DE19832812A1 - Verfahren zur Herstellung smektischer Flüssigkristalldisplays - Google Patents
Verfahren zur Herstellung smektischer FlüssigkristalldisplaysInfo
- Publication number
- DE19832812A1 DE19832812A1 DE1998132812 DE19832812A DE19832812A1 DE 19832812 A1 DE19832812 A1 DE 19832812A1 DE 1998132812 DE1998132812 DE 1998132812 DE 19832812 A DE19832812 A DE 19832812A DE 19832812 A1 DE19832812 A1 DE 19832812A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- liquid crystal
- smectic
- substrates
- layer
- smectic liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 27
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 25
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 25
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract description 14
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 2
- 238000010020 roller printing Methods 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004986 Cholesteric liquid crystals (ChLC) Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000005429 filling process Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133365—Cells in which the active layer comprises a liquid crystalline polymer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/137—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering
- G02F1/13781—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering using smectic liquid crystals
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/137—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering
- G02F1/139—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering based on orientation effects in which the liquid crystal remains transparent
- G02F1/141—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering based on orientation effects in which the liquid crystal remains transparent using ferroelectric liquid crystals
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
In einem Verfahren zur Herstellung smektischer Flüssigkristalldisplays, die zwei Substrate und eine dazwischenliegende smektische Flüssigkristallschicht aufweisen, wird die smektische Flüssigkristallschicht oder ein Gemisch, das den smektischen Flüssigkristall enthält, in einem Druckprozeß auf mindestens eines der beiden Substrate aufgebracht, und die Substrate werden anschließend zum smektischen Flüssigkristalldisplay zusammengefügt.
Description
Neben nematischen und cholesterischen Flüssigkristallen werden in jüngerer Zeit
auch smektische (z. B. ferroelektrische, antiferroelektrische oder sog. DHF)
Flüssigkristalle in kommerziellen Displayvorrichtungen verwendet, wie z. B. in
Information Display (SID), Vol. 14 (2), Februar 1998, Seiten 20 bis 27
beschrieben.
Ein smektisches Flüssigkristalldisplay (LCD) besteht aus Polarisatoren, mit
Elektroden, z. B. aus Indium-Zinn-Oxid, beschichteten Substraten aus Kunststoff
oder Glas, die mit Orientierungsschichten und möglicherweise weiteren Schichten
(Passivierungs-, Diffusionssperr-, Isolations-, Antireflex-Schichten usw.) sowie
Farbfilterschichten versehen sind, einer Flüssigkristallschicht und möglicherweise
aktiven Dünnschichtelementen.
Allgemein lassen sich smektische LCDs sowohl als Passivmatrix- als auch
Aktivmatrixdisplays herstellen und verwenden.
Bei einer Passivmatrix entstehen die einzelnen Bildelemente (Pixel) eines
Flüssigkristalldisplays durch die Überkreuzung je einer Serie von Elektroden
(Leiterbahnen), die als Reihen und Spalten auf der Unter- bzw. Oberseite des
Displays gebildet wird. Die Kreuzungspunkte der horizontalen und vertikalen
Elektroden bilden adressierbare Pixel. Zur Adressierung wurden verschiedene
Multiplex-Schemata entwickelt.
Unter anderem wegen der vorteilhaften hohen Schaltgeschwindigkeiten wurden
Flüssigkristallanzeigen vorgeschlagen, die auf der Kombination aus
ferroelektrischen oder auch aus antiferroelektrischen Flüssigkristallmaterialien und
aktiven Matrixelementen beruhen, vgl. WO 97/12355 oder Ferroelectrics 1996,
179, 141-152, oder Information Display (SID), Vol. 14 (2), Februar 1998,
Seiten 20-27.
Bei der Aktivmatrix-Technologie (AMLCD) wird üblicherweise ein Substrat mit
einer nicht strukturierten Elektrode mit einem Aktivmatrix-Substrat kombiniert.
