DE19539961C1 - Verfahren zum thermischen Verdampfen von elektrisch leitfähigen Materialien - Google Patents
Verfahren zum thermischen Verdampfen von elektrisch leitfähigen MaterialienInfo
- Publication number
- DE19539961C1 DE19539961C1 DE19539961A DE19539961A DE19539961C1 DE 19539961 C1 DE19539961 C1 DE 19539961C1 DE 19539961 A DE19539961 A DE 19539961A DE 19539961 A DE19539961 A DE 19539961A DE 19539961 C1 DE19539961 C1 DE 19539961C1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- evaporation
- evaporator
- electrically conductive
- time
- measured
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000004020 conductor Substances 0.000 title claims abstract 3
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 title claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 36
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 36
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 6
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000011364 vaporized material Substances 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 2
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 claims 2
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 claims 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims 1
- 238000003303 reheating Methods 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 2
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Die heute bekannten und industriell genutzten thermischen Aufdampfquellen
bestehen meist aus widerstandsbeheizten Verdampferschiffchen. Diese sind in der
Regel aus Refraktärmetallen bzw Refraktärmetallverbindungen, Kohlestäbe oder
intermetallischen Verbindungen wie Titanborid, Bornitrid und/oder Aluminiumnitrid
aufgebaut. Letztere werden wegen ihrer chemischen Beständigkeit gegenüber
Aluminium bei Temperaturen um 1800 K, vor allen Dingen zum kontinuierlichen
Verdampfen von Aluminium im Vakuum eingesetzt.
Wegen dieser bekanntermaßen hohen chemischen Beständigkeit ersetzen solche
keramische Verdampferschiffchen mehr und mehr jene Verdampferquellen aus
Kohlenstoff bzw. Graphit und Refraktärmetallen bzw. deren Verbindungen. Speziell
im Bereich der Flashbedampfung - hier wird nicht kontinuierlich das Material
nachgeführt, sondern jeweils nur eine vorgegebene Menge auf den Verdampfer
aufgelegt und verdampft - verdrängen die intermetallischen Verbindungen die
Refraktärmetalle wegen der hohen Wirtschaftlichkeit. So werden mit
Wolframwendeln typisch 10 Zyklen erreicht, hingegen mit den intermetallischen
Verbindungen 400 Zyklen und mehr.
In der Patentschrift DD-PS 92 167 vom 24.09.71 wird eine Einrichtung zur Erzielung
konstanter Verdampfungsraten bei widerstandsbeheizten Verdampferquellen
beschrieben. Diese Patentschrift geht davon aus, daß direkt bzw. indirekt
(Optokoppler) eine Temperaturerfassung der Verdampfungsquelle erfolgt und durch
entsprechende elektrisch oder elektronische Regeleinheiten eine vorgegebene
Temperatur konstant gehalten wird, wodurch natürlich eine konstante
Abdampfleistung erreicht wird. In der Praxis zeigt sich jedoch, daß dieses Verfahren
nicht tauglich ist, da bei optischer Temperaturmessung das Schauglas bzw jede
Fotodiode ebenfalls bedampft wird, womit ein extrem starkes Abdriften des
Meßwertes vorliegt. Bei einer Messung durch Thermoelemente kann diese nur
punktuell erfolgen, was wiederum nicht den tatsächlichen Zustand des
Verdampfungssystems erfaßt, es sei denn, man führt eine multiple punktuelle
Messung durch, was wiederum wirtschaftlich und technologisch in den meisten
Fällen nicht gerechtfertigt ist. Hinzuweisen ist, daß bei der punktuellen Messung der
Temperatur des Verdampfers niemals ein reproduzierbarer Wert erhalten wird, da
im Zustand des Benetzens über das flüssige Aluminium ein Parallelwiderstand
aufgebaut wird, welcher im Bereich der Benetzung den Widerstand des
Verdampfungssystemes um Faktoren verändert, wodurch sich die Glühzonen immer
auf den trockenen Bereich der Verdampfer hin konzentriert. Inhalt dieser Erfindung
ist es, eine andere Hilfsgröße als die Temperatur zur Regelung zu finden.
