DE19713352A1 - Plasmabrennersystem - Google Patents
PlasmabrennersystemInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Plasmabrennersystem, umfassend
einen Hochfrequenz-Plasmabrenner mit einer Plasmabrennein
richtung, in welcher mittels Zuführung von Hochfrequenz
leistung eine Plasmaflamme erzeugbar ist, und eine Bear
beitungskammer, in welcher Werkstücke positionierbar sind, um
mittels der Plasmaflamme bearbeitet zu werden.
Die Erfindung betrifft weiter ein Verfahren zum Betreiben
eines Plasmabrennersystems, welches ein Hochfrequenz-Plasma
brenner mit einer Plasmabrenneinrichtung zum Erzeugen einer
Plasmaflamme und welches eine Bearbeitungskammer zur Bear
beitung eines Werkstücks mit Hilfe der Plasmaflamme umfaßt.
Derartige Plasmabrenner lassen sich beispielsweise für die
Beschichtung von Werkstücken oder zum Aufdampfen einsetzen,
wobei dann in diesem Falle ein Zusatzwerkstoff wie ein
Metallpulver in die Plasmaflamme eingeführt wird und als
Beschichtung oder Aufdampfschicht auf dem Werkstück nieder
geschlagen wird. Die Plasmaflamme wird dabei durch Hoch
frequenzheizung erzeugt, beispielsweise durch Hochfrequenz-In
duktionsheizung oder durch Hochfrequenzheizung in Hohlraum
resonatoren.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein
Plasmabrennersystem mit den eingangs genannten Merkmalen so
zu verbessern, daß es universell einsetzbar ist.
Diese Aufgabe wird bei dem erfindungsgemäßen Plasmabrenner
system mit den eingangs genannten Merkmalen dadurch gelöst,
daß das Plasmabrennersystem eine Höheneinstellvorrichtung
aufweist, durch die ein vertikaler Abstand zwischen der
Plasmabrenneinrichtung des Hochfrequenz-Plasmabrenners und
einem zu bearbeitenden Werkstück einstellbar ist.
Auf diese Weise kann bei dem erfindungsgemäßen Plasmabrenner
system ein optimaler vertikaler Abstand zwischen dem Werk
stück und der Plasmaflamme, welche in der Plasmabrenneinrich
tung erzeugt wird, eingestellt werden. Dadurch kann mit dem
erfindungsgemäßen Plasmabrennersystem eine Vielzahl von Werk
stücken mit unterschiedlichen Werkstückgeometrien bearbeitet
werden. Es läßt sich eine konturgenaue Nachführung auch bei
ungünstigen oder sperrigen Werkstückgeometrien erreichen. Bei
Werkstücken, die eine große Höhe aufweisen, läßt sich die
Bearbeitungskammer besser ausnutzen, da durch eine optimierte
Höheneinstellung eine Einengung des Gesichtsfeldes beispiels
weise für eine Zusatzwerkstoffbeaufschlagung des Werkstückes
durch Anpassung des vertikalen Abstandes vermeidbar ist.
Es ist besonders günstig, wenn Hochfrequenzleitungen von
einem Anpaßglied, welches zur Einkopplung der Hochfrequenz
leistung eines Hochfrequenzgenerators in die Hochfrequenz
leitungen dient, starr zu der Plasmabrenneinrichtung des
Hochfrequenzplasmabrenners geführt sind. Zur Erzeugung der
Plasmaflamme muß die Plasmabrenneinrichtung mit Hochfrequenz
leistung über die Hochfrequenzleitungen versorgt werden. Zur
Übertragung einer hohen Hochfrequenzleistung und zur opti
malen Einkopplung dieser Hochfrequenzleistung in ein Arbeits
gas zur Erzeugung der Plasmaflamme muß das Anpaßglied auf die
Hochfrequenzleitungen und die Plasmabrenneinrichtung insbe
sondere bezüglich des Wellenwiderstandes abgestimmt sein.
Durch die starre Führung der Hochfrequenzleistungen ist
gewährleistet, daß bei einer Einstellung des vertikalen
Abstands zwischen der Plasmabrenneinrichtung und dem zu
bearbeitenden Werkstück die Abstimmung durch das Anpaßglied
erhalten bleibt, so daß bei jeder Höheneinstellung bei einem
einmal abgestimmten Anpaßglied die gleiche Hochfrequenz
leistung in die Plasmabrenneinrichtung eingekoppelt wird und
die Plasmaflamme dann stets die gleichen Charakteristika auf
weist.
In einer günstigen Variante einer Ausführungsform sind die
Hochfrequenzleitungen als Leitungsresonatoren ausgebildet, um
auf diese Weise die Übertragung einer hohen Hochfrequenz
leistung zu der Plasmabrenneinrichtung zu ermöglichen.
Besonders günstig ist es, wenn der Hochfrequenz-Plasmabrenner
mit der Plasmabrenneinrichtung durch die Höheneinstellvor
richtung in einer vertikalen Richtung bezüglich des zu bear
beitenden Werkstücks verschieblich ist. Auf diese Weise ist
der Hochfrequenz-Plasmabrenner relativ zum Werkstück ver
schieblich, welches dann insbesondere nur in einer x-y-Ebene
senkrecht zu der vertikalen Richtung in der Bearbeitungs
kammer verschieblich zu sein braucht. Dadurch läßt sich die
x-y-Bewegung des Werkstücks von der vertikalen z-Bewegung
entkoppeln, da letztere durch eine Hochfrequenz-Plasma
brenner-Verschiebung erfolgt. Auf diese Weise läßt sich eine
Positioniervorrichtung zur Bewegung des Werkstücks in der
Bearbeitungskammer mit geringem Aufwand und mit geringer
betriebsmäßiger Störanfälligkeit einsetzen. Dies ist ins
besondere von großem Vorteil, wenn die Bearbeitungskammer
eine Vakuumkammer ist und die Werkstücke mit Hilfe der
Plasmaflamme im Vakuum bearbeitet werden sollen. Durch die
Einstellung des vertikalen Abstands mittels der Höhenein
stellung des Hochfrequenz-Plasmabrenners können insbesondere
bei geringem Abstand der Werkstücke vom Hochfrequenz-Plasma
brenner höhere Genauigkeiten erreicht werden als wenn eine
Positioniervorrichtung ein Werkstück in allen drei Raum
richtungen (x, y, z) bewegen müßte.
Günstig ist es, wenn das Anpaßglied in einem festen Abstand
zum Hochfrequenz-Plasmabrenner angeordnet ist und mit diesem
verschieblich ist. Auf diese Weise ist sichergestellt, daß
die Hochfrequenzleitungen zwischen dem Anpaßglied und der
Plasmabrenneinrichtung keine Dehnungen oder Stauchungen
erfahren, die sonst eine Neuabstimmung des Anpaßgliedes nötig
machen würden.
