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DE1421984A1 - Verfahren zur Herstellung von rissfreien Chromueberzuegen - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von rissfreien Chromueberzuegen

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Publication number
DE1421984A1
DE1421984A1 DE19621421984 DE1421984A DE1421984A1 DE 1421984 A1 DE1421984 A1 DE 1421984A1 DE 19621421984 DE19621421984 DE 19621421984 DE 1421984 A DE1421984 A DE 1421984A DE 1421984 A1 DE1421984 A1 DE 1421984A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
crack
free
production
maximum value
value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19621421984
Other languages
English (en)
Inventor
Knoedler Dipl-Ing Alfons
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FORSCH EDELMETALLE und METALLC
Original Assignee
FORSCH EDELMETALLE und METALLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FORSCH EDELMETALLE und METALLC filed Critical FORSCH EDELMETALLE und METALLC
Publication of DE1421984A1 publication Critical patent/DE1421984A1/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/18Electroplating using modulated, pulsed or reversing current

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

  • Forschungsinstitut für Edelmetalle und Metallchemie S chwä b.. Gmünd Beschreibung Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung riß-' F irei:er ()hramüberz.üge.
  • Unter den üblichen Absoheidungsbedingungen hergestellte Chromsohiohten besitzen ein Netzwerk von Rissen, sobald die Schichtdicke etwa 0,7 li überschreitet. Die Bißbildung wirkt sich nachteilig auf das Korrosionsverhalten der zu schützenden Teile aus. Als Ursache für die Eißbildung sind die hohen inneren Spannungen der Chromüberzüge anzusehen. Die_dekdrativen Chromschichten mit einer Schichtdicke von weniger als 0!7 il sind zwar rißfrei,: aber nicht porenfrei. Die inneren Spannungen und damit die Eißbildung in den Ohromschiohten hängen außer von der Schichtdicke von den sonstigen Absohe,idungsbedingungen ab. Es hat nicht an Versuchen gefehlt, durch Änderung der Arbeitsbedingungen rißfreie Chromschichten zu erzielen. Als Beispiel sei das sogenannte HTHR- Bad (hightemperature, high-rätio) genannt, das mit hohen Absoheidungstemgeraturen und niedrigen Fremdsäuregehalten arbeitet. Trotz vielfältiger Bemühungen ist es bisher nicht gelungen, rißfreie Chromschichten mit mehr als 10 g Dicke herzustellen.
  • In der Praxis zeigen sich die ersten Risse schon nach 2 - 3 g.. Be wurde nun gefunden, daß durch Anwendung von pulsierendem Gleichstrom rißfreie und spannungsarme Chromüberzüge von praktisch beliebiger Schichtdicke hergestellt werden können. Die Anwandung "uon pulsierendem- Gleiohstromg wie ihn beispielsweise ein. Einphäsengleohrichter liefert, wurde bisher bei der Ohromab:scheidung vermieden. Die allgemeine Ansicht ist, daß.für eine einwandfreie Ohromabscheidung ein Gleichstrom möglichst geringer Restwelligkeit erforderlich ist. Es ;stellt deswegen eine Überraschung dar, daß es möglich ist, mit stark pulsierendem Gleichstrom rißfreie Chromschichten abzuscheiden, Wesentlich bei dem. neuen Verfahren ist, daß die Stromstärke während einer Periode von einem Wert, der höchstens 10 j des Maximalwertes beträgt, auf einen. Maximalwert ansteigt und am Ende der Periode wieder auf den Ausgangswert zurückgeht. Die Frequenz der Perioden kann hierbei in weiten Grenzen schwanken; als geeignet hat sich eine- Frequenz von 100 Hz erwiesen. Ferner ist wesentlich, daß die Abscheidungstemp.eratur nicht kleiner als 300 C ist. Rißfreie Chromschichten können nach dem neuem Verfahren in allen gebräuchlichen Chrombädern mit Sulfat oder Schwefelsäure, Flußsäure oder Kieselflußsäurealse Fremdsäure hergestellt werden. Für sulfäthalti.ge Bäder sind höhere Abscheidungstemperat uzen erforderlich. Die Stromausbeute nach dem neuen Verfahren ist höher als bei den bisherigen Verchromungsbedingungen. Bei en-tspre'eherideri"Abschedungsbedingungen können nach dem Verfahren verhältnismäßig weiche und weniger spröde Niederschläge mit Viekershärten von etwa 300 kp/mm:2 hergestellt werden.

Claims (3)

  1. Pat e nt ans pr uah Verfahren zur elektrolytisohen Herstellung von rißfreien Chromschichten., dadurch gekennzeichnet, daß zur Abscheidung des Chroms pulsierender Gleichstrom verwendet wird, wobei die Stromstärke während einer Periode von einem Wert, der höchstens 1.0 % des Maximalwerts beträgt, auf einen Maximalwert ansteigt und sodann wieder auf einen Wert, der höchstens 10 % des Maximalwerts beträgt, zurückgeht.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1; dadurch gekennzeichnet,«daß die Frequenz der Perioden nicht mehr als 10 000 Hz und nicht weniger als 1 Hz, vorzugsweise 100 Hz, beträgt.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Absscheidungstemperatur zur Herstellung der rißfreien Chromschichten mindestens 300, vorzugsweise 40 - 600 beträgt.
DE19621421984 1962-10-01 1962-10-01 Verfahren zur Herstellung von rissfreien Chromueberzuegen Pending DE1421984A1 (de)

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DEF0037929 1962-10-01

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DE1421984A1 true DE1421984A1 (de) 1968-11-07

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