronabehandlung aufzubringende Be schichtungen auf der Oberfläche des Substrats haf ten, da die Koronaentladung eine adhäsive Oberflä che erzeugt. The device 1 is preferably used to treat webs or sheets of a substrate the surface of which is poorly or not or poorly suited for applying a coating or printing. If such materials are printed, for example, the printing ink does not wet the surface evenly, but flows together into drops. Satisfactory print results or coating results are therefore not achievable. It is therefore necessary to treat such surfaces by means of electrical corona discharge, so that coatings to be applied after the corona treatment are adhered to the surface of the substrate, since the corona discharge produces an adhesive surface.

Die Vorrichtung 1 besitzt eine Behandlungselektrode 2, deren Elektrodenform und -größe beliebig wählbar ist, insbesondere an die zu behandelnde Oberfläche des Substrats 3 anpaßbar ist. Der Behandlungselek trode 2 mit Abstand gegenüberliegend ist eine Ge genelektrode 4 angebracht, so daß zwischen der Be handlungselektrode 2 und der Gegenelektrode 4 ein Behandlungsspalt 5 gebildet ist. Die Behandlungs elektrode 2 und die Gegenelektrode 4 sind an eine elektrische Spannungsquelle, insbesondere Hochspan nungsquelle, anschließbar, wobei die Elektroden 2 und 4 mit einer Spannung mit variabler Frequenz be aufschlagbar sind. Beim Anlegen der Spannung an die Elektroden 2 und 4 bildet sich je nach Polarität eine Koronaentladung von der Behandlungselektrode 2 zur Gegenelektrode 4 oder umgekehrt aus. Dadurch wird das in dem Behandlungsspalt 5 vorliegende Substrat mittels elektrischer Koronaentladung ins besondere für eine nachfolgende Beschichtung seiner Substratoberfläche 6 vorbehandelt.The device 1 has a treatment electrode 2 , the electrode shape and size of which can be selected as desired, in particular can be adapted to the surface of the substrate 3 to be treated. The treatment electrode 2 at a distance opposite a Ge gene electrode 4 is attached so that between the treatment electrode Be 2 and the counter electrode 4, a treatment gap 5 is formed. The treatment electrode 2 and the counter electrode 4 can be connected to an electrical voltage source, in particular high-voltage source, the electrodes 2 and 4 being able to be loaded with a voltage of variable frequency. When the voltage is applied to the electrodes 2 and 4 , depending on the polarity, a corona discharge is formed from the treatment electrode 2 to the counter electrode 4 or vice versa. As a result, the substrate present in the treatment gap 5 is pretreated by means of electrical corona discharge, in particular for a subsequent coating of its substrate surface 6 .

Im Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 liegt das Substrat 3 als Bogen 7 vor. Der Bogen 7 liegt auf einer Auflagefläche 8 eines Substratstützelements 9 auf. Im Ausführungsbeispiel bildet das Substrat stützelement 9 die Gegenelektrode 4.In the exemplary embodiment according to FIG. 1, the substrate 3 is present as a sheet 7 . The sheet 7 rests on a support surface 8 of a substrate support element 9 . In the exemplary embodiment, the substrate support element 9 forms the counter electrode 4 .

Dem Substratstützelement 9 ist eine Absaugeinrich tung 10 zugeordnet, die zum Absaugen der zwischen dem Bogen 7 und der Auflagefläche 8 vorliegenden Luft dient. Dadurch wird zwischen der Substratun terseite 11 und der Auflagefläche 8 ein Unterdruck erzeugt, so daß das Substrat 3 beziehungsweise der Bogen 7 mittels Unterdruck auf der Auflagefläche 8 des Substratstützelements 9 gehalten ist.The substrate support member 9 is assigned a suction device 10 , which serves to suck off the air present between the sheet 7 and the support surface 8 . As a result, a vacuum is generated between the substrate underside 11 and the support surface 8 , so that the substrate 3 or the sheet 7 is held on the support surface 8 of the substrate support element 9 by means of vacuum.