An jedem Pixel des Aktivmatrixsubstrates befindet sich ein elektrisch
nichtlineares Element, beispielsweise ein Dünnschichttransistor z. B. vom Typ
amorphes Silizium oder polykristallines Silizium. Bei dem nichtlinearen Element
kann es sich auch um Dioden, Metall-Insulator-Metall u. ä. Elemente handeln,
die vorteilhaft mit bekannten Dünnschichtverfahren hergestellt werden.
Unabhängig von der Frage, ob es sich um ein Aktivmatrix- oder ein
Passivmatrixdisplay handelt, ist bei der Herstellung solcher Displays zu
berücksichtigen, daß die Schichtdicke solcher smektischer Displays sehr gering
ist und im Bereich von 0,5 bis 3 µm, insbesondere im Bereich 1 und 2 µm,
speziell zwischen 1, 1 und 1,7 µm liegt. Darüber hinaus handelt es sich bei
smektischen Flüssigkristallen um Materialien mit höherer Fließviskosität, im
Unterschied zu den heute weit verbreiteten nematischen Flüssigkristallen, siehe
z. B. H. Kneppe, F. Schneider in D. Demus et. al. (Ed.) Handbook of Liquid
Crystals, 1998, Vol. 2A, Seiten 142ff.
Die Kombination dieser beiden Eigenschaften, nämlich hohe Viskosität und
geringe Schichtdicken, verbunden mit der Forderung nach LCDs mit großen
Flächen, führt nun zu einem bedeutsamen praktischen Problem bei der
effizienten Füllung solcher Displays mit dem smektischen Flüssigkristall.
Der Füllprozeß erfolgt bislang derart, daß ein fertiges, jedoch leeres Display,
bei dem die beiden Substratplatten bis auf eine Einfüllöffnung miteinander
verklebt sind, dadurch gefüllt wird, daß die Flüssigkristallmasse in der isotropen
oder flüssigkristallinen Phase durch Kapillarkräfte durch die Einfüllöffnung in
das Display gezogen wird. Zur Unterstützung dieses Prozesses kann auch ein
Überdruck verwendet werden. Dennoch ist selbst bei stark erhöhter Temperatur
aufgrund der hohen smektischen Fließviskositäten sowie der sehr geringen
Plattenabstände dieser Prozeß derart ineffizient, daß häufig viele Stunden, bei
sehr großen Flächen sogar Tage benötigt werden, um großflächige Displays,
d. h. solche mit einer Bilddiagonalen größer 10 Zoll (25 cm), zu füllen.
Darüber hinaus besteht beim Füllen in der isotropen Phase die Möglichkeit des
Verdampfens sowie der thermischen Zersetzung einzelner Mischungskomponenten.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zur
Herstellung smektischer Flüssigkristalldisplays, die zwei Substrate und eine
dazwischenliegende smektische Flüssigkristallschicht aufweisen, das die Nachteile
der bekannten Verfahren vermeidet und eine Herstellung smektischer
Flüssigkristalldisplays in technischem Maßstab erlaubt.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren, bei dem die
smektische Flüssigkristallschicht oder ein Gemisch, das den smektischen
Flüssigkristall enthält, in einem Druckprozeß auf mindestens eines der beiden
Substrate aufgebracht wird und die Substrate anschließend zum smektischen
Flüssigkristalldisplay zusammengefügt werden.
Gegenstand der Erfindung ist ein Herstellverfahren für smektische
Flüssigkristalldisplays, bei dem die smektische Flüssigkristallschicht in Form
eines dünnen Films auf mindestens eines der beiden Trägersubstrate aufgedruckt
wird und die beiden Substrate erst nach diesem Druckprozeß zusammengeklebt
werden. Dieser Druckprozeß kann Siebdruck, Offsetdruck, Flexodruck oder an
anderes gängiges Druckverfahren sein.
Das erfindungsgemäße Verfahren vermeidet die langwierige und daher nachteilige
Füllung durch Kapillarkräfte und ermöglicht somit die fabrikmäßige
Massenfertigung von smektischen LCDs.