Die Patentschrift DD-PS 2 99 902 vom 30.10.92 beschäftigt sich mit Hohlkathoden
als Verdampfungsquellen und einer Regeleinheit, welche den Verdampfungsstrom
selbst als Regelgröße verwendet. Speziell beim Betreiben eines Plasmabogens ist
natürlich der Plasmastrom direktproportional der Verdampfungsmenge, womit
natürlich eine proportionale Regelgröße vorhanden ist. In diesem Fall geht es
lediglich darum, den Verdampfungsstrom konstant zu halten und somit eine
wirtschaftliche Entlastung des Bedienungspersonals zu erreichen. Der Erfindung
liegt keinerlei Zeitkomponente zugrunde und ist in dieser Art für die in dieser
Erfindung beschriebenen widerstandsbeheizten Verdampfungsquellen nicht an
wendbar. Diese Erfindung konzentriert sich auf eine Flashverdampfung und keine
kontinuierliche Bedampfung. Der Strom, welcher nach dieser Erfindung als
Regelgröße gemessen wird, ist nicht konstant, sondern wird über die Zeitanalyse
nach Abschluß des Verdampfungsvorganges indirekt beeinflußt.
Ähnlich ist der erfinderische Gedanke, der der Patentschrift US-PS 5 221 349 vom
22.06.93 zugrundeliegt. In diesem Patent ist eine Bogenentladung beschrieben,
wobei der Entladungsstrom mit der Zeit gemessen und als Regelgröße verwendet
wird. Durch Erfassung von Strom und Zeit kann die Gesamtmenge des mittels
Bogenentladung verdampften Materials charakterisiert werden und somit die
Prozeßdauer kontrolliert werden.
Patent DE-PS 43 08 616 vom 18.03.93 beschreibt das Verdampfen von Aluminium
aus Wolframwendeln. Das Problem bei der Verwendung von keramischen
Verdampfern liegt in erster Linie gegenüber Wolframwendeln darin, daß eine mehr
oder weniger gerichtete Abdampfung stattfindet. Wolframwendeln benetzen
allseitig, weshalb auch eine allseitige Verdampfung des Metalles stattfindet. Das
beschriebene Verfahren eignet sich vor allen Dingen für eine räumliche
Verdampfung, weniger jedoch für eine gerichtete Bedampfung, da bezüglich der
Ausbeute des zu verdampfenden Metalles nur sphärisch ein gewisser Kegel als
Nutzungsfläche in Betracht gezogen werden kann. Bei dieser sphärischen
Verdampfung wie im Patent charakterisiert, ist es auch unmaßgeblich, mit welcher
Temperatur das Metall verdampft wird, da in jedem Fall eine quasi kugelförmige
Verdampfungscharakteristik sich einstellen wird. Aus diesem Grunde wird auch nur
der Abschaltpunkt als Regelkriterium charakterisiert. Der Einfluß der
temperaturabhängigen Beschichtungsqualität ist dabei nicht berücksichtigt und auch
nicht zu berücksichtigen.
Im Gegensatz dazu liegt dieser Erfindung nun die Absicht zugrunde, ein Verfahren,
welches, geometrisch bedingt eine Vorzugsrichtung des Verdampfungskegels
aufweist, durch entsprechende Prozeßführung derart zu optimieren, daß ein
definierter Abdampfkegel reproduzierbar garantiert werden kann und somit eine
Optimierung der Bedampfung bezüglich Gleichmäßigkeit der Schichtstärke auf dem
Substrat erfolgt. Diese Forderung, welche z. B. beim Bedampfen der leitfähigen
Schicht auf Fernsehröhren gegeben ist, wo aus einer oder mehreren meist parallel
geschalteten Verdampferquellen Aluminium abgedampft wird, führt zu
nachfolgender Aufgabenlösung:
Durch Analyse der Stromkurve in Abhängigkeit der vorgegebenen Gesamtzeit wird
die Konstantspannung so dimensioniert, daß trotz Änderung des elektrischen
instabilen Systems immer die gleiche vorab definierte Abdampfkeule entsteht und
somit die Reproduzierbarkeit mit optimierter Beschichtungsqualität gewährleistet
wird. Neben dem qualitativen Vorteil der Beschichtung steht die Lebensdauer der
Verdampfer im Vordergrund. Wie in anderen Patenten bereits beschrieben, ist die
Lebensdauer der Verdampfer in der Regel sehr stark temperaturabhängig. Beim
Betreiben solcher Verdampfer wird derart verfahren, daß die Verdampfer mit einer
bestimmten vom Anlagenbetreiber empirisch ermittelten Spannung auf
Verdampfungstemperatur im direkten Stromdurchgang erhitzt werden und mittels
eines Timers nach einer konstant vorgegebenen Zeit automatisch abgeschaltet
werden. Wesentlich ist nun, daß sich der elektrische Widerstand des Verdampfers
über die Lebensdauer verändert und zwar zum niederohmigeren Verfahren. In der
Praxis wird also eine Spannung U1 für einen neuen Verdampfer eingestellt, welche
hoch genug ist, um nach der konstant vorgegebenen Zeit sämtliches Aluminium zu
verdampfen. Vergleicht man nun die Leistung, welche sich aus dem Produkt
Spannung und Strom ergibt eines neuen Verdampfers mit der eines alten und
beachtet man, daß der Anlagenbetreiber die einmal vorgegebene Spannung beim
neuen Schiffchen nicht mehr ändert, ergibt sich die Notwendigkeit, daß durch das
immer niederohmigere Verfahren nach und nach immer höhere Ströme fließen, was
zu einer höheren Leistungsaufnahme wegen der konstant vorgegebenen und
unveränderten Spannung führt und somit zu einer höheren Abdampftemperatur.