Die Behandlungselektrode 2 ist von einem Gehäuse 12 umgeben, das zur Gegenelektrode 4 hin eine Öffnung 13 aufweist. Die Behandlungselektrode 2 ist also von einer Absaughaube 14 umgeben, die die Öffnung 13 aufweist. Die Absaughaube 14 ist vorzugsweise Bestandteil des Gehäuses 12. Die Absaughaube 14 ist mit einer Gasabsaugeinrichtung 15 verbunden, die als Unterdruckeinrichtung ausgebildet sein kann, die als Ventilator realisierbar ist. Mittels der Gasabsaugeinrichtung 15 werden die während der elektrischen Koronaentladung zwischen Behandlungs elektrode 2 und Gegenelektrode 4 entstehenden Gase abgesaugt. Insbesondere entsteht hierbei Ozon, wel ches als aggressives Medium anzusehen ist, das das Substrat 3 beschädigen beziehungsweise angreifen kann. Überdies kann das Ozon für eine Bedienperson der Vorrichtung 1 schädlich sein.The treatment electrode 2 is surrounded by a housing 12 which has an opening 13 towards the counter electrode 4 . The treatment electrode 2 is therefore surrounded by a suction hood 14 which has the opening 13 . The suction hood 14 is preferably part of the housing 12 . The suction hood 14 is connected to a gas suction device 15 , which can be designed as a vacuum device that can be implemented as a fan. By means of the gas suction device 15 , the gases formed during the electrical corona discharge between the treatment electrode 2 and the counter electrode 4 are suctioned off. In particular, this creates ozone, which is to be regarded as an aggressive medium which can damage or attack the substrate 3 . Moreover, the ozone can be harmful to an operator of the device 1 .

Durch die Absaugung der bei der Koronaentladung entstehenden Gase entsteht eine Luftströmung, die mit Pfeilen 16 gekennzeichnet ist. Durch diese Luftströmung kann das Substrat 3 von seiner Aufla gefläche 8 abgehoben und mitgerissen werden. Da durch ist eine optimale Behandlung der Substrat oberfläche 6 nicht mehr gewährleistet. Dem wirkt erfindungsgemäß die Unterdruckerzeugung zwischen Substratunterseite 11 und Auflagefläche 8 entgegen, damit - wie vorstehend erwähnt - das Substrat 3 sicher auf der Auflagefläche 8 gehalten ist. The suction of the gases generated during the corona discharge creates an air flow which is indicated by arrows 16 . This air flow allows the substrate 3 to be lifted from its bearing surface 8 and carried away. Since an optimal treatment of the substrate surface 6 is no longer guaranteed. This is counteracted, according to the invention, by the generation of vacuum between the underside of the substrate 11 and the support surface 8 , so that - as mentioned above - the substrate 3 is held securely on the support surface 8 .

Im in Fig. 1 gezeigten Ausführungsbeispiel ist das Substratstützelement 9 als ebene Platte 17 ausge bildet, die auch als Auflagetisch bezeichnet wird. Die Platte 17 besitzt zumindest eine Luftabsaugöff nung, die auf der Auflagefläche 8 mündet. Vorzugs weise wird die Luftabsaugöffnung von einer Mündung eines Kanals gebildet, der sich zwischen Auflage fläche 8 und Plattenunterseite 18 erstreckt. An der Plattenunterseite 18 ist ein Saugkasten 19 vorgese hen, der mit seiner Kastenöffnung 20 vorzugsweise dichtend an der Plattenunterseite 18 anliegt. Die Kastenöffnung 20 beziehungsweise der Saugkasten 19 ist so ausgebildet, daß er vorzugsweise alle auf der Plattenunterseite 18 mündenden Kanäle über deckt, so daß mittels einer Unterdruckquelle 21 die Luft zwischen Substratunterseite 11 und Auflage fläche 8 abgesaugt werden kann. Die Unterdruck quelle 21 ist der Absaugeinrichtung 10 zugeordnet.In the embodiment shown in Fig. 1, the substrate support member 9 is formed out as a flat plate 17 , which is also referred to as a support table. The plate 17 has at least one Luftabsaugöff opening, which opens onto the support surface 8 . Preferably, the air suction opening is formed by an opening of a channel which extends between the support surface 8 and the underside 18 of the plate. On the underside of the plate 18 , a suction box 19 is provided, which, with its box opening 20, preferably bears sealingly against the underside of the plate 18 . The box opening 20 or the suction box 19 is designed such that it preferably covers all of the channels opening on the underside of the plate 18 , so that the air between the underside of the substrate 11 and the support surface 8 can be sucked off by means of a vacuum source 21 . The vacuum source 21 is assigned to the suction device 10 .