In einer Variante einer Ausführungsform ist der Hochfrequenz-Ge
nerator fest bezüglich des Anpaßgliedes angeordnet, so daß
er mit dem Hochfrequenz-Plasmabrenner verschieblich ist. Dies
ist insbesondere vorteilhaft, wenn die Einkopplung der Hoch
frequenzleistung von dem Hochfrequenz-Generator in das Anpaß
glied kritisch ist, da diese Einkopplung dann durch eine Ver
schiebung des Hochfrequenz-Plasmabrenners nicht verändert
wird.
Es kann auch vorgesehen sein, daß der Hochfrequenz-Generator
fest gegenüber der Bearbeitungskammer angeordnet ist. Dadurch
wird die bei der Verschiebung des Plasmabrenners zu bewegende
Masse verringert, da der Hochfrequenz-Generator selber nicht
mitverschoben werden muß.
In einer besonders vorteilhaften Ausführungsform der erfin
dungsgemäßen Vorrichtung ist das Anpaßglied abstimmbar zur
Optimierung der Hochfrequenz-Leistungszufuhr durch die Hoch
frequenzleitungen zu der Plasmabrenneinrichtung. Dadurch kann
die Hochfrequenzheizung optimiert werden, um eine große
Leistung in ein Arbeitsgas zur Erzeugung der Plasmaflamme
einzukoppeln und bei Änderungen des Systemaufbaus, beispiels
weise Verkürzung oder Verlängerung der Hochfrequenzleitungen
oder Austausch der Plasmabrenneinrichtung, kann auf einen
neuen optimalen Leistungseinkopplungswert abgestimmt werden.
In einer konstruktiv besonders einfachen Ausführungsform ist
der Hochfrequenz-Plasmabrenner an einem Gleitführungselement
der Höheneinstellvorrichtung, welches in vertikaler Richtung
verschieblich ist, gehalten.
Günstigerweise führen dann Versorgungsleitungen für den
Plasmabrenner durch das Gleitführungselement, um auf diese
Weise die Zufuhr von Versorgungsmedien zu dem Hochfre
quenz-Plasmabrenner zu gewährleisten.
Die Versorgungsleitungen umfassen dabei die Hochfrequenz
leitungen zur Plasmabrenneinrichtung, welche auf diese Weise
starr führbar sind. Weiter umfassen die Versorgungsleitungen
eine Arbeitsgaszuführung zur Plasmabrenneinrichtung, wobei
das Arbeitsgas ein Brennergas ist, welches zur Plasmaerzeu
gung dient. Weiter umfassen die Versorgungsleitungen eine
Kühlmittelzuführung zu der und eine Kühlmittelabführung von
der Plasmabrennereinrichtung.
Bei einer vorteilhaften Variante der erfindungsgemäßen Vor
richtung umfassen die Versorgungsleitungen auch eine Zusatz
werkstoffzuführung zur Plasmabrennereinrichtung, wobei der
Zusatzwerkstoff beispielsweise als Beschichtungsmittel einge
setzt ist. Bei einer günstigen Variante einer Ausführungsform
weist die Zusatzwerkstoffzuführung eine Düse zum Einblasen
von Zusatzwerkstoff in die Plasmaflamme auf. Dadurch läßt
sich die Plasmaflamme optimal nutzen, um das zu bearbeitende
Werkstück mit Zusatzwerkstoff zu beaufschlagen.
In einer vorteilhaften Variante einer Ausführungsform umfaßt
das Gleitführungselement eine Kühlmittelzuführung und eine
Kühlmittelabführung zur Beaufschlagung der Hochfrequenz
leitungen im Gleitführungselement mit Kühlmittel. Auf diese
Weise läßt sich durch Kühlung der Hochfrequenzleitungen die
Hochfrequenzleistungszuführung zur Plasmabrenneinrichtung
weiter verbessern.
Es kann erfindungsgemäß vorgesehen sein, daß die Bearbei
tungskammer als Vakuumkammer ausgebildet ist. Dies ist ins
besondere vorteilhaft, wenn das erfindungsgemäße Plasma
brennersystem für Beschichtungsaufgaben von Werkstücken ein
gesetzt wird, um Verunreinigung der Werkstückoberflächen und
der Beschichtungswerkstoffe beim Niederschlagen auf den Werk
stücken zu vermeiden.
Günstigerweise umfaßt das Gleitführungselement eine Dich
tungseinrichtung zur gasdichten Abdichtung gegen die Bearbei
tungskammer, so daß eine Entkopplung von der Gas- bzw.
Vakuumatmosphäre der Bearbeitungskammer vorliegt. Die Dich
tungseinrichtung ist günstigerweise durch einen Membranbalg
gebildet, durch den eine äußerst elastische, radial druck
sichere Abdichtung gewährleistbar ist.
Günstig ist es dann auch, wenn das Gleitführungselement eine
Dichtung umfaßt, durch die ein Innenraum des Gleitführungs
elements gasdicht gegenüber einem Außenraum des Plasma
brennersystems abgedichtet ist. Auf diese Weise ist der
Innenraum des Gleitführungselementes mit einem Medium beauf
schlagbar. Bei dem Beaufschlagungsmedium handelt es sich vor
teilhafterweise um ein Schutzmedium zum Unterdrücken von
Hochfrequenz-Durchschlägen. Das Beaufschlagungsmedium kann
gasförmig sein, denkbar ist beispielsweise SF6 als Schutzgas
zur Unterdrückung von Hochfrequenzdurchschlägen. Es ist auch
denkbar, daß beispielsweise Silikonöl als flüssiges Beauf
schlagungsmedium eingesetzt wird.
Vorteilhaft ist es, wenn das Beaufschlagungsmedium durch den
Innenraum des Gleitführungselementes zur Kühlung der Hoch
frequenzleitungen geführt ist. Besonders günstig ist dann
eine Kombinationswirkung des Beaufschlagungsmediums als
Durchschlags-Unterdrückungsmedium und als Kühlmedium.
In einer konstruktiv besonders einfachen Variante einer Aus
führungsform ist das Gleitführungselement durch ein Gleitrohr
gebildet.
Konstruktive Vorteile sind auch dadurch gegeben, daß das An
paßglied kraftschlüssig bezüglich des Gleitführungselements
in einem festen Abstand zum Hochfrequenz-Plasmabrenner ge
halten ist.
Dies läßt sich in einer günstigen Variante einer Ausführungs
form dadurch erreichen, daß an dem Gleitführungselement
kraftschlüssig in einem festen Abstand zum Hochfrequenz-
Plasmabrenner ein Halteelement angeordnet ist, an welchem das
Anpaßglied fixiert ist.