Nachdem sich diese Erfindung auf keramische Verdampfer dergestalt rechteckiger
Stäbe mit einem typischen Querschnitt von 4×6 mm und einer Länge von ca. 100 mm
bezieht, ist der Einfluß der Temperatur im Gegensatz zu anderen
Verdampfungssystemen von allergrößter Bedeutung. Ungeachtet der Tatsache, ob
eine nutenförmige Vertiefung im Verdampfer eingefräst ist oder nicht, wird das
Metall in Abhängigkeit der Abdampftemperatur mehr oder weniger gerichtet
verdampft. Weiter bewirkt jede Temperaturänderung auch einen Unterschied in der
Abdampfgeschwindigkeit sowie in der Ausbeute (verdampfte Aluminiummenge zu
bedampfter Menge am Substrat), was zwangsweise zu völlig unterschiedlichen
Bedampfungsqualitäten führt. Die Unterschiede sind in punkto Bedampfungsstärke
und Homogenität zu beobachten.
Im Falle vom Bedampfen von Bildschirmröhren ist folgende Beobachtung zu
machen:
Der Kunde verdampft Aluminium bei einer vorgegebenen Spannung von z. B. 8,5 V.
Bei einem neuen Verdampfer mit einem spezifischen Widerstand von z. B. 450
µ Ê cm
(Raumtemperatur) ergibt sich daraus eine Stromstärke von ca. 160 A entsprechend
einer Leistung von 1360 W. Dies wiederum entspricht einer Temperatur um 1470°C.
Bei dieser Temperatur wird das Aluminium, welches auf dem Verdampfer
chargiert ist, nach ca. 15 Sekunden Betriebsdauer den Verdampfer benetzen und
somit einen Parallelwiderstand bilden. Dieser bewirkt einen Anstieg der Stromstärke
über die Dauer von 15 Sekunden auf ca. 230 A entsprechend einer Leistung von
1955 W. Bei dieser Leistung kann die chargierte Menge von Aluminium nach einer
gesamten Zyklusdauer von ca. 35 Sekunden verdampft werden, so daß eine Nach
heizzeit von 5 Sekunden bis zum Abschaltpunkt nach 40 Sekunden gegeben ist. Die
Beschichtung des Substrates ist in diesem Fall mit einer Homogenität von besser 10
% festzustellen.
Beobachtet man den selben Vorgang bei einem gealterten Verdampferschiffchen,
bei welchem der elektrische Widerstand nur etwa halb so hoch ist wie beim neuen
Schiffchen, so ist die Homogenität der bedampften Schicht etwa ± 25% unter der
Maßgabe, daß trotz verändertem elektrischen Widerstand mit derselben Spannung
gearbeitet wird. In diesem Fall bedeutet dies Ausschuß für die
Fernsehbildschirmröhre.
Zunächst wurde der Grundgedanke manuell wie folgt simuliert:
Es wurden jeweils zwei neue Verdampferschiffchen mit einem elektrischen,
spezifischen Widerstand bei Raumtemperatur von 475 µ Ê cm in 2 Produktions
anlagen eingebaut.