In Fig. 1 ist die besaugte Fläche der Auflage fläche 8 kleiner als das Format des Substrats 3. Es ist jedoch auch möglich, die gesamte Auflagefläche 8 mit der Unterdruckquelle 21 zu versorgen.In Fig. 1, the suction area of the support surface 8 is smaller than the format of the substrate 3rd However, it is also possible to supply the entire contact surface 8 with the vacuum source 21 .

Vorzugsweise ist die Unterdruckquelle ein- und aus schaltbar, wobei dies vorzugsweise in Abhängigkeit von der Spannungsbeaufschlagung der Elektroden 2 und 4 erfolgen kann. Vorzugsweise ist auch die Gas absaugeinrichtung 15 ein- und ausschaltbar, wobei auch hier vorzugsweise vorgesehen ist, daß dies in Abhängigkeit von der Spannungsbeaufschlagung der Elektroden 2 und 4 erfolgen kann. The vacuum source can preferably be switched on and off, this preferably being done as a function of the voltage applied to electrodes 2 and 4 . Preferably, the gas extraction device 15 can also be switched on and off, it also preferably being provided here that this can take place as a function of the voltage applied to the electrodes 2 and 4 .

Mit der Vorrichtung 1 sind mehrere Substrate bezie hungsweise Bogen 7 nacheinander mittels Koronaent ladung behandelbar. Hierzu kann eine hier nicht dargestellte Substratzuführeinrichtung vorgesehen sein, die mehrere Substrate einzeln nacheinander der Vorrichtung 1 zuführt, also ein Substrat nach dem andern auf die Auflagefläche 8 auflegt. Während ein Substrat 3 auf die Auflagefläche 8 aufgelegt wird, ist vorzugsweise vorgesehen, daß die Unter druckquelle 21 nicht aktiv ist. Ist ein Substrat behandelt, ist vorzugsweise eine hier nicht darge stellte Substratabnahmeeinrichtung vorgesehen, die das behandelte Substrat von der Auflagefläche 8 ab nimmt und gegebenenfalls einer weiteren Behand lungsvorrichtung zuführt, die beispielsweise zur Oberflächenbeschichtung des Substrats ausgebildet ist. Vorzugsweise ist vorgesehen, daß - wenn das Substrat 3 von der Auflagefläche 8 abgenommen wer den soll - die Unterdruckquelle 21 nicht aktiv ist.With the device 1 , several substrates or sheet 7 can be treated in succession by means of corona discharge. For this purpose, a substrate feed device ( not shown here) can be provided, which feeds several substrates individually one after the other to the device 1 , that is to say one substrate after the other, is placed on the support surface 8 . While a substrate 3 is placed on the support surface 8 , it is preferably provided that the vacuum source 21 is not active. If a substrate is treated, a substrate removal device, not shown here, is preferably provided, which takes the treated substrate from the support surface 8 and, if appropriate, feeds a further treatment device which is designed, for example, for surface coating of the substrate. It is preferably provided that - when the substrate 3 is removed from the support surface 8, who should - the vacuum source 21 is not active.

Vorzugsweise ist vorgesehen, daß die Platte 17 translatorisch in zumindest einer Richtung bewegbar ist. Vorzugsweise ist die Platte 17 in drei Rich tungen bewegbar. Eine Bewegungsrichtung ist durch einen Doppelpfeil 22 dargestellt. Somit ist es mög lich, die Platte 17 derart zu bewegen, daß die Be handlungselektrode 2 auf verschiedene Bereiche der Substratoberfläche wirken kann. Eine andere Bewe gungsrichtung der Platte 17 ist durch einen weite ren Doppelpfeil 23 gekennzeichnet. Die Platte 17 beziehungsweise das Substratstützelement 9 kann al so auch höhenverstellbar ausgebildet sein. Vorzugs weise ist die Platte 17, also das Substratstützele ment 9 auch etwa senkrecht zur Zeichnungsebene be wegbar.It is preferably provided that the plate 17 can be moved in translation in at least one direction. The plate 17 is preferably movable in three directions. A direction of movement is represented by a double arrow 22 . Thus, it is possible to move the plate 17 such that the treatment electrode 2 can act on various areas of the substrate surface. Another direction of movement of the plate 17 is indicated by a wide ren double arrow 23 . The plate 17 or the substrate support element 9 can also be designed so as to be height-adjustable. Preferably, the plate 17 , that is, the element 9 is also movable approximately perpendicular to the plane of the drawing.