Zur Erzielung einer genauen und einfachen Höheneinstellung
ist es vorteilhaft, wenn die Höheneinstellvorrichtung einen
Stellantrieb umfaßt. Günstigerweise umfaßt die Höheneinstell
vorrichtung weiter eine Steuereinheit zum Steuern des verti
kalen Abstands des Hochfrequenz-Plasmabrenners relativ zu dem
Werkstück, um eine genaue und präzise Einstellung der verti
kalen Abstände zwischen den Plasmabrenneinrichtung und dem
Werkstück zu gewährleisten.
Zur Erhöhung der Arbeitssicherheit bei dem erfindungsgemäßen
Plasmabrennersystem ist es vorgesehen, daß die Bearbeitungs
kammer geerdet ist. Aus dem Stand der Technik sind Plasma
brennersysteme bekannt, bei denen die Hochfrequenz-Plasma
brenner von einem Anpaßglied symmetrisch eingespeist werden
und zur Vermeidung der Gefahr von Überschlägen innerhalb
einer Vakuumkammer derartige Kammern ungeerdet betrieben
werden, um Kammerwände auf einem schwimmenden Potential zu
halten, und dadurch Überschläge zu vermeiden. Durch das
erfindungsgemäße Plasmabrennersystem sind solche Hoch
frequenzdurchschläge verringerbar oder vermeidbar.
In einer vorteilhaften Variante einer Ausführungsform ist in
der Bearbeitungskammer ein Positioniervorrichtung zur Posi
tionierung des zu bearbeitenden Werkstücks relativ zum Hoch
frequenz-Plasmabrenner angeordnet. Dadurch kann das Werkstück
innerhalb der Bearbeitungskammer bewegt und positioniert
werden, um insbesondere eine Nachführung des Werkstückes zur
Bearbeitung mittels der Plasmaflamme zu ermöglichen. Durch
die Positioniervorrichtung ist das Werkstück in einer hori
zontalen Ebene senkrecht zur vertikalen Richtung positionier
bar. Es kann auch vorgesehen sein, daß durch die Positionier
vorrichtung das Werkstück in vertikaler Richtung positionier
bar ist. Dies kann beispielsweise zu einer Vorpositionierung
oder Grobpositionierung des vertikalen Abstandes zwischen dem
Werkstück und der Plasmabrenneinrichtung benutzt werden.
In einer günstigen Variante einer Ausführungsform ist die
Höheneinstellvorrichtung an einer Halteeinrichtung gehalten,
welche festlegbar verschieblich bezüglich der Bearbeitungs
kammer gelagert ist. Dies ermöglicht eine einfache Zugäng
lichkeit und Austauschbarkeit des Hochfrequenz-Plasmabrenners
des Plasmabrennersystems, indem beispielsweise eine Verbin
dung zwischen der Höheneinstellvorrichtung und dem Plasma
brenner gelöst wird und dann mittels des Rahmens die Höhen
einstellvorrichtung in eine nichtbehindernde Position ver
schoben wird.
Der vorliegenden Erfindung liegt ferner die Aufgabe zugrunde,
ein Verfahren mit den eingangs genannten Merkmalen zu
schaffen, das eine universelle Einsetzbarkeit eines Plasma
brennersystems erlaubt.
Diese Aufgabe wird bei dem Verfahren mit den eingangs ge
nannten Merkmalen erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß ein
vertikaler Abstand zwischen dem Hochfrequenz-Plasmabrenner
und dem Werkstück durch Verschiebung des Hochfrequenz-Plasma
brenners relativ zum Werkstück eingestellt wird, wobei ein
Anpaßglied, durch welches Hochfrequenzleistung in Hoch
frequenzleitungen eingekoppelt wird, welche zu der Plasma
einrichtung führen, in einem festen Abstand zum Plasmabrenner
angeordnet ist, so daß die Hochfrequenzleitungen starr führ
bar sind.
Die Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens wurden bereits
im Zusammenhang mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung disku
tiert.
In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 Eine vordere Schnittansicht eines erfindungs
gemäßen Plasmabrennersystems;
Fig. 2 eine seitliche Schnittansicht eines erfin
dungsgemäßen Plasmabrennersystems und
Fig. 3 eine schematische Darstellung einer Plasma
brenneinrichtung.
Ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Plasma
brennersystems, welches in Fig. 1 als Ganzes mit 10 bezeich
net ist, umfaßt eine Bearbeitungskammer 12, in der ein
Werkstück 14 oder eine Gruppe von Werkstücken positionierbar
ist. Dazu ist eine Positioniervorrichtung 16, auf der das
Werkstück 14 fixierbar ist, fest mit einem Boden 18 der Bear
beitungskammer 12 verbunden. Die Positioniervorrichtung 16
erlaubt eine Verschiebung des Werkstücks 14 in einer Ebene x-y,
welche senkrecht zu einer vertikalen Achse 20 (z-Achse)
des Plasmabrennersystems 10 ist.
In einer Variante einer Ausführungsform ist es vorgesehen,
daß die Positioniervorrichtung 16 auch eine Positionierung in
einer vertikalen Richtung 22 (z-Richtung) parallel zur verti
kalen Achse 20 aufweist.
Die Bearbeitungskammer 12 weist einen Mantel 24 auf, welcher
im Querschnitt (Fig. 2) halbkreisförmig ausgebildet ist. Der
Mantel 24 ist aus einem metallischen Werkstoff gefertigt und
geerdet. Er ist insbesondere drucksicher und gasdicht und
weist Anschlüsse 26 auf, die mit einer Vakuumpumpe (in der
Fig. nicht gezeigt) verbunden sind. Dadurch läßt sich in
einem Bearbeitungsraum 28 der Bearbeitungskammer 12 ein
Vakuum erzeugen, um das Werkstück 14 in einem Vakuum bear
beiten zu können.
Mit der Bearbeitungskammer 12 kraftschlüssig verbunden ist
eine Rahmenstruktur 30, die eine Höheneinstellvorrichtung 32
hält, wobei die Höheneinstellvorrichtung 32 einen Hochfre
quenz-Plasmabrenner 34 hält, in welchem eine Plasmaflamme zur
Bearbeitung des Werkstückes 14 erzeugbar ist.
Die Rahmenstruktur 30 umfaßt bogenförmige Rahmenträgerele
mente 36, welche jeweils an äußeren im Querschnitt halbkreis
förmigen Enden der Bearbeitungskammer 12 angeordnet sind. Auf
den bogenförmigen Rahmenträgerelementen sind Rahmenstützele
mente 38 abgestützt; diese sind bevorzugterweise symmetrisch
zur vertikalen Achse 20 angeordnet, um eine gleichmäßige
Kraftverteilung des Gewichts der Höheneinstellvorrichtung 32
auf die Rahmenstruktur 30 zu gewährleisten. Durch die Rahmen
stützelemente werden in horizontaler Richtung senkrecht zur
vertikalen Achse 20 Rahmenträger 40 gehalten, die beispiels
weise ein H-Profil aufweisen.