Dabei ergeben sich mehrere Varianten. Gemäß einer Variante werden ein
Kleberahmen auf das eine, und die smektische Flüssigkristallschicht auf das
andere Substrat gedruckt. Dann kann der Kleberahmen in geeigneter Weise
vorgetrocknet oder angehärtet werden, um so ein unerwünschtes Durchmischen
von Kleberahmen und Flüssigkristall zu verhindern.
Die smektische Flüssigkristalldruckschicht kann an den inneren Aufbau eines
smektischen LCD, also z. B. Abstandhalter, Aktivmatrix, Farbfilter, Schwarzgitter
usw. angepaßt werden. Dies geschieht dadurch, daß die smektische Schicht in
einem Druckmuster an die LCD-Architektur angepaßt wird. Dadurch kann der
smektische Flüssigkristall paßgenau auf die Bildpunkte gedruckt werden, während
z. B. die Abstandhalter nicht bedruckt werden.
Vorteilhaft ist auch ein Erwärmen und Abkühlen nach dem Verkleben der
Substrate, wodurch der Flüssigkristall verschiedene Phasenübergänge durchläuft
und damit neu orientiert wird. Gleichzeitig kann der Kleberahmen dabei
durchgehärtet werden.
Geeignete Komponenten für Flüssigkristalldisplays sind beispielsweise in C.
Prince, Seminar Lecture Notes, Volume I, p. M-3/3-M-3/22, SID International
Symposium 1997, Boston, USA; B. B. Bahadur, Liquid Crystals Application und
Uses, Vol. 1, pp. 410, World Scientific Publishing, 1990; E. Lüder, Recent
Progress of AMLCD's, Proceedings of the 15th international display research
conference, 1995, p.9-p.12, Displays 1993, Vol. 14, Nr. 2, S. 86-93 und
Kontakte 1993 (2), S. 3-14, T. Tsukuda, TFT/LCD: Liquid Crystal Displays
Addressed by Thin-Film Transistors, Gordon and Breach 1996, ISBN 2-919875-
01-9 oder C. Prince, Seminar Lecture Notes, Volume I, p. M-3/3-M-3/22, SID
International Symposium 1997, Boston, USA und darin zitierte Literatur,
beschrieben.
Es wurde gefunden, daß die Viskosität des zu druckenden Flüssigkristalls bei
der Anwendung vorzugsweise in einem bestimmten Bereich liegt. Hierbei
verstehen wir die mittlere Viskosität, die z. B. in einem Bohlin-Viskosimeter
(Hersteller Bohlin Instruments Ltd., Cirencester, UK) bestimmt wird. Es ist die
mittlere Viskosität relevant, weil beim Beschichtungsprozeß eine eindeutige
Vorzugsrichtung des Flüssigkristalls nicht definiert ist.
Um nun einen bevorzugten Viskositätsbereich für den Druckprozeß zu
bestimmen, wird für den Flüssigkristall die Viskosität als Funktion der Scherrate
und der Temperatur bestimmt. Es wird sodann der für den Beschichtungsprozeß
relevante Bereich der Scherrate bestimmt oder die Angabe des Geräteherstellers
zugrunde gelegt und die gemessene Viskosität über diesen Bereich gemittelt.
Dieser Bereich der Scherrate ist 0.1-105 1/s, vorzugsweise 1-104 1/s, bevorzugt
10-1000 1/s, besonders bevorzugt 20-500 1/s.
Die Drucktemperatur wird vorzugsweise so gewählt, daß die oben beschriebene
mittlere Viskosität kleiner ist als 20 Pas (Pascalsekunden), vorzugsweise kleiner
als 10 Pas, bevorzugt kleiner als 4 Pas, besonders bevorzugt kleiner als 2.5
Pas, ganz besonders bevorzugt kleiner als 1.5 Pas.
Es wird darauf hingewiesen, daß die so ermittelte mittlere Viskosität in keinem
direkten Zusammenhang mit der elektrooptischen Rotationsviskosität steht, die
in der Regel zwischen 0.1-2 Pas liegt (s, z. B. C. Escher et. al., Liquid
Crystals 1988, Vol. 3, No. 4, Seiten 469-484).
Die Erfindung wird durch die nachfolgenden Beispiele weiter erläutert.