Nach einem hier nicht dargestellten Ausführungsbei spiel kann vorgesehen sein, daß das Substratstütz element 9 der Fig. 1 als Sieb ausgebildet ist. Hierzu kann beispielsweise eine Lochplatte, ein Ge flecht oder dergleichen vorgesehen sein.After a game not shown here Ausführungsbei can be provided that the substrate support element 9 of FIG. 1 is designed as a sieve. For this purpose, for example, a perforated plate, a Ge braid or the like can be provided.

Fig. 2 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel der Vorrichtung 1. Gleiche beziehungsweise gleichwir kende Teile wie in Fig. 1 dargestellt, sind in Fig. 2 mit denselben Bezugszeichen versehen. Inso fern wird auf deren nochmalige Beschreibung ver zichtet. Im folgenden wird daher lediglich auf Un terschiede zum Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 1 eingegangen. Fig. 2 shows a second embodiment of the device 1. The same or equivalent parts as shown in Fig. 1 are provided in Fig. 2 with the same reference numerals. Insofar, their repeated description is waived. In the following, therefore, only Un differences to the embodiment of FIG. 1 is discussed.

Das Substratstützelement wird bei der Vorrichtung 1 gemäß Fig. 2 durch ein geschlossenes Siebband 23 gebildet, das über zumindest zwei Umlenkrollen 24 und 25 geführt ist. Vorzugsweise ist zumindest eine der Umlenkrollen 24 oder 25 drehantreibbar und die andere Umlenkrolle 25 oder 24 drehbar gelagert, so daß das geschlossene Siebband 23 umlaufend antreib bar ist.In the device 1 according to FIG. 2, the substrate support element is formed by a closed screen belt 23 , which is guided over at least two deflection rollers 24 and 25 . Preferably, at least one of the deflecting rollers 24 or 25 is rotatably drivable and the other deflecting roller 25 or 24 is rotatably mounted, so that the closed screen belt 23 can be driven in all directions.

Die Siebaußenfläche 26 bildet die Auflagefläche 8. An der Siebinnenfläche 27 beziehungsweise Siebrück seite liegt der Saugkasten 19 mit seiner Kastenöff nung 20 dichtend an. Der Saugkasten ist - wie im Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 - mit der Unter druckquelle 21 verbunden. Somit wird die Luft zwi schen Substratunterseite 11 und Auflagefläche 8 ab gesaugt, wodurch das Substrat 3, das als Bogen 7 vorliegt, sicher auf der der Behandlungselektrode 8 zugewandten Auflagefläche 8 der Siebaußenseite 26 aufliegt.The sieve outer surface 26 forms the support surface 8 . On the inner surface 27 of the sieve or the back of the sieve, the suction box 19 lies with its box opening 20 sealingly. The suction box is - as in the embodiment of FIG. 1 - connected to the vacuum source 21 . Thus, the air Zvi rule base substrate 11 and contact surface 8 to be sucked off, whereby the substrate 3, which is present as a sheet 7, safely on the treatment electrode 8 facing support surface 8 of the Siebaußenseite rests 26th

Dadurch, daß das umlaufende Siebband 23 antreibbar ist, also auch ein Förderband bildet, kann auf ein fache Art und Weise der Vorrichtung 1 das Substrat 3 zugeführt werden. Zur Beschickung des Siebbandes 23 mit Substraten kann auch hier eine Substratzu führeinrichtung (nicht dargestellt) vorgesehen sein, die mehrere Substrate nacheinander auf das Siebband 23 auflegt. Außerdem kann eine hier nicht gezeigte Substratablage vorgesehen sein, auf die die bereits behandelten Substrate abgelegt werden können.The fact that the rotating screen belt 23 can be driven, that is to say also forms a conveyor belt, allows the substrate 3 to be fed to the device 1 in a simple manner. To feed the sieve belt 23 with substrates, a substrate feed device (not shown) can also be provided here, which places several substrates one after the other on the sieve belt 23 . In addition, a substrate tray, not shown here, can be provided, on which the substrates that have already been treated can be placed.

