DE19713735C1 - Verfahren zur Herstellung von polarisationsselektiven Reflektoren - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von polarisationsselektiven ReflektorenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Her
stellung von Gittern für polarisationsselektive Reflektoren
(PSR), die insbesondere als raumfahrttaugliche Parabolan
tennen einsetzbar sind. Ein derartiger Reflektor besteht in
der Regel aus zwei hintereinander angeordneten reflektie
renden Schalen, von denen die in Einfallsrichtung der elek
tromagnetischen Wellen gesehen vordere Schale nur Signale
einer Polarisation reflektiert und die Signale der anderen
Polarisation transmittiert. Dies wird erreicht, indem auf
der vorderen Schale ein lineares Gitter aufgebracht wird.
In Sonderfällen besteht der Reflektor nur aus einer gitter
tragenden Schale.
Optimale Transmission bzw. Reflektion werden durch einen
speziellen Aufbau erreicht, bei dem ein lineares Gitter,
das auf die Oberfläche einer hochfrequenz-transparenten
Schale aufgebracht wird, eine optimale Reflektion ermög
licht, während die optimale Transmission durch eine spezi
elle Auslegung bezüglich Material und Dimensionierung für
die dielektrische Schale erreicht wird. Bei diesem Aufbau
sind Strukturfunktion und Hochfreuqenz-Funktion weitgehend
verkoppelt.
Die CH 634 691 A5 beschreibt einen Radarreflektor, der aus ei
nem Kunststoff-Formkörper in Zellenbauweise besteht mit auf
einer Aussenseite angebrachten elektromagnetisch reflektie
renden Gitterstegen. Ein elektromagnetisch absorbierendes
Material ist in die Zellen des Kunststoff-Formkörpers ein
gebracht. Auf diese Weise wird das zur Erreichung von pola
risierenden Eigenschaften benötigte absorbierende Material
kostengünstig vor schädlichen Einflüssen vorwiegend klima
tischer Art geschützt. Das lineare Gitter wird hierbei
durch Anbringen paralleler Gitterstäbe hergestellt.
Aus dem Artikel von P. Edenhofer, M. Galka, J. Habersack,
erschienen im nzt-Archiv, Bd. 6, 1984, Heft 10, S. 249 ff.
ist ein polarisationstrennendes Dipolgitter für Offset-
Reflektorantennen bei Nachrichten- und Fernerkun
dungssatelliten bekannt; mit den verwendeten Dipolgittern lässt
sich eine breitbandige kopolare Reflexion bei gleichzeiti
ger Erhöhung des Kreuzpolarisationsabstandes erzielen. Das
Gitter wird dabei durch Aufspannen paralleler Drahtgitter
oder Aufdampfen paralleler Streifengitter erzeugt.
Die DE-OS 21 39 076 beschreibt Kurzwellenantennen, die li
near polarisierte Kurzwellen verwenden, um eine selektive
Reflexion und Ausstrahlung an bestimmten Oberflächen zu er
halten. Hierzu ist eine Anzahl von leitenden Gittern vor
einem Reflektor vorgesehen, deren Scheinleitwerte und ge
genseitige Abstände und deren Abstände gegenüber dem Re
flektor so bemessen sind, dass bei jeder von mehreren Be
triebsfrequenzen die betreffenden Scheinleitwerte für auf
einander senkrecht stehende Komponenten einer linear pola
risierten Welle eine relativ inverse Grösse und entgegenge
setztes Vorzeichen aufweisen. Die Herstellung des Gitters
erfolgt durch Aufkleben paralleler Drähte.
Nachteilig bei der bisherigen Technik der Gitterherstellung
sind der hohe Preis des Gitters aufgrund der aufwendigen
Fertigungstechnik und ein durch passive Intermodulation be
dingtes Risiko, abhängig von der Fertigungstechnik (z. B.
Laser-Schneidtechnik oder mechanische Bearbeitung plus Pho
to-Ätztechnik).
Die polarisationsselektive Antenne ist einzuordnen in eine
Klasse von Satellitennutzlastantennen.
Die steigenden Anforderungen an die Leistungsfähigkeit und
der hohe Kostendruck bei Nachrichtensatelliten verlangen
den Einsatz neuer Technologien. Dem Prinzip der asymme
trisch gespeisten Parabolantennen, auch Offset-
Reflektorantennen genannt, kommt wegen seiner günstigen
konstruktiven Eigenschaft, d. h. fehlende Abschattung durch
das Speisesystem und dessen Halterung, eine besondere Be
deutung zu. Mit diesem Antennentyp lassen sich Strahlungs
diagramme mit niedrigen Nebenkeulen erreichen in einfach
oder komplex berandeten Gebieten durch Einsatz von Mehr
fachspeisesystemen in Kombination mit Parabolreflektoren
oder durch Einsatz von Einzelspeisesystemen in Kombination
mit Reflektoren, die eine speziell geformte, vom Parabol
abweichende Oberfläche aufweisen.