In Fig. 1 ist auf der Ordinate der Verdampferstrom (J) aufgezeichnet und auf der
Abszisse die Verdampfungsdauer (t). Zunächst wird über 20 Sekunden (t₁) mit einer
Spannung von 4 V der Verdampfer auf eine Temperatur um 600°C aufgeheizt, so
daß bezogen auf den keramischen Verdampfer kein zu hoher Temperaturschock
erzwungen wird. Wie zu erkennen ist, fällt der Strom während dieser Zeit (t₁) in
Abhängigkeit des Temperaturanstieges aufgrund des positiven elektrischen
Temperaturkoeffizienten.
Nach 20 Sekunden wird automatisch die Hauptspannung von z. B. 8,5 V angelegt.
Entsprechend steigt die Stromstärke auf einen höheren Wert, welcher sich
wiederum bedingt durch den positiven Temperaturkoeffizienten reduziert, bis nach
der Aufheizzeit t₃ das Aluminium schmilzt und während der Zeit t₄ das
Verdampferschiffchen benetzt. Nach der vollständigen Benetzung, welche sich
durch den maximalen Strompeak zeigt, erfolgt die Verdampfung über die Dauer t₅.
Mit fortgeschrittener Verdampfung reduziert sich wiederum der anteilige
Parallelwiderstand durch das flüssige Aluminium, so daß sich nach der Zeit t₃ + t₄ +
t₅ der trockene Verdampferwiderstand einstellt. Diese konstante Stromstärke bleibt
nun bis zum Ende des Zyklus von insgesamt 20 + 40 Sekunden bestehen und soll
per Definition dieser Erfindung als Regelgröße dienen und nicht länger als 10
Sekunden dauern.
Bis zum 10. Flash wurde Anlage A mit unveränderten Parametern betrieben, Anlage
B wurde kontinuierlich spannungsseitig entsprechend der sich ständig ändernden
Trockenphase zu längeren Zeiten hin reduziert, so daß die Trockenphase selbst
niemals länger als 10 Sekunden war.
Diese Versuchsreihe zeigt, daß durch entsprechende Regelung der Spannung,
wobei als Regelgröße die Zeit für die Trockenphase t₈ genommen wurde, sowohl die
Qualität der Bedampfung wie auch die Lebensdauer der keramischen
Verdampferschiffchen entscheidend beeinflußt werden kann. Spätere Versuche
mittels elektrischer Schaltung haben diese Effekte auch bei dem Einsatz von
elektronischen Regeleinheiten bestätigt.
Claims (5)
1. Verfahren zum thermischen Verdampfen von elektrisch leitfähigen
Materialien, bei dem bei vorgegebener Zyklusdauer der Strom zeitabhängig
gemessen wird, um in Abhängigkeit von der bereits verdampften Material
menge den aktuellen Betriebszustand zu ermitteln und die Dauer zwischen
vorgebener Zyklusdauer und Verdampfungsende zu bestimmen, und als
Regelgröße verwendet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein widerstands
beheizter, keramischer Verdampfer, bei dem das Material in direktem Kontakt
mit dem elektrisch leitfähigen Verdampfer während des Abdampfzyklus steht,
eingesetzt wird.
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß
zwischen dem Verdampfer und dem Material eine Trennschicht aus
hochschmelzenden Metallen und/oder deren Verbindungen angeordnet wird.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine
elektrisch isolierende Trennschicht eingesetzt und mittels einer Hilfsquelle
die elektrische Leitfähigkeit des Verdampfungsbades parallel zum
elektrischen Widerstand des beheizten Verdampfer gemessen wird.
