DE1230227B - Verfahren zur Herstellung von homogenen Koerpern aus Germanium-Silicium-Legierungen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von homogenen Koerpern aus Germanium-Silicium-LegierungenInfo
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CL-
C22c
Deutsche Kl.: 40 b-1/02
Nummer: 1230227
Aktenzeichen: C 34347 VI a/40 b
Anmeldetag: 12. November 1964
Auslegetag: 8. Dezember 1966
Es ist bekannt, daß Germanium mit Silicium eine lückenlose Reihe von Mischkristallen bildet. Die beiden
Elemente kristallisieren in dem Diamanttyp, und ihre Gitterkonstanten unterscheiden sich um etwa
4%. Das Mischkristallsystem Germanium-—Silicium,
insbesondere in dotierter Form, hat in letzter Zeit besondere Bedeutung als Thermogenerator zur Erzeugung
von elektrischer Energie erlangt.
Für die Herstellung von Stäben aus Germanium-Silicium-Legierungen unter Verwendung von Schmelzen
sind mehrere Verfahren bekannt, bei denen immer eine für Mischkristalle allgemein gültige und dem
Verteilungskoeffizienten entsprechende Verteilung der Komponenten zwischen flüssiger und fester Phase
auftritt, die bei den Herstellungsverfahren berücksichtigt werden muß. Sehr gebräuchlich ist die Fertigung
nach dem sogenannten Zonen-Legier-Verfahren. Man geht dabei von in einem Schiffchen
nebeneinanderliegenden Germanium- und Silicium-Stäben entsprechender Abmessung aus und läßt eine
Schmelzzone von einem Ende zum anderen wandern. Um nach diesem Verfahren homogene Germanium-Silicium-Stäbe
zu erhalten, sind sehr lange Schmelz- und Kristallisationszeiten erforderlich, wobei sich
nicht vermeiden läßt, daß die Stabenden inhomogen sind.
Bei einer tiegellosen Arbeitsmethode wird so vorgegangen, daß Pulver, in der gewünschten Konzentration
von Germanium und Silicium gemischt, in eine senkrecht hängende flüssige Kuppe eines Germanium-Silicium-Stabes
eingeblasen und eingeschmolzen wird. Die Kristallisation erfolgt in diesem Falle dadurch, daß man den Stab unter Drehung um
die eigene Achse langsam aus der Heizzone herauszieht.
Das Verfahren hat die Nachteile, daß das Material nur pulverförmig eingesetzt werden kann und nur
Körner mit einem Durchmesser von 0,01 bis 0,15 mm zu gebrauchen sind. Außerdem ist die Regulierung
der Pulverzufuhr nicht einfach, und Stäbe mit weniger als 50 Atomprozent Silicium in der Legierung
lassen sich nicht herstellen, da der flüssige Tropfen zu reich an schwerem Germanium wird und deshalb
abreißt.
Ein weiteres Verfahren geht von Schmelzen aus, welche nur die eine Legierungskomponente enthalten.
Während des Kristallzüchtens gibt man die zweite Komponente in kleinen Portionen zu, bis der Einkristall
als Mischkristall mit der verlangten Zusammensetzung weiterwächst. Man erhält also zunächst
Körper inhomogener Zusammensetzung.
,Es wurde nun ein Verfahren zur Herstellung von Verfahren zur Herstellung von homogenen
Körpern aus Germanium-Silicium-Legierungen
Körpern aus Germanium-Silicium-Legierungen
Anmelder:
Consortium für elektrochemische Industrie
G. m. b. H., München 25, Zielstattstr. 20
Als Erfinder benannt:
Dr. Manfred Roder,
Dr. Hans Herrmann,
Dipl.-Phys. Wolfgang Dietz, München
homogenen, gegebenenfalls p- oder η-leitenden Körpern aus Germanium-Silicium-Legierungen gefunden,
bei dem die bei den üblichen Schmelzverfahren auftretenden Mängel behoben werden. Das Verfahren
ist dadurch gekennzeichnet, daß man eine homogene, gegebenenfalls das Dotiermaterial enthaltende
Schmelze aus Germanium—Silicium tropfenweise aus dem Schmelzgefäß entfernt und in einem darunter
befindlichen formgebenden Behälter zur Kristallisation bringt, wobei die Wärmeregulierung der
Erstarrungszone durch den Wärmeinhalt der tropfenweise zugeführten Schmelze erfolgt. Dabei hat es sich
als zweckmäßig erwiesen, wenn die Kristallisation tropfenweise, d. h. in dünner Schicht, verläuft. Die
Wärmeregulierung der Erstarrungszone und die Beeinflussung der Kristallisation durch das Zutropfen
der Schmelze unterscheidet die erfindungsgemäße Arbeitsweise von vorbeschriebenen Filtrationsverfahren,
denen eine andere Aufgabe zugrunde liegt, nämlich eine Schmelze, um sie von Schaum oder
Schlacke zu befreien, so hoch erhitzt, daß sie mehr oder weniger unkontrolliert durch eine Öffnung am
Boden des Schmelzgefäßes abtropft.
Ein besonderer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, daß durch entsprechende
Ausbildung des formgebenden Behälters die entstehenden Körper gleich in der für den Elementenbau
erforderlichen Form und Abmessung anfallen. Mit dem Verfahren gelingt es, neben der Herstellung
homogener Körper insbesondere auch höhere Konzentrationen an Dotiersubstanzen homogen über
den Körper verteilt einzubauen. Dies ist beispielsweise
bei der Verwendung von Germanium-Silicium-
609 730/330
Legierungen als Thermoelement erforderlich. Die dafür notwendigen hohen Konzentrationen an Dotiermaterial
sind bei den üblichen Schmelzverfahren, besonders im η-leitenden System, schwierig zu erhalten.
Durch die räumliche Trennung von Schmelzvorrat und Erstarrungszone kann auf einfache Weise mit
festem oder gasförmigen Dotiermaterial der gewünschte Dotiergrad erzielt werden.
Das Verfahren wird beispielsweise wie folgt durchgeführt: Das aus Quarz bestehende Schmelzgefäß 1
(Figur) befindet sich in dem Ofen 2 und hat am Boden eine Kapillaröffnung 3, die so dimensioniert ist,
daß die in einen homogenen Körper überzuführende Schmelze 4 durch ihre Oberflächenspannung vor dem
Ausfließen gehindert wird. Zur Überwindung der Oberflächenspannung und einer über die ganze Versuchsdauer
reproduzierbaren, vor allem von der jeweiligen Füllhöhe der Schmelze unabhängigen tropfenweisen
Dosierung der zu erstarrenden Schmelze hat sich das nachstehende Prinzip am besten bewährt:
Das Schmelzgefäß 1 hat am Boden noch eine zusätzliche Kammer 5, die durch einen eingepaßten
Stempel 6, der beispielsweise ein Quarzstab sein kann, von dem Vorratsschmelzvolumen 4 abgesperrt ist.
Durch Niederdrücken des Stempels 6 bis zum Anschlag wird die eingeschlossene Schmelze über die
Öffnung bzw. Kapillare 3 je nach Volumen der Kammer 5 tropfenweise abgepreßt. Diese Anordnung hat
den Vorteil, daß sich die Hub- und Senkbewegung des Stabes 6 leicht mechanisieren läßt. Außerdem
kann der Stempel 6 noch als Rührer ausgebildet werden, so daß in jedem Fall die Voraussetzung einer
homogenen Ausgangsschmelze gewährleistet ist.
Als Auffanggefäß und formgebender Behälter dient beispielsweise ein in dem Ofen 8 sich befindender
Quarztiegel 7, der zur Steigerung der erzielbaren Homogenität des zu bildenden Körpers und
zur besseren Verteilung des partiell zu erstarrenden Schmelzvolumens während des Versuchsablaufs in
Bewegung, beispielsweise in Drehung oder in eine rüttelnde Bewegung versetzt werden kann.
Durch zusätzliche Beheizung oder Kühlung des formgebenden Behälters können die Erstarrungsbedingungen und damit auch die erzielbaren Materialeigenschaften
weitgehend variiert werden. Dies kann aber auch dadurch erreicht werden, daß die Wärmeregulierung
der Erstarrungszone durch den Wärmeinhalt der tropfenweise zugeführten Schmelze, d. h.
über die Temperatur der Schmelze und/oder die Tropfgeschwindigkeit erfolgt.
Die gesamte Anordnung kann noch in einem zusätzlichen Kessel untergebracht werden und je nach
Erfordernissen unter Schutzgas oder Hochvakuum betrieben werden.
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In das Schmelzgefäß 1 von etwa 25 mm Durchmesser und einer Kapillaröffnung 3 von etwa 1,0 bis
1,5 mm werden zur Erzielung eines p-leitenden Stabes von der Zusammensetzung 30 Atomprozent Germanium
und 70 Atomprozent Silicium 21,6 g Germanium (Reinheitsgrad 99,999 °/o), 19,6 g Silicium
(Reinheitsgrad 99,999 %) und 0,024 g amorphes Borpulver (Reinheitsgrad 99,99 °/o) eingewogen. Das
Schmelzgefäß wie auch der formgebende, als Rohr ausgebildete Quarztiegel 7 werden in einen Kessel
eingebaut, so daß unter Hochvakuum gearbeitet werden kann.
Zur Erzielung einer homogenen Schmelze wird diese nach erfolgtem Aufschmelzen etwa 15 bis
30 Min. mit Hilfe des Stapels 6 kräftig durchgerührt und dann mit einer Geschwindigkeit von 1 Tropfen/
Sek. abgetropft. Der als Auffanggefäß 7 dienende Quarztiegel von etwa 12 mm Innendurchmesser und
etwa 120 mm Länge wird während des Abtropfvorganges mit etwa 60 U/Min, in Rotation gehalten. Es
wird ein völlig homogener, p-leitender Stab mit folgenden thermoelektrischen Kenngrößen bei Zimmertemperatur
erhalten:
Thermokraft α [μν/° C] +115
elektr. Leitfähigkeit Vg [Ohm cm] -* .. 850
Wärmeleitfähigkeit λ · 102 [W/cm° C] .. 5,0
Wärmeleitfähigkeit λ · 102 [W/cm° C] .. 5,0
Die Homogenität wurde außerdem noch röntgenographisch überprüft.
In das Schmelzgefäß 1 mit den Abmessungen entsprechend Beispiel 1 werden die gleichen Mengen
und Qualitäten von Germanium und Silicium wie im Beispiel 1 eingewogen. Zur Erzielung eines n-leitenden
Stabes muß die Schmelze beispielsweise mit einem Element aus der V. Hauptgruppe des Periodischen
Systems versehen werden. Bei der Verwendung von Phosphor als Dotiermittel wird die gesamte
Anordnung unter Schutzgas betrieben und wie folgt gearbeitet:
Durch ein in das Schmelzgefäß 1 zusätzlich eingeführtes und in die Schmelze eintauchendes Quarzrohr
wird mit PCl3 beladenes Argon eingeleitet. Der Argonstrom von 10 l/h wird vor Eintritt in die
Schmelze durch einen bei 40° C gehaltenen Sättiger mit PCl3 geleitet und 30 Minuten durch die Schmelze
geperlt. Bei Beginn des Abtropfvorganges wird der Gasstrom so eingestellt, daß der durch Verdampfen
auftretende Phosphorverlust kompensiert, d. h. die Phosphorkonzentration in der Schmelze konstant gehalten
wird, was sich mit einer Strömungsgeschwindigkeit des Argons von 5 l/h erreichen läßt.
Bei Verwendung von Arsen als Dotiermittel kann mit AsCl3 enthaltendem Argon analog verfahren
werden, während Antimon, Wismut oder sonstige Dotiermittel der Schmelze bzw. dem Ausgangsmaterial
direkt zugegeben werden.
Der Abtropfvorgang erfolgt, wie im Beispiel 1 angegeben. Ein in der beschriebenen Weise aus einer
mit Phosphor dotierten Schmelze hergestellter Stab ist völlig homogen und hat folgende thermoelektrische
Kenngrößen bei Zimmertemperatur:
Thermokraft« [μν/° C] -125
elektr. Leitfähigkeit 1Iq [Ohm cm] -1 .. 900
Wärmeleitfähigkeit λ ·102|Λν/αηο C] .. 5,0
Wärmeleitfähigkeit λ ·102|Λν/αηο C] .. 5,0
Eine Schmelze entsprechend Beispiel 1 und 2 wird mit einer Geschwindigkeit von 2 Tropfen pro Sekunde
in einem Behälter mit den lichten Abmessungen von 8 · 8 · 8 mm abgetropft. Die formgebenden
Behälter bestehen aus Quarz und befinden sich auf einer drehbaren Metallscheibe oder einem Metalltransportband,
mit deren Hilfe die Quarzformen in den Abtropfbereich der Schmelze gebracht und nach
fertiger Füllung weitertransportiert werden können. Während des gesamten Abtropf- und Erstarrungsvorganges wird die Form in rüttelnder Bewegung ge-
halten. Man erhält Würfel aus Germanium—Silicium,
die für den Elementbau eingesetzt werden können.
Claims (6)
1. Verfahren zur Herstellung von homogenen Körpern aus Germanium-Silicium-Legierungen,
dadurch gekennzeichnet, daß man eine homogene Schmelze aus Germanium-Silicium tropfenweise aus dem Schmelzgefäß entfernt und
in einen darunter befindlichen formgebenden Behalter zur Kristallisation bringt, wobei die Wärmeregulierung
der Erstarrungszone durch den Wärmeinhalt der tropfenweise zugeführten Schmelze erfolgt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schmelze verwendet wird,
welche die zur Herstellung von Körpern aus p- oder η-leitenden Germanium-Silicium-Legierungen
erforderlichen Dotierstoffe enthält.