Bei linearer Polarisation wird zur Erzielung hoher Kreuzpo
larisationsreinheit das Prinzip des eingangs beschriebenen
polarisationsselektiven Reflektors eingesetzt (PSR). Die
(vordere) Schale reflektiert Signale einer linearen Polari
sation und transmittiert Signale der orthogonalen Polarisa
tionsrichtung.
Dabei kommt den Reflektormaterialien, die für raumfahrt
taugliche polarisationsselektive Parabolantennen verwendet
werden, wegen der ständig steigenden Frequenz- und Genauig
keitsanforderungen eine immer grössere Bedeutung zu.
Speziell bei gemeinsamem Sende- und Empfangsbetrieb über
nur eine Antenne tritt beim polarisationsselektivem Reflek
tor zu den Forderungen hoher Reflektivität für die ge
wünschte Polarisation und niedriger Reflektivität für die
orthogonale noch die Forderung nach einer Gittertechnolo
gie, die frei ist von passiver Intermodulation (PIM). Die
beiden ersten Forderungen bestimmen Material und Geometrie
des Gitters und des dielektrischen Trägers. Die Erfüllung
der dritten hängt wesentlich mit dem Herstellverfahren des
Gitters zusammen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein einfaches,
kostengünstiges und hochgenaues Verfahren anzugeben für die
Herstellung des Gitters der (vorderen) Schale eines polari
sationsselektiven Reflektors. Das nach dem neuen Verfahren
hergestellte Gitter ist frei von passiver Intermodulation
(PIM).
Ausgehend von einem grundsätzlich bekannten Verfahren der
Ablage von Faserbündeln wird die Lösung dieser Aufgabe da
durch erreicht, dass das Gitter mittels einer an und für
sich bekannten Ablegemaschine in Gestalt von Drähten/Fasern
ausgebildet wird, die auf einer Reflektorform nebeneinander
abgelegt werden und dass die Schale anschliessend derart
darauf aufgebaut wird, dass das vorab ausgebildete Gitter
in die Schale zum Teil eingebettet wird. Als Faser für das
Gitter kommen vorteilhafterweise Silberdrähte mit einem
Durchmesser von z. B. 50 µ in Frage.
Die Drähte werden also numerisch gesteuert auf der Reflek
torform, die mit einer speziellen - hinterher entfernbaren
- Haftschicht versehen ist, abgelegt. Die Reflektorform un
terliegt keinen besonderen Einschränkungen, d. h. kann pa
rabolisch oder speziell geformt (geshaped) sein.
Auf dem so abgelegten Drahtgitter - dessen Dimensionen den
Hochfrequenzen angepasst gewählt werden, (typische Abmes
sungen: Drahtdurchmesser ≦ 0,05 mm, d (Abstand von Draht zu
Draht) = 0,5 bis 1,5 mm) wird die Reflektorschale konven
tionell aufgebaut aus beispielsweise einer mehrlagigen Kevlar
Prepreg-Schicht für die vordere Deckhaut - einem Wabenkern
- und einer der vorderen identischen hinteren Deckhaut. Das
gesamte Sandwich inklusive Gitter wird auf der Form unter
Temperatur verklebt.
Dabei wird das Gitter in das Harzsystem der vorderen Deck
haut zum Teil eingebettet.
Bei diesem Prozess bleibt das Gitter in seiner Ablegegeome
trie ungestört erhalten und hat also nahezu die Genauig
keit, die mit der numerisch gesteuerten Maschine erreicht
wird. Das gilt praktisch unabhängig von der Oberflächenform
des Reflektors. Ausserdem werden die Drähte bei richtiger
Wahl der Ablegeparameter(Vorspannung/Ablegegeschwindigkeit)
ohne Unterbrechung abgelegt. Das bedingt die Freiheit von
passiver Intermodulation. Die zwei weiteren dadurch beein
flussten Parameter: stromführende Kontakte zwischen unter
schiedlichen Metallen, stromführende Kontakte durch halb
leitende Schichten auf Metall-Oberflächen, werden durch den
Typ des Gitters grundsätzlich vermieden: es wird nur ein
Silber-Drahtmaterial verwendet. Kontakte zwischen Drähten
kommen innerhalb des Gitters nicht vor.
Ein weiterer günstiger Aspekt dieser Gitterherstelltechnik
ist eine günstige Gestaltung der Erdung. Um kritische elek
trostatische Aufladung zu vermeiden, müssen leitfähige
Strukturen geerdet werden. Bei der neuen Gitterherstell
technik stehen dafür mehrere Alternativen zur Verfügung:
- - das Gitter besteht aus einem quasi endlosen Draht, der mäanderförmig abgelegt und an beiden Enden geerdet wird.