Durch die Rahmenträger 40 ist eine Haltebasis 42 gebildet,
auf der eine Halteeinrichtung 44 der Höheneinstellvorrichtung
32 gehalten ist. Die Halteeinrichtung 44 umfaßt parallel zur
vertikalen Achse 20 angeordnete Halteelemente 46, welche ins
besondere symmetrisch zur vertikalen Achse 20 angeordnet
sind, und die an ihrem oberen Ende mittels einer Oberplatte
48 verbunden sind.
Die aus den Halteelementen 46 und der Oberplatte 48 gebildete
Halteeinrichtung 44 ist auf Lagern 50 gelagert, so daß sie
senkrecht zur vertikalen Achse 20 und senkrecht zur Richtung
der Rahmenträger 40 verschieblich ist. Die Halteeinrichtung
44 weist Festlegungsmittel (in der Fig. nicht gezeigt) auf,
durch die auf wieder lösbare Weise die Halteeinrichtung 44 an
den Rahmenträgern 40 kraftschlüssig fixierbar ist.
Die Oberplatte 48 weist in ihrem Zentrum koaxial zur verti
kalen Achse 20 eine Öffnung 52, in der eine Führung 54 ange
ordnet ist. Durch diese Öffnung 52 läuft in z-Richtung 22
verschieblich geführt eine Spindel 56 koaxial zur vertikalen
Achse 20. Die Spindel 56 ist durch einen Stellantrieb 58,
welcher von der Oberplatte 48 gehalten ist, in z-Richtung 22
einstellbar verschieblich. Dazu umfaßt der Stellantrieb eine
Welle 60 und eine Umsetzungseinheit 62, durch die eine Rota
tion der Welle 60 in eine z-Bewegung der Spindel 56 umge
wandelt wird. Der Stellantrieb 58 und damit die Bewegung der
Spindel 56 wird durch eine Steuereinheit 59 gesteuert.
Bei dem Stellantrieb 58 kann es sich beispielsweise um einen
elektrischen Antrieb oder einen hydraulischen Antrieb han
deln.
An ihrem unteren, der Bearbeitungskammer 12 zugewandten Ende
ist die Spindel 56 mit einer ersten Montageplatte 64 kraft
schlüssig verbunden. Die erste Montageplatte 64 ist mit einer
zweiten Montageplatte 66 (Fig. 2), welche der Bearbeitungs
kammer 12 zugewandt angeordnet ist, kraftschlüssig verbunden.
Dazu sind zwischen erster Montageplatte 64 und zweiter Mon
tageplatte 66 parallel zur vertikalen Achse 20 angeordnete
Träger 68 bevorzugterweise in der Nähe eines äußeren Randes
jeweils der ersten Montageplatte 64 und der zweiten Montage
platte 66 mit diesen über lösbare Verbindungen 70, insbeson
dere über Schraubverbindungen, verbunden.
An der zweiten, unteren Montageplatte 66 ist ein Gleitfüh
rungselement 72 kraftschlüssig gehalten, welches sich koaxial
zur vertikalen Achse 20 in Richtung der Bearbeitungskammer 12
erstreckt. Das Gleitführungselement 72 ist insbesondere als
Gleitrohr ausgebildet.
An den Halteelementen 46 der Halteeinrichtung 44 sitzen Füh
rungen 74 zur vertikalen Führung des Gleitführungselementes
72, um dessen Verschieblichkeit in z-Richtung zu gewähr
leisten.
An einem unteren Ende des Gleitführungselements 72 ist der
Hochfrequenz-Plasmabrenner 34 gehalten, welcher aufgrund der
Verschieblichkeit der Spindel 56 durch den Stellantrieb 58
mit dem Gleitführungselement 72 in z-Richtung 22 im Bearbei
tungsraum 28 der Bearbeitungskammer 12 verschieblich ist, so
daß ein vertikaler Abstand A zwischen dem zu bearbeitenden
Werkstück 14 und einem Austritt 76 des Hochfrequenz-Plasma
brenners 34 durch die Höheneinstellvorrichtung 32 einstellbar
ist.
An dem Gleitführungselement 72 ist eine Dichtungseinrichtung
78 angeordnet, durch die das Gleitführungselement 72 gasdicht
gegen den Bearbeitungsraum 28 der Bearbeitungskammer 12 abge
dichtet ist. Dabei handelt es sich insbesondere um einen Mem
branbalg, der eine drucksichere Dichtheit bei der vertikalen
Bewegung des Hochfrequenz-Plasmabrenners gewährleistet.
Der Hochfrequenz-Plasmabrenner umfaßt eine Plasmabrennein
richtung 80 (Fig. 3), in der mittels Zuführung von Hoch
frequenzleistung eine Plasmaflamme 82 erzeugbar ist.
Durch einen Innenraum 84 des Gleitführungselements 72 führt
eine Zuführung 86 für Arbeitsgas (in der Fig. 1 und 2 nicht
gezeigt) von einer Arbeitsgasversorgungseinheit zu einem
Brennraum 88 der Plasmabrenneinrichtung 80 des Hochfre
quenz-Plasmabrenners 34. Als Arbeitsgas, das als Plasmamedium in
der Plasmabrenneinrichtung 80 dient, kann beispielsweise
Wasserstoff oder Argon zum Einsatz kommen.
Von einer Zusatzwerkstoff-Versorgungseinheit (in der Fig.
nicht gezeigt) führt eine Zuführung 90 für Zusatzwerkstoff
durch den Innenraum 84 des Gleitführungselements 72 in den
Brennraum 88 der Plasmabrenneinrichtung 80. An ihrer Mündung
in den Brennraum 88 weist die Zuführung 90 für Zusatzwerk
stoff eine Düse 92 auf, durch die insbesondere pulverförmiger
Zusatzwerkstoff in die Plasmaflamme 82 einführbar ist. Der
Zusatzwerkstoff, bei dem es sich beispielsweise um ein
Metallpulver handeln kann, dient beispielsweise als Be
dampfungswerkstoff für das Werkstück 14 und wird dazu zur
Erhitzung in die Plasmaflamme 82 eingespritzt.
Die Plasmabrenneinrichtung umfaßt Hochfrequenz-Leistungsein
kopplungsmittel 94, um Hochfrequenzleistung in das Arbeitsgas
zur Erzeugung der Plasmaflamme 82 einzukoppeln. Diese Ein
kopplung kann insbesondere auf induktive Weise erfolgen und
das Hochfrequenz-Leistungseinkopplungsmittel 94 kann dann
durch eine Induktionsspule gebildet sein. Es kann aber auch
vorgesehen sein, daß das Hochfrequenz-Leistungseinkopplungs
mittel 94 durch einen Hohlraumresonator gebildet ist.