Das Siebband 23 beziehungsweise das Sieb, welches im Zusammenhang mit Fig. 1 beschrieben ist, kann ein metallisches Sieb sein. Selbstverständlich kann das metallische Sieb beziehungsweise Siebband auch eine Kunststoffbeschichtung aufweisen. Vorzugsweise ist vorgesehen, daß lediglich die Auflagefläche 8 beziehungsweise die Siebaußenfläche 26 die Kunst stoffbeschichtung aufweist. Vorzugsweise ist die Kunststoffschicht als dielektrische Schicht ausge bildet.The sieve belt 23 or the sieve, which is described in connection with FIG. 1, can be a metallic sieve. Of course, the metallic sieve or sieve belt can also have a plastic coating. It is preferably provided that only the support surface 8 or the outer surface 26 of the screen has the plastic coating. The plastic layer is preferably formed as a dielectric layer.

Bei Verwendung eines Siebes beziehungsweise eines Siebbandes wird mittels der Unterdruckquelle 21 die zwischen Substratunterseite 11 und Auflagefläche 8 vorliegende Luft durch das Sieb beziehungsweise Siebband hindurch abgesaugt. When a sieve or a sieve belt is used, the air present between the underside of the substrate 11 and the support surface 8 is sucked through the sieve or sieve belt by means of the vacuum source 21 .

Fig. 3 zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung 1. Gleiche beziehungsweise gleichwir kende Teile wie in den in Fig. 1 und 2 dargestell ten Vorrichtungen 1 sind in Fig. 3 mit denselben Bezugszeichen versehen. Insofern wird auf deren Be schreibung verwiesen. Im folgenden wird daher le diglich auf Unterschiede zu den vorstehend be schriebenen Vorrichtungen 1 näher eingegangen. Fig. 3 shows a third embodiment of a device 1. Same or gleichwir kende parts as in dargestell th in Fig. 1 and 2, devices 1 are provided in Fig. 3 the same reference numerals. In this respect, reference is made to their description. In the following, therefore, dig diglich on differences to the devices 1 described above be discussed in more detail.

Das Substratstützelement 9 ist im Ausführungsbei spiel nach Fig. 3 als Walze 28 ausgebildet, wobei zumindest Bereiche der äußeren Mantelfläche 29 der Walze 28 die Auflagefläche 8 bildet. Die Auflage fläche 8 wird durch den Bereich der Mantelfläche 29 gebildet, die an der als Hohlwalze ausgebildeten Walze 28 vom Saugkasten 19 beziehungsweise von der Saugkastenöffnung 20 übergriffen beziehungsweise überspannt wird. Die äußere Mantelfläche weist zu mindest eine Luftabsaugöffnung vor, durch die - wenn diese über dem Saugkasten 19 steht - die Luft zwi schen dem Substrat 3 und der Auflagefläche 8 abge saugt werden kann. Das Substrat 3 liegt im Ausfüh rungsbeispiel nach Fig. 3 als Substratbahn vor, die über Führungsrollen 30 und die drehbar gelager te Walze 28 geführt wird. Denkbar wäre allerdings auch, daß um die Umlenkrollen 30 und die Walze 28 ein Siebband umlaufend geführt ist, welches vorste hend im Zusammenhang mit Fig. 2 beschrieben wurde. Das heißt, der in Fig. 2 dargestellte Saugkasten 19 kann durch die besaugte Walze 28 ersetzt werden.The substrate support member 9 is in the play Ausführungsbei of FIG. 3 designed as roll 28, wherein at least portions of the outer surface area 29 28 forms the bearing surface 8 of the roll. The support surface 8 is formed by the area of the lateral surface 29 which is overlapped or spanned on the roller 28 designed as a hollow roller by the suction box 19 or by the suction box opening 20 . The outer circumferential surface has at least one air suction opening through which - if it is above the suction box 19 - the air between the substrate 3 and the support surface 8 can be sucked off. The substrate 3 is in the exemplary embodiment according to FIG. 3 as a substrate web which is guided over guide rollers 30 and the rotatably mounted roller 28 . However, it would also be conceivable that a sieve belt is guided all around the deflection rollers 30 and the roller 28 , which was described above in connection with FIG. 2. That is, the suction box 19 shown in FIG. 2 can be replaced by the vacuumed roller 28 .

Der Saugkasten 19 im Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 ist innerhalb der Hohlwalze feststehend ausgebil det, so daß sich die Walze 28 relativ zum Saugka sten 19 bewegt, also rotiert. Der die Kastenöffnung 20 umgebende Rand des Saugkastens 19 liegt dich tend, beispielsweise mittels einer Dichtungslippe, an der Mantelinnenseite 31 an. Eine derartige Dich tungslippe kann beispielsweise auch beim Saugkasten 19 nach Fig. 1 und 2 vorgesehen sein.The suction box 19 in the embodiment of FIG. 3 is stationary ausgebil det within the hollow roller, so that the roller 28 moves relative to the Saugka most 19 , so rotates. The edge of the suction box 19 surrounding the box opening 20 lies against the inside of the jacket 31 , for example by means of a sealing lip. Such a device lip can be provided for example in the suction box 19 according to FIGS . 1 and 2.

Bei der Vorrichtung 1 gemäß Fig. 3 wird also die zwischen Substrat 3 beziehungsweise Substratunter seite 11 und Auflagefläche 8 vorliegende Luft in das Walzeninnere abgesaugt. Zur Bereitstellung die ses Unterdruckes kann der innerhalb der Hohlwalze angeordnete Saugkasten 19 mit einer Hohlwelle in Fluidverbindung stehen, auf der die drehantreibbare Walze 28 gelagert ist. Am Wellenstummel der Hohl welle kann dann die Unterdruckquelle 21 angeschlos sen sein.In the device 1 according to FIG. 3, the air present between the substrate 3 or substrate underside 11 and the support surface 8 is sucked into the inside of the roller. To provide this negative pressure, the suction box 19 arranged inside the hollow roller can be in fluid connection with a hollow shaft on which the rotatably drivable roller 28 is mounted. At the stub of the hollow shaft, the vacuum source 21 can then be ruled out.

Auch im Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 bildet das Substratstützelement 9, das hier als besaugte Walze ausgebildet ist, die Gegenelektrode 4.In the exemplary embodiment according to FIG. 3, too, the substrate support element 9 , which is designed here as a vacuumed roller, forms the counter electrode 4 .

Claims

1. Device for treating a surface of a substrate as a sheet, sheet, plate or the like by means of electrical corona charge, with a treatment electrode and a counter electrode, which form a treatment gap between them, into which the substrate can be introduced, and with a substrate support element , which has a support surface for the substrate, characterized marked by a suction device ( 10 ) for sucking off the air present between the substrate ( 3 ) and the support surface ( 8 ).

2. Device according to claim 1, characterized in that on the support surface ( 8 ) opens at least one air suction opening.

3. Device according to one of the preceding claims, characterized in that several air suction openings on the bearing surface ( 8 ) open.

4. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the substrate support element ( 9 ) is designed as a sieve and the upper side of the sieve ( 26 ) facing the treatment electrode ( 2 ) forms the support surface ( 8 ).

5. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the screen is designed as a closed screen belt ( 23 ) which is guided at least over two deflection rollers ( 24 , 25 ).

6. Device according to one of the preceding An sayings, characterized in that through the sieve through which the air is extracted.

7. Device according to one of the preceding An sayings, characterized in that the sieve a metallic strainer.

8. Device according to one of the preceding An sayings, characterized in that the metalli sieve has a plastic layer.

9. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the substrate support element ( 9 ) is designed as a roller ( 28 ), the outer lateral surface ( 29 ) of the roller ( 28 ) forming the bearing surface ( 8 ) and the lateral surface ( 29 ) which has at least one air extraction opening.

10. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the roller ( 28 ) is a hollow roller and that the air between the substrate ( 3 ) and the outer jacket surface ( 29 ) is sucked through the jacket into the inside of the roller.

11. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the roller ( 28 ) is rotatably mounted.

12. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the roller ( 28 ) can be driven in rotation.

13. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the substrate support element ( 9 ) is designed as a flat plate ( 17 ).

14. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the flat plate ( 17 ) is designed to be translationally movable.

15. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the support surface ( 8 ) has a dielectric layer.

16. The device according to any one of the preceding claims, characterized by a Gasabsaugein direction ( 15 ) for suction of the gas resulting from the corona discharge.

17. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the substrate support element ( 9 ) forms the counter electrode ( 4 ).