- - das Gitter besteht aus mehreren Teildrähten, deren Enden über den Rand herausgeführt und in feldarmen Zonen mit ei nem Erdungsdraht durch Klemmen oder Löten verbunden werden. In beiden Fällen liegt die Erdungs-Verbindung ausserhalb der aktiven Reflektorzone.
Bedingt durch die beschriebenen Gitter-Fertigungstechnik,
d. h. den Einsatz einer an und für sich bekannten Ablegema
schine, bei der der einzelne Gitterdrahtstrang numerisch
kontrolliert abgelegt wird, ist ein sehr einfacher, präzi
ser und kostengünstiger Aufbau des Gitters eines polarisa
tionsselektiven Reflektors hoher Genauigkeit und frei von
passiver Intermodulation möglich.
Im folgenden wird die Erfindung anhand der Zeichnung näher
erläutert, in der ein polarisationsselektiver Reflektor
teilweise dargestellt ist. Dabei zeigen
Fig. 1 eine Draufsicht auf ein derartiges Gitter,
Fig. 2 einen Schnitt durch die Reflektorschale, und
Fig. 3 und 4 Erdungs-Konzepte des Gitters.
Bei dem in Fig. 2 dargestellten Schnitt ist mit 1 das er
findungsgemäss hergestellte Gitter der (vorderen) Schale
und mit 2 die (vordere) Schale eines polarisationsselekti
ven Reflektors bezeichnet.
Fig. 1 zeigt eine Draufsicht auf die (vordere) Schale des
Reflektors und Fig. 2 zeigt einen Schnitt durch die Scha
le. Man erkennt, dass hier ein lineares Gitter 1 aus elek
trisch leitenden Fasern, vorzugsweise aus metallischen
Drähten, z. B. Silberdrähten mit einem Durchmesser von bei
spielsweise 50 µm angeordnet ist. Das Gitter wurde durch ei
ne (nicht dargestellte) Ablegemaschine in numerisch kon
trollierter Form nebeneinander auf einer Reflektorform ab
gelegt. Nach der Gitterablage wird in herkömmlicher Weise
ein Sandwich aus harzimprägniertem Kevlargewebe (Prepreg)
und Wabe auf der mit Gitter belegten Form aufgebaut, so
dass nach Herstellung der (Vorder)Schale das Gitter teil
weise in die Harzschicht der vorderen Deckhaut eingebettet
ist.
Fig. 3 und Fig. 4 zeigen zwei mögliche Erdungskonzepte
für das Drahtgitter:
Fig. 3 zeigt die Ablage eines Endlos-Drahtes 1, der dann
an beiden Enden ausserhalb des Reflektors mit einem Er
dungsdraht 4 verbunden wird.
Fig. 4 zeigt die Erdungsmöglichkeit für einen Aufbau des
Gitters aus langen Teildrähten 1, die mäanderförmig abge
legt an den über der Reflektorwand herausgeführten Enden
mit dem Erdungsdraht 4 verbunden werden.
Mit dem erfindungsgemässen Verfahren wird also der Vorteil
erzielt, dass auf preiswerte Art und Weise Gitter von einer
besonders hohen Qualität auf beliebig geformten Reflektor
oberflächen erzeugt werden können, indem die bekannte Ablege
maschine durch gezieltes Ablegen und dann Ausbilden eines li
nearen Gitters verwendet werden kann.
Claims (3)
1. Verfahren zur Herstellung von Gittern für die (vordere) Re
flektorschale polarisationsselektiver Reflektoren, wobei
die Reflektorschale nur Signale einer Polarisation reflek
tiert und die Signale der anderen Polarisation transmit
tiert, wobei auf der Schale ein lineares Gitter hergestellt
wird, dadurch gekennzeichnet, dass das Gitter mittels einer
an und für sich bekannten Ablegemaschine in Gestalt einer
leitfähigen Faser ausgebildet wird, die auf einer Reflek
torform mit parabolischer oder speziell geformter Oberflä
che fortlaufend nebeneinander abgelegt wird, und dass die
Schale anschliessend derart darauf aufgebaut wird, dass das
vorab ausgebildete Gitter in die Harzschicht der vorderen
Deckhaut der Schale zumindest teilweise eingebettet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als
Faser für das Gitter Silberdraht mit einem Durchmesser von
50 µm verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
dass die Enden des Gitterdrahtes über den Reflektorrand
hinausgeführt und ausserhalb des aktiven Gitterbereichs mit
einem Erdungsdraht oder einem Erdungsband kontaktiert wer
den.
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| D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
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