5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß aus
den zeitabhängigen elektrischen Meßwerten und den Werten aus einem
zusätzlichen Meßsystem in Abhängigkeit von der Länge der Nachheizphase
die Qualität der Metallisierung korreliert und mittels einer intelligenten
Software das Verdampfungssystem bezüglich der Abdampfcharakteristik bei
verringerter Strahlungsbelastung und der Lebensdauer der Verdampferquelle
selbst optimiert wird.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19539961A DE19539961C1 (de) | 1995-01-14 | 1995-10-27 | Verfahren zum thermischen Verdampfen von elektrisch leitfähigen Materialien |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19500948 | 1995-01-14 | ||
| DE19539961A DE19539961C1 (de) | 1995-01-14 | 1995-10-27 | Verfahren zum thermischen Verdampfen von elektrisch leitfähigen Materialien |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19539961C1 true DE19539961C1 (de) | 1996-06-13 |
Family
ID=7751483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19539961A Expired - Fee Related DE19539961C1 (de) | 1995-01-14 | 1995-10-27 | Verfahren zum thermischen Verdampfen von elektrisch leitfähigen Materialien |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE19539961C1 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10347989B4 (de) * | 2003-10-15 | 2014-10-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Stabilisieren des Verdampfens mittels Schiffchenverdampfer |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DD299902A7 (de) * | 1989-10-30 | 1992-05-14 | Hochvakuum Dresden Veb | Verfahren zum betreiben eines plasmabogens einer hohlkatodenverdampferquelle |
| US5221349A (en) * | 1991-04-10 | 1993-06-22 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Vaccum arc vapor deposition device |
| DE4308616C1 (de) * | 1993-03-18 | 1994-07-21 | Dresden Vakuumtech Gmbh | Verfahren zur Steuerung der Verdampfung eines leitfähigen Materials aus einem Widerstandsverdampfer |
-
1995
- 1995-10-27 DE DE19539961A patent/DE19539961C1/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DD299902A7 (de) * | 1989-10-30 | 1992-05-14 | Hochvakuum Dresden Veb | Verfahren zum betreiben eines plasmabogens einer hohlkatodenverdampferquelle |
| US5221349A (en) * | 1991-04-10 | 1993-06-22 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Vaccum arc vapor deposition device |
| DE4308616C1 (de) * | 1993-03-18 | 1994-07-21 | Dresden Vakuumtech Gmbh | Verfahren zur Steuerung der Verdampfung eines leitfähigen Materials aus einem Widerstandsverdampfer |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10347989B4 (de) * | 2003-10-15 | 2014-10-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Stabilisieren des Verdampfens mittels Schiffchenverdampfer |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3417462C2 (de) | ||
| DE3700633C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum schonenden Beschichten elektrisch leitender Gegenstände mittels Plasma | |
| DE3330092C2 (de) | ||
| DE102007035166B4 (de) | Hochtemperatur-Verdampferzelle mit parallel geschalteten Heizbereichen, Verfahren zu deren Betrieb und deren Verwendung in Beschichtungsanlagen | |
| DE4127317A1 (de) | Einrichtung zum behandeln von substraten | |
| DE1515301A1 (de) | Verfahren zur Aufbringung hochwertiger duenner Schichten mittels Kathodenzerstaeubung und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens | |
| EP0612859A1 (de) | Niedervoltbogenverdampfer mit Nachfütterungseinrichtung und Verfahren zu dessen Verwendung | |
| DE19539961C1 (de) | Verfahren zum thermischen Verdampfen von elektrisch leitfähigen Materialien | |
| DE3239131A1 (de) | Verfahren zur thermischen verdampfung von metallen im vakuum | |
| DE4444763A1 (de) | Elektrode zur Materialverdampfung für die Beschichtung von Substraten | |
| EP0024604A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Aufdampfen von elektrisch leitenden Stoffen (Metallen) im Hochvakuum | |
| DE4308616C1 (de) | Verfahren zur Steuerung der Verdampfung eines leitfähigen Materials aus einem Widerstandsverdampfer | |
| DE896407C (de) | Verfahren zum UEberziehen von Glaskoerpern mit Schichten aus hochschmelzendem Metall | |
| DE19632410C1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Bauteils mit einer Wärmedämmschicht | |
| DE102019107367A1 (de) | Verfahren zum Prüfen des Vorhandenseins einer Rückschlagklappe in einer Heizungsanlage | |
| DE68920741T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines leitenden, durchsichtigen Films. | |
| DE4102554C2 (de) | ||
| EP3012856B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung einer elektrischen entladung | |
| DE102004010261A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Zünden einer Hohlkatodenbogenentladung | |
| DE19605335C1 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Regelung eines Vakuumbedampfungsprozesses | |
| DE102005025935B4 (de) | Hochtemperatur-Verdampferzelle und Verfahren zur Verdampfung hochschmelzender Materialien | |
| DE19605315C1 (de) | Verfahren und Einrichtung zur Regelung eines Vakuumbeschichtungsprozesses | |
| DE4409761B4 (de) | Einrichtung zur plasmagestützten Verdampfung in einem Bogenentladungsplasma | |
| DE19546872C1 (de) | Keramische anisotrope Verdampfer für die Flashmetallisierung | |
| DE3441471C2 (de) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8100 | Publication of the examined application without publication of unexamined application | ||
| D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |