DE1421984A1 - Verfahren zur Herstellung von rissfreien Chromueberzuegen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von rissfreien ChromueberzuegenInfo
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Description
- Forschungsinstitut für Edelmetalle und Metallchemie S chwä b.. Gmünd Beschreibung Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung riß-' F irei:er ()hramüberz.üge.
- Unter den üblichen Absoheidungsbedingungen hergestellte Chromsohiohten besitzen ein Netzwerk von Rissen, sobald die Schichtdicke etwa 0,7 li überschreitet. Die Bißbildung wirkt sich nachteilig auf das Korrosionsverhalten der zu schützenden Teile aus. Als Ursache für die Eißbildung sind die hohen inneren Spannungen der Chromüberzüge anzusehen. Die_dekdrativen Chromschichten mit einer Schichtdicke von weniger als 0!7 il sind zwar rißfrei,: aber nicht porenfrei. Die inneren Spannungen und damit die Eißbildung in den Ohromschiohten hängen außer von der Schichtdicke von den sonstigen Absohe,idungsbedingungen ab. Es hat nicht an Versuchen gefehlt, durch Änderung der Arbeitsbedingungen rißfreie Chromschichten zu erzielen. Als Beispiel sei das sogenannte HTHR- Bad (hightemperature, high-rätio) genannt, das mit hohen Absoheidungstemgeraturen und niedrigen Fremdsäuregehalten arbeitet. Trotz vielfältiger Bemühungen ist es bisher nicht gelungen, rißfreie Chromschichten mit mehr als 10 g Dicke herzustellen.
- In der Praxis zeigen sich die ersten Risse schon nach 2 - 3 g.. Be wurde nun gefunden, daß durch Anwendung von pulsierendem Gleichstrom rißfreie und spannungsarme Chromüberzüge von praktisch beliebiger Schichtdicke hergestellt werden können. Die Anwandung "uon pulsierendem- Gleiohstromg wie ihn beispielsweise ein. Einphäsengleohrichter liefert, wurde bisher bei der Ohromab:scheidung vermieden. Die allgemeine Ansicht ist, daß.für eine einwandfreie Ohromabscheidung ein Gleichstrom möglichst geringer Restwelligkeit erforderlich ist. Es ;stellt deswegen eine Überraschung dar, daß es möglich ist, mit stark pulsierendem Gleichstrom rißfreie Chromschichten abzuscheiden, Wesentlich bei dem. neuen Verfahren ist, daß die Stromstärke während einer Periode von einem Wert, der höchstens 10 j des Maximalwertes beträgt, auf einen. Maximalwert ansteigt und am Ende der Periode wieder auf den Ausgangswert zurückgeht. Die Frequenz der Perioden kann hierbei in weiten Grenzen schwanken; als geeignet hat sich eine- Frequenz von 100 Hz erwiesen. Ferner ist wesentlich, daß die Abscheidungstemp.eratur nicht kleiner als 300 C ist. Rißfreie Chromschichten können nach dem neuem Verfahren in allen gebräuchlichen Chrombädern mit Sulfat oder Schwefelsäure, Flußsäure oder Kieselflußsäurealse Fremdsäure hergestellt werden. Für sulfäthalti.ge Bäder sind höhere Abscheidungstemperat uzen erforderlich. Die Stromausbeute nach dem neuen Verfahren ist höher als bei den bisherigen Verchromungsbedingungen. Bei en-tspre'eherideri"Abschedungsbedingungen können nach dem Verfahren verhältnismäßig weiche und weniger spröde Niederschläge mit Viekershärten von etwa 300 kp/mm:2 hergestellt werden.
Claims (3)
- Pat e nt ans pr uah Verfahren zur elektrolytisohen Herstellung von rißfreien Chromschichten., dadurch gekennzeichnet, daß zur Abscheidung des Chroms pulsierender Gleichstrom verwendet wird, wobei die Stromstärke während einer Periode von einem Wert, der höchstens 1.0 % des Maximalwerts beträgt, auf einen Maximalwert ansteigt und sodann wieder auf einen Wert, der höchstens 10 % des Maximalwerts beträgt, zurückgeht.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1; dadurch gekennzeichnet,«daß die Frequenz der Perioden nicht mehr als 10 000 Hz und nicht weniger als 1 Hz, vorzugsweise 100 Hz, beträgt.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Absscheidungstemperatur zur Herstellung der rißfreien Chromschichten mindestens 300, vorzugsweise 40 - 600 beträgt.
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-
1962
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