3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Kristallisation
tropfenweise erfolgt.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Tropfen aus
einer am unteren Ende des Schmelzbehälters befindlichen Kammer mittels eines Stempels mechanisch
ausgepreßt wird.
5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der formgebende
Behälter während der Kristallisation bewegt wird.
6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der formgebende
Behälter zusätzlich geheizt oder gekühlt wird.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 1063 815;
W. D. Lawson und S. Nielsen, »Preparation of Single Crystals«, London, 1958, S. 92, 93 und 143.
Deutsche Patentschrift Nr. 1063 815;
W. D. Lawson und S. Nielsen, »Preparation of Single Crystals«, London, 1958, S. 92, 93 und 143.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
609 730/330 11.66 ® Bundesdruckerel Berlin
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3476172A (en) * | 1966-02-08 | 1969-11-04 | Impact Casting Co Inc | Methods of die casting materials of relatively high melting temperatures |
| US3634647A (en) * | 1967-07-14 | 1972-01-11 | Ernest Brock Dale Jr | Evaporation of multicomponent alloys |
| FR2015780A1 (de) * | 1968-08-16 | 1970-04-30 | Consortium Elektrochem Ind | |
| US3678986A (en) * | 1970-04-27 | 1972-07-25 | Siemens Ag | Method for manufacturing homogeneous bodies from semiconductor alloys |
| US3643680A (en) * | 1970-09-14 | 1972-02-22 | Kelsey Hayes Co | Bottom pour stopper |
| FR2315168A1 (fr) * | 1975-06-20 | 1977-01-14 | Radiotechnique Compelec | Procede de fabrication de corps lamellaires polycristallins notamment semi-conducteurs |
| DE3035707A1 (de) * | 1980-09-22 | 1982-04-08 | Deutsche Forschungs- und Versuchsanstalt für Luft- und Raumfahrt e.V., 5000 Köln | Oel- und gasbrenner zum einbau in heizungs- und dampferzeugungskessel |
| US4442449A (en) * | 1981-03-16 | 1984-04-10 | Fairchild Camera And Instrument Corp. | Binary germanium-silicon interconnect and electrode structure for integrated circuits |
| US4354987A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-19 | Union Carbide Corporation | Consolidation of high purity silicon powder |
| US4690875A (en) * | 1984-01-12 | 1987-09-01 | Degussa Electronics Inc., Materials Division | High vacuum cast ingots |
| US4558729A (en) * | 1984-01-12 | 1985-12-17 | Demetron, Inc. | Method for high vacuum casting |
| EP0700454B1 (de) * | 1993-05-25 | 1998-07-22 | Siemens Medical Systems, Inc. | Verfahren zur herstellung grossflächiger kristalliner salzkörper und dazu geeignete vorrichtung |
| CN104162654B (zh) * | 2014-06-30 | 2019-04-02 | 富士和机械工业(湖北)有限公司 | 一种浇注机自动浇注系统 |
| CN115323179B (zh) * | 2022-08-22 | 2023-11-24 | 昆明理工大学 | 一种利用超声抑制高酸含锗浸出液降酸时形成铁硅锗胶体沉淀的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1063815B (de) | 1954-06-10 | 1959-08-20 | Rca Corp | Verfahren zum Herstellen von einkristallinen Mischkristallen aus Germanium-Silizium-Legierungen |
-
1964
- 1964-11-12 DE DEC34347A patent/DE1230227B/de active Pending
-
1965
- 1965-11-10 GB GB47731/65A patent/GB1132006A/en not_active Expired
- 1965-11-11 NL NL6514666A patent/NL6514666A/xx unknown
- 1965-11-12 US US507467A patent/US3367394A/en not_active Expired - Lifetime
- 1965-11-12 CH CH1562265A patent/CH459963A/de unknown
- 1965-11-12 FR FR38138A patent/FR1454189A/fr not_active Expired
- 1965-11-12 AT AT1022465A patent/AT269243B/de active
- 1965-11-12 SE SE14678/65A patent/SE326159B/xx unknown
- 1965-11-12 BE BE672237D patent/BE672237A/xx unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1063815B (de) | 1954-06-10 | 1959-08-20 | Rca Corp | Verfahren zum Herstellen von einkristallinen Mischkristallen aus Germanium-Silizium-Legierungen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AT269243B (de) | 1969-03-10 |
| SE326159B (de) | 1970-07-20 |
| FR1454189A (fr) | 1966-07-22 |
| BE672237A (de) | 1966-05-12 |
| CH459963A (de) | 1968-07-31 |
| GB1132006A (en) | 1968-10-30 |
| US3367394A (en) | 1968-02-06 |
| NL6514666A (de) | 1966-05-13 |
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