Ein Aktivmatrix-LCD mit smektischer Flüssigkristallschicht wird hergestellt,
indem man zwei Glassubstrate A und B nach gründlicher Reinigung getrennt wie
folgt behandelt:
- - Aufbringen von rot-grün-blauen Farbfilterpunkten durch Fotolithographie
- - Aufbringen einer Ausgleichsschicht
- - Aufbringen einer ganzflächigen transparenten Elektrode aus Indium-Zinn- Oxid durch Sputtern
- - Aufbringen einer dünnen Isolierschicht aus Siliziumdioxid durch Sputtern oder Bedampfen
- - Aufbringen einer Hilfschicht für den Kleberahmen durch Fotolithographie
- - Aufbringen eines Orientierungsschicht-Naßfilms durch Spin-Coating oder Spray-Coating oder Roller-Coating oder Drucken
- - Trocknung und Aushärtung des Naßfilms
- - Ablösung der Hilfsschicht und damit Freisetzung von Oberfläche für den Kleberahmen
- - Reiben der Orientierungsschicht zur Orientierung
- - Aufdrucken des Kleberahmens, z. B. durch Siebdruck, auf die freigesetzte Oberfläche
- - Vortrocknen des Klebers im Kleberahmen
- - Aufbringen einer aktiven Matrix aus Dünnschicht Tansistoren (TFT) mitsamt Zuleitungen nach einschlägigen Verfahren der Dünnschicht- Technik (siehe vorstehendes Zitat von Tsukuba 1996)
- - Aufbringen einer dünnen Isolierschicht aus Siliziumdioxid durch Sputtern oder Bedampfen
- - Aufbringen einer Hilfsschicht für den Kleberahmen durch Fotolithographie
- - Aufbringen eines Orientierungsschicht-Naßfilms durch Spin-Coating oder Spray-Coating oder Roller-Coating oder Drucken
- - Trocknung und Aushärtung des Naßfilms
- - Ablösung der Hilfsschicht und damit Freisetzung von Oberfläche für den Kleberahmen
- - Reiben der Orientierungsschicht zur Orientierung
- - Aufdrucken der vorher sorgfältig entgasten und filtrierten handelsüblichen smektischen Flüssigkristallmischung ®FELIX-015-000 (Hersteller Hoechst/Frank furt) mit Hilfe einer handelsüblichen Offsetdruckmaschine derart, daß die erhabenen TFT-Elemente sowie der freigelegte Kleberahmen ausgespart werden.
Im Anschluß an die getrennte Fertigung beider Displayhälften wird das Substrat
B vorgelegt und das Substrat A in einer Positioniereinrichtung aufgelegt, und
die beiden Substrate werden zusammengepreßt. Durch kurzzeitiges lokales
Erwärmen des Kleberahmens z. B. mit einer maskierten Infrarotlampe oder durch
Härtung mit UV-Licht oder energiereicher Strahlung wird die Zelle verklebt.
Anschließend wird die Zelle über die Klärpunktstemperatur, also auf etwa
90°C, erhitzt und wieder abgekühlt, wodurch sich der smektische Flüssigkristall
entsprechend der Reiberichtung orientiert. Die Zelle wird mit Polarisatoren
versehen und mit der Ansteuerelektronik kontaktiert.
Ein Passivmatrix-LCD mit smektischer Flüssigkristallschicht wird hergestellt,
indem man zwei Glassubstrate A und B nach gründlicher Reinigung getrennt wie
folgt behandelt:
- - Aufbringen von rot-grün-blauen Farbfilterpunkten durch Fotolithographie
- - Aufbringen einer Ausgleichsschicht
- - Aufbringen einer ganzflächigen transparenten Elektrode aus Indium-Zinn- Oxid durch Sputtern (ITO-Schicht)
- - Strukturieren dieser ITO-Schicht zu Leiterbahnen (Zeilen)
- - Aufbringen einer Isolationsschicht durch Bedampfen
- - Aufbringen einer Hilfschicht für den Kleberahmen durch Fotolithographie
- - Aufbringen eines Naßfilms aus Polyimid-Vorstufen-Lösung durch Spin- Coating
- - Verdampfen des Lösemittels und Durchhärten des Polyimid-Films zur Ausbildung einer Orientierungsschicht
- - Ablösung der Hilfsschicht und damit Freisetzung von Oberfläche für den Kleberahmen
- - Reiben der Orientierungsschicht zum Orientieren
- - Aufdrucken des Kleberahmen, z. B. durch Siebdruck, auf die freigesetzte Oberfläche
- - Vortrocknen des Klebers
- - Aufbringen einer ganzflächigen transparenten Elektrode aus Indium-Zinn- Oxid durch Sputtern (ITO-Schicht)
- - Strukturieren dieser ITO-Schicht zu Leiterbahnen (Spalten)
- - Aufbringen einer Isolationsschicht durch Bedampfen
- - Aufbringen einer Hilfsschicht für den Kleberahmen durch Fotolithographie
- - Aufbringen eines Naßfilms aus Polyimid-Vorstufen-Lösung durch Spin- Coating
- - Verdampfen des Lösemittels und Durchhärten des Polyimid-Films zur Ausbildung einer Orientierungsschicht
- - Ablösung der Hilfsschicht und damit Freisetzung von Oberfläche für den Kleberahmen
- - Reiben der Orientierungsschicht zum Orientieren
- - Aufdrucken der vorher sorgfältig entgasten und filtrierten, anschließend mit Abstandhalterpartikeln vermischten smektischen Flüssigkristallmischung ®FELIX-015-100 (Hersteller: Hoechst/Frankfurt) mit Hilfe des Offsetdrucks derart, daß der freigelegte Kleberahmen ausgespart wird.
Im Anschluß an die getrennte Fertigung beider Displayhälften wird das Substrat
B vorgelegt und das Substrat A in einer evakuierten Positioniereinrichtung so
aufgelegt, daß die gewünschte Überkreuzung von Zeilen und Spalten entsteht,
und die beiden Substrate werden zusammengepreßt. Durch kurzzeitiges lokales
Erwärmen des Kleberahmens z. B. mit einer maskierten Infrarotlampe oder durch
Härtung mit UV-Licht oder energiereicher Strahlung wird die Zelle verklebt.
Danach wird die Zelle aus der evakuierten Positionier- und Verklebeeinrichtung
entfernt. Durch die Aussetzung des verklebten Displays auf den äußeren
Atmosphärendruck werden die beiden Substratgläser auf die Abstandhalter
gedrückt, und es ergibt sich so ein stabiler gleichmäßiger Zellenabstand.
Anschließend wird die Zelle über die Klärpunktstemperatur erhitzt und wieder
abgekühlt, wodurch sich der smektische Flüssigkristall entsprechend der
Reiberichtung orientiert. Die Zelle wird mit Polarisatoren versehen und mit der
Ansteuerelektronik kontaktiert.
Das in den Beispielen 1 und 2 beschriebene Verfahren wird dadurch modifiziert,
daß die zu druckende smektische Flüssigkristallschicht zur Verringerung der
Fließviskosität mit einem tiefer siedenen Lösemittel oder Zusatz, z. B. Toluol,
Methylenchlorid, Ethanol o. ä. versehen wird und somit besser in dünnen
Schichten druckbar wird.
Vor dem Zusammenkleben beider Zellen wird das beschichtete Substrat bei
Unterdruck oder im Luftstrom erwärmt und das Lösemittel verdampft.
Das in den Beispielen 1 und 2 beschriebene Verfahren wird dadurch
modifiziert, daß das Aufbringen der zu druckenden smektischen
Flüssigkristallschicht bei einer leicht erhöhten Temperatur von 50°C erfolgt und
die Flüssigkristallmischung somit fluider und damit besser in dünnen Schichten
druckbar wird.
Das in den Beispielen 1 und 2 beschriebene Verfahren wird dadurch
modifiziert, daß das Aufbringen der zu druckenden smektischen
Flüssigkristallschicht bei einer leicht erhöhten Temperatur von größer oder
gleich x °C erfolgt und die Flüssigkristallmischung somit fluider und damit
besser in dünnen Schichten druckbar wird. Dabei ergibt sich der Wert x aus
einer Messung der mittleren Scherviskosität der zu druckenden smektischen
Flüssigkristallmischung bzw. des zu druckenden Gemisches aus Flüssigkristall
und Fließmittel. Der Wert x ist die Temperatur, bei der die Viskosität kleiner
als 20 Pas (Pascalsekunde) beträgt. Versuche ergeben, daß sich unterhalb dieser
Viskosität eine gute Druckbarkeit mit einer handelsüblichen Flexodruckmaschine
(Hersteller Nissha Printing, Japan) ergibt.
Eine smektische Testmischung wird aus
- - 2-(4-Hexyloxyphenyl)-5-Octylpyrimidin (60 Gew.-%)
- - 2-(4-Decyloxyphenyl)-5-Octylpyrimidin (40 Gew.-%)
hergestellt.
Für diese Mischung wird die Viskosität als Funktion der Temperatur und der
Scherrate bestimmt.
Man erhält folgende Ergebnisse:
Claims (8)
1. Verfahren zur Herstellung smektischer Flüssigkristalldisplays, die zwei
Substrate und eine dazwischenliegende smektische Flüssigkristallschicht
aufweisen, dadurch gekennzeichnet, daß die smektische
Flüssigkristallschicht oder ein Gemisch, das den smektischen
Flüssigkristall enthält, in einem Druckprozeß auf mindestens eines der
beiden Substrate aufgebracht wird und die Substrate anschließend zum
smektischen Flüssigkristalldisplay zusammengefügt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Druckprozess bei einer Temperatur von mehr als 30°C erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
mittlere Scherviskosität der Druckmasse bei der Temperatur des
Druckprozesses weniger als 20 Pas beträgt.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß das Flüssigkristalldisplay eine Bilddiagonale von mehr als 25 cm (10
Zoll) aufweist.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die smektische Flüssigkristallschicht nur auf eines der Substrate
gedruckt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein
Kleberahmen zur Verbindung der beiden Substrate auf das andere Substrat
aufgebracht wird, und die Substrate vorgetrocknet und sodann
zusammengefügt werden.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Klebung
beim Zusammenfügen der Substrate durch lokales Erwärmen des
Kleberahmens erfolgt.
8. Smektisches Flüssigkristalldisplay, erhältlich nach einem Verfahren gemäß
einem der Ansprüche 1 bis 7.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1998132812 DE19832812A1 (de) | 1998-07-21 | 1998-07-21 | Verfahren zur Herstellung smektischer Flüssigkristalldisplays |
| JP11206534A JP2000047264A (ja) | 1998-07-21 | 1999-07-21 | スメクティック液晶ディスプレイの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE1998132812 DE19832812A1 (de) | 1998-07-21 | 1998-07-21 | Verfahren zur Herstellung smektischer Flüssigkristalldisplays |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19832812A1 true DE19832812A1 (de) | 2000-01-27 |
Family
ID=7874825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1998132812 Ceased DE19832812A1 (de) | 1998-07-21 | 1998-07-21 | Verfahren zur Herstellung smektischer Flüssigkristalldisplays |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000047264A (de) |
| DE (1) | DE19832812A1 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3006993A1 (de) | 2014-10-06 | 2016-04-13 | design GmbH castelberg | Elektro-optisches blendschutzglas |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6075817A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-30 | Sharp Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
| JPS62267720A (ja) * | 1986-05-15 | 1987-11-20 | Nec Corp | 液晶素子の製造方法 |
| JPS6455520A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Production of ferroelectric liquid crystal element |
| JPH02179612A (ja) * | 1988-12-30 | 1990-07-12 | Canon Inc | 高分子液晶素子 |
| JPH02242222A (ja) * | 1989-03-16 | 1990-09-26 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 液晶光学素子の製造法 |
| JPH05165016A (ja) * | 1991-12-12 | 1993-06-29 | Toshiba Corp | 高分子分散型液晶表示装置およびその製造方法 |
| JPH05341271A (ja) * | 1992-06-05 | 1993-12-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 強誘電性液晶素子およびその製造方法 |
| JPH06340836A (ja) * | 1993-05-31 | 1994-12-13 | Sumitomo Chem Co Ltd | ロータリースクリーン印刷用ペーストゾル組成物及びその製造方法 |
| JPH0743691A (ja) * | 1993-07-28 | 1995-02-14 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 強誘電性高分子液晶を用いた液晶光学素子の製造方法及びその階調表示方法 |
| JPH07128143A (ja) * | 1993-10-29 | 1995-05-19 | Shimadzu Corp | 赤外線変調器及び検出装置 |
| JPH07199202A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-08-04 | Toppan Printing Co Ltd | 強誘電性液晶または反強誘電性液晶表示素子とその製造方法 |
| JP2766218B2 (ja) * | 1995-05-26 | 1998-06-18 | 出光興産株式会社 | 液晶光学素子の製造方法 |
| JPH10170926A (ja) * | 1996-12-06 | 1998-06-26 | Canon Inc | 液晶素子及びこれを用いた液晶装置 |
-
1998
- 1998-07-21 DE DE1998132812 patent/DE19832812A1/de not_active Ceased
-
1999
- 1999-07-21 JP JP11206534A patent/JP2000047264A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3006993A1 (de) | 2014-10-06 | 2016-04-13 | design GmbH castelberg | Elektro-optisches blendschutzglas |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000047264A (ja) | 2000-02-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3502160C2 (de) | ||
| DE69232178T2 (de) | Ferroelektrische Flüssigkristallvorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE3546676C2 (de) | ||
| DE69931672T2 (de) | Flüssigkristallanzeigevorrichtung und Verfahren zur Herstellung derselben | |
| DE3782353T2 (de) | Optische modulationsvorrichtung. | |
| DE69937479T2 (de) | Dünnfilm-Kompensatoren, die eine planare Ausrichtung von polymerisierten Flüssigkristallen an der Grenzfläche zu Luft aufweisen | |
| DE3788724T2 (de) | Vorrichtungen mit einem smektischen flüssigkristall. | |
| DE69327700T2 (de) | Ferroelektrische Flüssigkristall-Vorrichtung | |
| DE69021962T2 (de) | Flüssigkristallgerät und chirale, smektische Flüssigkristall-Zusammensetzung zur Verwendung darin. | |
| DE69315331T2 (de) | Elektroabscheidungsverfahren zum anbringen von mikroverkapseltem fluessigkristallmaterial auf elektroden | |
| DE69015760T2 (de) | Flüssigkristallvorrichtung. | |
| DE3880018T2 (de) | Flüssigkristallwiedergabeanordnung und Verfahren zum Herstellen einer derartigen Wiedergabeanordnung. | |
| DE4420585A1 (de) | Elektrooptisches System | |
| DE3338842C2 (de) | ||
| DE2805970B2 (de) | Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung | |
| DE3631151C2 (de) | ||
| DE69219078T2 (de) | Optisches Flüssigkristall-Element | |
| DE69123965T2 (de) | Verfahren zur herstellung von flüssigkristallzellen | |
| DE69117398T2 (de) | Flüssigkristallanzeigevorrichtung | |
| DE19832812A1 (de) | Verfahren zur Herstellung smektischer Flüssigkristalldisplays | |
| DE19822830A1 (de) | Monostabiles ferroelektrisches Aktivmatrix-Display | |
| DE3215492A1 (de) | Anzeigevorrichtung mit fluessigkristall | |
| DE68901972T2 (de) | Fluessigkristallzusammensetzung, und fluessigkristallvorrichtung mit dieser zusammensetzung. | |
| DE3524803A1 (de) | Fluessigkristallvorrichtung | |
| DE69406994T2 (de) | Flüssigkristallmischung und ein diese enthaltendes Flüssigkristallelement |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: AZ ELECTRONIC MATERIALS (GERMANY) GMBH, 65203 WIES |
|
| 8131 | Rejection |