Bei einer Variante einer Ausführungsform ist das Hochfre
quenz-Leistungseinkopplungsmittel 94 eine Staycast-vergossene
Spule, bei der die Spulenwindungen 96 in ein Stoffmaterial
eingegossen sind. Eine solche Staycast-vergossene Spule
erlaubt eine hohe Leistungszufuhr in das Arbeitsgas.
Zur Kühlung des Hochfrequenz-Leistungseinkopplungsmittel 94
sind Kühlmittelzuführungen 98 und Kühlmittelabführungen 100
durch den Innenraum 84 des Gleitführungselementes 72 zum
Hochfrequenz-Leistungseinkopplungsmittel 94 geführt (in der
Fig. 1 und 2 nicht gezeigt).
Zur Versorgung des Hochfrequenz-Leistungseinkopplungsmittels
94 mit Hochfrequenzleistung sind Hochfrequenzleitungen 102
von einem Anpaßglied 104 zu der Plasmabrenneinrichtung 80
durch den Innenraum 84 des Gleitführungselementes 72 geführt.
Das Anpaßglied ist auf einem Halteelement 106, welches kraft
schlüssig mit dem Gleitführungselement 72 verbunden ist,
angeordnet. Dadurch ist der Abstand zwischen dem Anpaßglied
104 und dem Hochfrequenz-Plasmabrenner 34 mit seiner Plasma
brenneinrichtung 80 für jeden vertikalen Abstand A konstant
und wird durch eine Verschiebung in z-Richtung 22 des Hoch
frequenz-Plasmabrenners 34 nicht verändert. Die Hochfrequenz
leitungen 102 sind zwischen dem Anpaßglied 104 und der
Plasmabrenneinrichtung 80 starr geführt. Bei diesen Hoch
frequenzleitungen 102 kann es sich insbesondere um als
Leitungsresonatoren ausgebildete Hochfrequenzleitungen
handeln, welche beispielsweise durch Kupferrohre mit einem
rechteckigen Querschnitt gebildet sind.
Das Anpaßglied 104 ist mit einem Hochfrequenz-Generator (in
der Fig. nicht gezeigt) verbunden, welcher die Hochfrequenz
leistung erzeugt. Dieser Hochfrequenz-Generator ist in einer
Variante einer Ausführungsform fest gegenüber der Bearbei
tungskammer 12 angeordnet, so daß er bei einer Höhenver
stellung des Hochfrequenz-Plasmabrenners 34 nicht verschoben
wird. Einspeisungsleitungen (in der Fig. nicht gezeigt)
zwischen dem Hochfrequenz-Generator und dem Anpaßglied 104
müssen dann flexibel ausgebildet sein.
In einer anderen Variante einer Ausführungsform ist der Hoch
frequenz-Generator auf dem Halteelement 106 fest gegenüber
dem Anpaßglied 104 gehalten.
Das Anpaßglied 104 dient zur Optimierung der Hochfrequenz
leistungszufuhr zur Plasmabrenneinrichtung 80. Es ermöglicht
insbesondere eine Abstimmung auf den Wellenwiderstand der
Hochfrequenzleitungen 102 und der Plasmabrenneinrichtung 80.
Da die Hochfrequenzleitungen 102 starr bezüglich des Anpaß
gliedes 104 und der Plasmabrenneinrichtung 80 sind, wird eine
einmal eingestellte Abstimmung durch eine vertikale Verschie
bung in z-Richtung 22 nicht zerstört.
An einem oberen Ende, welches der Bearbeitungskammer 12 abge
wandt ist, weist das Gleitführungselement 72 eine Dichtung
108 auf, durch den der Innenraum 84 des Gleitführungsele
mentes 72 gegenüber einem Außenraum des Plasmabrennersystems
10 gasdicht ist. Durch dieses Dichtungselement 108 sind die
Hochfrequenzleitungen 102 geführt. Weiter sind durch das
Dichtungselement 108 die Zuführung 90 für Zusatzwerkstoff,
die Kühlmittelzuführungen 98 für das Hochfrequenzleistungs-Ein
kopplungsmittel 94 sowie die entsprechenden Kühlmittel
abführungen 100 geführt. Die Zuführung 90 sowie die Zufüh
rungen 98 und die Abführungen 100 sind dabei so ausgebildet,
daß ihre Funktionsfähigkeit durch eine Verschiebung in
z-Richtung des Hochfrequenz-Plasmabrenners 34 nicht beein
trächtigt wird. Dies kann beispielsweise dadurch erreicht
werden, daß sie außerhalb des Innenraums 84 des Gleitfüh
rungselementes 72 flexibel ausgebildet sind.
Bei einer Variante einer Ausführungsform des erfindungs
gemäßen Plasmabrennersystems 10 ist es vorgesehen, daß der
Innenraum 84 des Gleitführungselementes 72 mit einem Medium
beaufschlagbar ist. Bei diesem Medium kann es sich insbeson
dere um ein Schutzmedium zum Unterdrücken von Hochfrequenz
durchschlägen bei den Hochfrequenzleitungen 102, die im
Innenraum 84 verlaufen, handeln. Beispielsweise kann SF6 oder
Silikonöl eingesetzt werden.
Bei einer Variante einer Ausführungsform ist es vorgesehen,
daß das Beaufschlagungsmedium durch den Innenraum 84 des
Gleitführungselementes 72 geführt ist, um auf diese Weise die
Hochfrequenzleitungen 102 in dem Innenraum 84 zu kühlen.
Besonders vorteilhaft ist die Kombination des Beauf
schlagungsmediums als Schutzmedium und als Kühlmedium.
Aufgrund der Dichtung 108 läßt sich in dem Innenraum 84 des
Gleitführungselementes 72 ein vom Druck des Außenraums des
Plasmabrennersystems 10 abweichendes Druckniveau einstellen.
Das erfindungsgemäße Plasmabrennersystem arbeitet wie folgt:
Über den Hochfrequenz-Generator wird Hochfrequenzleistung in das Anpaßglied 104 eingekoppelt. Dieses ist insbesondere über Wellenwiderstandanpassung so abgestimmt, daß diese Hoch frequenzleistung optimal über die Leitungen 102 in das Hoch frequenzleistungs-Einkopplungsmittel 94 der Plasmabrennein richtung 80 des Hochfrequenz-Plasmabrenners 34 eingekoppelt wird. Das Arbeitsgas, welches über die Zuführung 90 in die Plasmabrenneinrichtung 80 eingeführt wird, nimmt in den Hoch frequenzfeldern beispielsweise mittels induktiver Hoch frequenzheizung Energie auf und es entsteht eine Plasmaflamme 82. Diese Plasmaflamme ist in z-Richtung 22 in Richtung des Werkstückes 14 gerichtet und wird zur Bearbeitung dieses Werkstückes 14 eingesetzt.
Über den Hochfrequenz-Generator wird Hochfrequenzleistung in das Anpaßglied 104 eingekoppelt. Dieses ist insbesondere über Wellenwiderstandanpassung so abgestimmt, daß diese Hoch frequenzleistung optimal über die Leitungen 102 in das Hoch frequenzleistungs-Einkopplungsmittel 94 der Plasmabrennein richtung 80 des Hochfrequenz-Plasmabrenners 34 eingekoppelt wird. Das Arbeitsgas, welches über die Zuführung 90 in die Plasmabrenneinrichtung 80 eingeführt wird, nimmt in den Hoch frequenzfeldern beispielsweise mittels induktiver Hoch frequenzheizung Energie auf und es entsteht eine Plasmaflamme 82. Diese Plasmaflamme ist in z-Richtung 22 in Richtung des Werkstückes 14 gerichtet und wird zur Bearbeitung dieses Werkstückes 14 eingesetzt.
Um das Werkstück optimal zu bearbeiten, ist der Abstand A
zwischen dem Werkstück und der Plasmabrenneinrichtung 80 und
insbesondere dem Austritt 76 und dem Werkstück 14 ent
scheidend. Durch den Stellantrieb 58 ist dieser Abstand A
einstellbar. Insbesondere wird dadurch der Hochfrequenz-Plas
mabrenner 34 in z-Richtung 22 dem Werkstück 14 nach
führbar, beispielsweise wenn dieses Höhenstrukturen in
vertikaler Richtung aufweist.
Bei der Bearbeitung des Werkstückes 14 kann es sich bei
spielsweise um eine Aufdampfungsbearbeitung in einem Vakuum
handeln. Dazu wird über die Düse 92 ein Zusatzwerkstoff in
die Plasmaflamme 82 eingeführt, der als Aufdampfmittel für
das Werkstück 14 dient und sich auf diesem niederschlagen
soll.
Die Positioniervorrichtung 16 erlaubt eine Bewegung des Werk
stückes in einer x-y-Ebene senkrecht zur z-Richtung 22; die
Bewegung in z-Richtung und somit die Einstellung des verti
kalen Abstandes A erfolgt über die Höheneinstellvorrichtung
32. Es kann auch vorgesehen sein, daß die Positioniervorrich
tung 16 in der z-Richtung 22 eine Positionierung des Werk
stückes 14 erlaubt, beispielsweise als Grobeinstellung oder
Vorpositionierung.
Die Einkopplung von Hochfrequenzleistung in das Hochfrequenz
leistungs-Einkopplungsmittel 94 ist insbesondere kritisch
gegenüber Änderungen der Geometrie der Hochfrequenzleitungen
102, da durch Änderungen der Geometrie insbesondere eine
Wellenwiderstandsanpassung durch das Anpaßglied 104 aufge
hoben wird. Bei dem erfindungsgemäßen Plasmabrennersystem 10
ist das Anpaßglied 104 stets in einem festen Abstand zu der
Plasmabrenneinrichtung 80 gehalten und die Leitungen 102 sind
stark geführt, so daß sich insbesondere ihre geometrische
Form nicht ändert. Dadurch tritt keine schädliche Belastung
der Hochfrequenzleitungen 102 durch eine Einstellung des ver
tikalen Abstandes A zwischen Hochfrequenz-Plasmabrenner 34
und Werkstück 14 ein, so daß die Abstimmung des Anpaßgliedes
104 erhalten bleibt.
Durch eine Kopplung der x-y-Bewegung des Werkstückes auf der
Positioniervorrichtung 16 und der Bewegung-in z-Richtung 22
des Hochfrequenz-Plasmabrenners 34 über die Steuereinheit 59
läßt sich die Bearbeitung, beispielsweise die Beaufdampfungs
bearbeitung, von Werkstücken 14 oder Gruppen von Werkstücken
14 optimieren, indem eine konturgenaue Nachführung und An
passung in alle drei Raumrichtungen ermöglicht ist.
Die Halteeinrichtung 44 ist auf den Lagern 50 festlegbar ver
schieblich gelagert. Dies erleichtert die Montage und Demon
tage des erfindungsgemäßen Plasmabrennersystems 10. Durch
Lösen der Verbindungen 70 kann die Spindel 56 von dem Gleit
führungselement 72 entkoppelt werden und dann die Halteein
richtung 44 so verschoben werden, daß sie eine weitere Mon
tage bzw. Demontage des Hochfrequenz-Plasmabrenners 34 nicht
behindert. Auf diese Weise ist beispielsweise der Hoch
frequenz-Plasmabrenner 34 schnell austauschbar.
Claims (35)
1. Plasmabrennersystem, umfassend einen Hochfrequenz-Plas
mabrenner mit einer Plasmabrenneinrichtung, in
welcher mittels Zuführung von Hochfrequenzleistung eine
Plasmaflamme erzeugbar ist, und eine Bearbeitungskammer,
in welcher Werkstücke positionierbar sind, um mittels
der Plasmaflamme bearbeitet zu werden,
dadurch gekennzeichnet, daß das
Plasmabrennersystem (10) eine Höheneinstellvorrichtung
(32) aufweist, durch die ein vertikaler Abstand (A)
zwischen der Plasmabrenneinrichtung (80) des Hoch
frequenz-Plasmabrenners (34) und einem zu bearbeitenden
Werkstück (14) einstellbar ist.
2. Plasmabrennersystem nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß Hochfrequenzleitungen (102) von einem An
paßglied (104), welches zur Einkopplung der Hoch
frequenzleistung eines Hochfrequenz-Generators in die
Hochfrequenzleitungen (102) dient, starr zu der Plasma
brenneinrichtung (80) des Hochfrequenz-Plasmabrenners
(34) geführt sind.
3. Plasmabrennersystem nach Anspruch 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Hochfrequenzleitungen (102) als
Leitungsresonatoren ausgebildet sind.
4. Plasmabrennersystem nach einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Hochfrequenz-Plas
mabrenner (34) mit der Plasmabrenneinrichtung (80)
durch die Höheneinstellvorrichtung (32) in einer verti
kalen Richtung (22) bezüglich des zu bearbeitenden Werk
stückes (14) verschieblich ist.
5. Plasmabrennersystem nach Anspruch 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Anpaßglied (104) in einem festen Ab
stand zum Hochfrequenz-Plasmabrenner (34) angeordnet ist
und mit diesem verschieblich ist.
6. Plasmabrennersystem nach Anspruch 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Hochfrequenz-Generator fest bezüglich
des Anpaßgliedes (104) angeordnet ist, so daß er mit dem
Hochfrequenz-Plasmabrenner (34) verschieblich ist.
7. Plasmabrennersystem nach Anspruch 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Hochfrequenz-Generator fest gegenüber
der Bearbeitungskammer (12) angeordnet ist.
8. Plasmabrennersystem nach einem der Ansprüche 2 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß das Anpaßglied (104) ab
stimmbar ist zur Optimierung der Hochfrequenz-Leistungs
zufuhr durch die Hochfrequenzleitungen (102) zu der
Plasmabrenneinrichtung (80).
9. Plasmabrennersystem nach einem der Ansprüche 4 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß der Hochfrequenz-Plasma
brenner (34) an einem Gleitführungselement (72) der
Höheneinstellvorrichtung (32), welches in vertikaler
Richtung (22) verschieblich ist, gehalten ist.
10. Plasmabrennersystem nach Anspruch 9, dadurch gekenn
zeichnet, daß durch das Gleitführungselement (72) Ver
sorgungsleitungen für den Hochfrequenz-Plasmabrenner
(34) führen.
11. Plasmabrennersystem nach Anspruch 10, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Versorgungsleitungen die Hochfrequenz
leitungen (102) zur Plasmabrenneinrichtung (80) um
fassen.
12. Plasmabrennersystem nach Anspruch 10 oder 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Versorgungsleitungen eine
Arbeitsgaszuführung (86) zur Plasmabrenneinrichtung (80)
umfassen.
13. Plasmabrennersystem nach einem der Ansprüche 10 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß die Versorgungsleitungen
eine Kühlmittelzuführung (98) zu der und eine Kühl
mittelabführung (100) von der Plasmabrenneinrichtung
(80) umfassen.
14. Plasmabrennersystem nach einem der Ansprüche 10 bis 13,
dadurch gekennzeichnet, daß die Versorgungsleitungen
eine Zusatzwerkstoffzuführung (90) zur Plasmabrenn
einrichtung (80) umfassen.
15. Plasmabrennersystem nach Anspruch 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Zusatzwerkstoffzuführung (90) eine
Düse (92) zum Einblasen von Zusatzwerkstoff in die
Plasmaflamme (82) aufweist.
16. Plasmabrennersystem nach einem der Ansprüche 11 bis 15,
dadurch gekennzeichnet, daß das Gleitführungselement
(72) eine Kühlmittelzuführung und eine Kühlmittelab
führung zur Beaufschlagung der Hochfrequenzleitungen
(102) im Gleitführungselement (72) mit Kühlmittel
umfaßt.
17. Plasmabrennersystem nach einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Bearbeitungs
kammer (12) als Vakuumkammer ausgebildet ist.
18. Plasmabrennersystem nach einem der Ansprüche 9 bis 17,
dadurch gekennzeichnet, daß das Gleitführungselement
(72) eine Dichtungseinrichtung (78) zur gasdichten Ab
dichtung gegen die Bearbeitungskammer (12) umfaßt.
19. Plasmabrennersystem nach Anspruch 18, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Dichtungseinrichtung (78) durch einen
Membranbalg gebildet ist.
20. Plasmabrennersystem nach einem der Ansprüche 9 bis 19,
dadurch gekennzeichnet, daß das Gleitführungselement
(72) eine Dichtung (108) umfaßt, durch die ein Innenraum
(84) des Gleitführungselementes (72) gasdicht gegenüber
einem Außenraum des Plasmabrennersystems (10) abge
dichtet ist.
21. Plasmabrennersystem nach Anspruch 20, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Innenraum des Gleitführungselementes
(72) mit einem Beaufschlagungsmedium beaufschlagbar ist.
22. Plasmabrennersystem nach Anspruch 21, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Beaufschlagungsmedium ein Schutzmedium
zum Unterdrücken von Hochfrequenz-Durchschlägen ist.
23. Plasmabrennersystem nach Anspruch 21 oder 22, dadurch
gekennzeichnet, daß das Beaufschlagungsmedium durch den
Innenraum (84) des Gleitführungselementes (72) zur
Kühlung der Hochfrequenzleitungen (102) geführt ist.
24. Plasmabrennersystem nach einem der Ansprüche 9 bis 23,
dadurch gekennzeichnet, daß das Gleitführungselement
(72) durch ein Gleitrohr gebildet ist.
25. Plasmabrennersystem nach einem der Ansprüche 9 bis 24,
dadurch gekennzeichnet, daß das Anpaßglied (104) kraft
schlüssig bezüglich des Gleitführungselementes (72) in
einem festen Abstand zum Hochfrequenz-Plasmabrenner (34)
gehalten ist.
26. Plasmabrennersystem nach Anspruch 25, dadurch gekenn
zeichnet, daß an dem Gleitführungselement (72) kraft
schlüssig in einem festen Abstand zu dem Hochfrequenz-Plas
mabrenner (34) ein Halteelement (106) angeordnet
ist, an welchem das Anpaßglied (104) fixiert ist.
27. Plasmabrennersystem nach einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Höheneinstell
vorrichtung (32) einen Stellantrieb (58) umfaßt.
28. Plasmabrennersystem nach einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Höheneinstell
vorrichtung (32) eine Steuereinheit (59) zum Steuern des
vertikalen Abstands (A) des Hochfrequenz-Plasmabrenners
(34) relativ zum Werkstück (14) aufweist.
29. Plasmabrennersystem nach einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Plasmabrennein
richtung (80) ein Hochfrequenz-Leistungseinkopplungs
mittel (94) umfaßt, mittels welchem induktiv die
Plasmaflamme (82) erzeugbar ist.
30. Plasmabrennersystem nach einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Bearbeitungs
kammer (12) geerdet ist.
31. Plasmabrennersystem nach einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in der Bearbei
tungskammer (12) eine Positioniervorrichtung (16) zur
Positionierung des zu bearbeitenden Werkstückes (14)
relativ zum Hochfrequenz-Plasmabrenner (34) angeordnet
ist.
32. Plasmabrennersystem nach Anspruch 31, dadurch gekenn
zeichnet, daß durch die Positioniervorrichtung (16) das
Werkstück (14) in einer horizontalen Ebene senkrecht zur
vertikalen Richtung (22) positionierbar ist.
33. Plasmabrennersystem nach Anspruch 31 oder 32, dadurch
gekennzeichnet, daß durch die Positioniervorrichtung
(16) das Werkstück (14) in vertikaler Richtung (22)
positionierbar ist.
34. Plasmabrennersystem nach einem der vorangehenden An
sprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Höheneinstell
vorrichtung (32) an einer Halteeinrichtung (44) gehalten
ist, welche festlegbar verschieblich bezüglich der Bear
beitungskammer (12) gelagert ist.
35. Verfahren zum Betreiben eines Plasmabrennersystems,
welches einen Hochfrequenz-Plasmabrenner mit einer
Plasmabrenneinrichtung zum Erzeugen einer Plasmaflamme
und welches eine Bearbeitungskammer zur Bearbeitung
eines Werkstückes mit Hilfe der Plasmaflamme umfaßt,
dadurch gekennzeichnet, daß ein vertikaler Abstand
zwischen dem Hochfrequenz-Plasmabrenner und dem Werk
stück durch Verschiebung des Hochfrequenz-Plasmabrenners
relativ zum Werkstück eingestellt wird, wobei ein Anpaß
glied, durch welches Hochfrequenzleistung in Hoch
frequenzleitungen eingekoppelt wird, welche zu der
Plasmabrenneinrichtung führen, in einem festen Abstand
zum Plasmabrenner angeordnet ist, so daß die Hoch
frequenzleitungen starr führbar sind.
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Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7510664B2 (en) * | 2001-01-30 | 2009-03-31 | Rapt Industries, Inc. | Apparatus and method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for shaping of damage free surfaces |
| US7591957B2 (en) | 2001-01-30 | 2009-09-22 | Rapt Industries, Inc. | Method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for surface modification |
| US6660177B2 (en) | 2001-11-07 | 2003-12-09 | Rapt Industries Inc. | Apparatus and method for reactive atom plasma processing for material deposition |
| CN101331594B (zh) * | 2006-06-22 | 2012-03-28 | 里巴贝鲁株式会社 | 处理装置、处理方法及等离子源 |
| DE102009010497A1 (de) * | 2008-12-19 | 2010-08-05 | J-Fiber Gmbh | Mehrdüsiger rohrförmiger Plasma-Abscheidebrenner zur Herstellung von Vorformen als Halbzeuge für optische Fasern |
| WO2010089175A1 (de) * | 2009-02-05 | 2010-08-12 | Sulzer Metco Ag | Plasmabeschichtungsanlage und verfahren zum beschichten oder behandeln der oberfläche eines substrats |
| US8946584B2 (en) | 2011-05-26 | 2015-02-03 | Retro Systems, LLC | Angled cut height control system for a plasma arch torch |
| US8946583B2 (en) | 2011-05-26 | 2015-02-03 | Retro Systems, LLC | Angled cut height control system for a plasma arch torch |
| US9051214B2 (en) | 2011-09-02 | 2015-06-09 | Guardian Industries Corp. | Method of strengthening glass by plasma induced ion exchanges, and articles made according to the same |
| US9604877B2 (en) | 2011-09-02 | 2017-03-28 | Guardian Industries Corp. | Method of strengthening glass using plasma torches and/or arc jets, and articles made according to the same |
| US9988304B2 (en) | 2011-09-02 | 2018-06-05 | Guardian Glass, LLC | Method of strengthening glass by plasma induced ion exchanges in connection with tin baths, and articles made according to the same |
| CN109668144B (zh) * | 2018-11-21 | 2020-09-18 | 大唐东北电力试验研究院有限公司 | 一种用于切圆煤粉锅炉宽负荷汽温优化调整的燃烧系统 |
| JP7340396B2 (ja) * | 2019-09-24 | 2023-09-07 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2906751A1 (de) * | 1978-05-19 | 1979-11-22 | Thermal Dynamics Corp | Abstandsregeleinrichtung beim plasmaschweissen |
| EP0281158A2 (de) * | 1987-03-06 | 1988-09-07 | The Perkin-Elmer Corporation | Induktiv gekoppelter Plasmabrenner |
| EP0710054A1 (de) * | 1994-10-26 | 1996-05-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Mikrowellenplasmabrenner und Verfahren zur dessen Erzeugung |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4328257A (en) * | 1979-11-26 | 1982-05-04 | Electro-Plasma, Inc. | System and method for plasma coating |
| CA1182868A (en) * | 1982-01-14 | 1985-02-19 | Boris E. Paton | Method of the plasma jet remelting of a surface layer of a flat metal work having parallel side edges and apparatus for carrying out the method |
| DE3272083D1 (en) * | 1982-03-31 | 1986-08-28 | Ibm Deutschland | Reactor for reactive ion etching, and etching process |
| DE3544119A1 (de) * | 1985-12-13 | 1987-06-19 | Inst Elektroswarki Patona | Plasmalichtbogeneinrichtung zum schmelzen von metall |
| ATE55284T1 (de) * | 1986-09-02 | 1990-08-15 | Perkin Elmer Corp | Vakuumplasmaspritzanlage. |
| US5200595A (en) * | 1991-04-12 | 1993-04-06 | Universite De Sherbrooke | High performance induction plasma torch with a water-cooled ceramic confinement tube |
| US5254830A (en) * | 1991-05-07 | 1993-10-19 | Hughes Aircraft Company | System for removing material from semiconductor wafers using a contained plasma |
| US5279669A (en) * | 1991-12-13 | 1994-01-18 | International Business Machines Corporation | Plasma reactor for processing substrates comprising means for inducing electron cyclotron resonance (ECR) and ion cyclotron resonance (ICR) conditions |
| JPH07142444A (ja) * | 1993-11-12 | 1995-06-02 | Hitachi Ltd | マイクロ波プラズマ処理装置および処理方法 |
| JP2720420B2 (ja) * | 1994-04-06 | 1998-03-04 | キヤノン販売株式会社 | 成膜/エッチング装置 |
-
1997
- 1997-03-29 DE DE19713352A patent/DE19713352A1/de not_active Ceased
-
1998
- 1998-03-26 CA CA002256566A patent/CA2256566C/en not_active Expired - Fee Related
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- 1998-03-26 EP EP98919161A patent/EP0904674B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-26 DE DE59812147T patent/DE59812147D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-11-24 US US09/199,109 patent/US5998757A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2906751A1 (de) * | 1978-05-19 | 1979-11-22 | Thermal Dynamics Corp | Abstandsregeleinrichtung beim plasmaschweissen |
| EP0281158A2 (de) * | 1987-03-06 | 1988-09-07 | The Perkin-Elmer Corporation | Induktiv gekoppelter Plasmabrenner |
| EP0710054A1 (de) * | 1994-10-26 | 1996-05-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Mikrowellenplasmabrenner und Verfahren zur dessen Erzeugung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5998757A (en) | 1999-12-07 |
| CA2256566C (en) | 2002-02-05 |
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| DE59812147D1 (de) | 2004-11-25 |
| CA2256566A1 (en) | 1998-10-08 |
| EP0904674A1 (de) | 1999-03-31 |
| WO1998044765A1 (de) | 1998-10-08 |
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