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Die Erfindung betrifft ein Verfahren
zum Ansteuern von einmal betreibbaren Trennelementen auf einem Halbleiterchip,
bei dem für
jedes zu betreibende Trennelement eine Trenninformation hinterlegt
ist.
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Trennelemente werden üblicherweise
in Halbleiteranordnung und insbesondere in Halbleiterspeichern mit
zunehmender Bedeutung eingesetzt. Sie dienen dazu, bei Ausfall einzelner
Elemente, wie beispielsweise Speicherzellen oder Wortleitungen, entsprechende
Ersatz- bzw. Redundantselemente zuzuschalten. Wird beispielsweise
bei einem Test eines Halbleiterspeichers eine Wortleitung als fehlerhaft
festgestellt, so wird durch trennen oder zünden von so genannten Fuses
anstelle der fehlerhaften Wortleitung eine redundante aktiviert.
Auch können beispielsweise
Chipoptionen oder Individualisierungen mittels derartiger Trennelemente
geschaltet werden. Es gibt zwei unterschiedliche Arten von Trennelementen.
Bei einer ersten Art erfolgt die Trennung durch Einwirkung eines
Laserstrahls, so daß eine
sogenannte "Laserfuse" vorliegt. Bei der zweiten Art wird die Trennung
durch elektrische Zerstörung
auf Grund deiner entsprechenden Trennstruktur erreicht. Es gibt
dabei eine Vielzahl von elektrischen Fuses. Eine Möglichkeit,
daß durch
Wärmeentwicklung
eine Leiterbahn weggeschmolzen wird. Eine andere Möglichkeit
ist, daß durch
Elektromigration ein Bestandteil des Materials der Leiterbahn Migirert
und sich so der elektrische Widerstand der Leiterbahn ändert. Wiederum
eine andere Möglichkeit
sind sogenannte Antifuses, bei denen durch Anlegen einer elektrischen
Spannung ein Dielekrikum zerstört
wird und ein leitender Kanal durch dieses ausgebildet wird. In der
Folge wird von einer sogenannten elektrischen, bzw. "E-Fuse" ausgegangen.
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Die sogenannten "Laser-Fuses" weisen
den Nachteil auf, daß sie
nur am offenen Chip aktiviert, d. h. mittels eines Lasers durchtrennt
werden können. Die
im Weiteren noch beschriebene Erfindung ist für den Einsatz bei sogenannten
"E-Fuses" angewandt. Bei dem "E-Fuses" als Trennelement wird nochmals zwischen
denen, die durch Anlegen einer elektrischen Spannung angeschaltet
werden und denen, die durch Anlegen einer elektrischen Spannung
ausgeschaltet werden unterschieden. Trennelemente, die durch Anlegen
einer elektrischen Spannung angeschaltet werden, also in einen leitenden
Zustand übergehen,
werden als Anti-Fuses bezeichnet, während Trennelemente, die durch
Anlegen der Spannung ihren leitenden Zustand verlieren sind sogenannte
normale "E-Fuses".
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Die Erfindung ist auf beide Arten
anwendbar. Dem Zustand des Trennelementes, also "leitend" oder "nicht-leitend",
kann eine logische "1" bzw. "0" oder umgekehrt zugeordnet werden.
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Das Brennen der Trennelemente erfolgt
insbesondere durch Anlegen einer hohen Spannung, die einige Volt
betragen kann und auf einen Anschluß des Trennelementes geschaltet
wird, während
sich der andere Anschluß des
Trennelementes, mit "Masse" verbunden ist. Während in der
DE10026253A1 eine Anordnung
zum Auslesen von "Laser-Fuses" beschrieben ist, die genauso gut
auf "E-Fuses" bzw. "Anti-Fuses" anwendbar ist, ist aus der
DE 10026251A1 eine
Anordnung zum Programmieren einer sogenannten "E-Fuse" beschrieben.
Derartige Anordnungen sind auf dem Halbleiterchip ausgebildet. Grundsätzlich wird,
wenn es zur notwendigen Aktivierung von Redundanzen auf Grund fehlerhafter Speicherzellen,
beispielsweise bei DRAM-Bauelementen, kommt, liegt hierzu grundsätzlich eine
Information vor, welches Trennelement aktiviert werden soll. Grundlage
hierfür
ist beispielsweise ein Test, der durch eine entsprechende Testanordnung
am auf dem sogenannten "Wafer" noch vorliegenden Chip bzw. am gehäusten Chip
vorgenommen wird. Die Testvorrichtung überträgt, nachdem sie ermittelt hat, welches
Trennelement zu aktivieren ist, die Information hierzu an den Chip,
egal, ob er auf dem Wafer noch angeordnet ist oder bereits in einem
gehäusten Bauelement
vorliegt. Auf der somit auf dem Chip vorliegenden Information werden
nunmehr nachfolgend die einzelnen Trennelemente aktiviert.
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Dies kann bedeuten, daß die Zeit
zum Aktivieren dieser Trennelemente erhebliche Ausmaße annimmt.
Die Anzahl der Trennelemente bewegt sich beispielsweise für einen
256M-Bit-Chip im Bereich von 10.000 bis 20.000 Einzeltrennelementen.
Werden in dieser alle nacheinander aktiviert, so summiert sich die
Zeit, die hierfür
erforderlich ist. Notwendigerweise werden zwar nicht alle Trennelemente
aktiviert, üblicherweise
dürfte
die Anzahl jedoch im Bereich der Hälfte der verfügbaren Trennelemente
liegen, da die Zeit zum Aktivieren eines einzelnen Trennelementes,
d. h. zum Durchtrennen einer sogenannten "E-Fuse" liegt im Bereich von 100 μ. Dies bedeutet,
daß das
sequentielle Durchtrennen der Trennelemente bei einem 256M-Bit-Chip ca. 5 Sekunden
dauert. Da es sich bei dem Speicherchip um ein Massenprodukt handelt,
wirkt sich diese verhältnismäßig lange
Zeit störend
bei der Herstellung, d. h. kostenerhöhend aus. Grundsätzlich wäre zur Verminderung
der Aktivierungszeit der Trennelemente möglich, die Trennelemente parallel
anzusteuern. Da jedoch, wie bereits zuvor beschrieben wurde, einiges an
Energie notwendig ist, um entweder eine Leiterbahn aufzutrennen,
oder bei der "Anti-Fuse" mittels Stromfluß ein Dielektrikum zu durchtrennen,
um einen Kurzschluß herzustellen,
und diese Energie auf dem "Chip" zur Verfügung gestellt werden muß, hat sich
das parallele Ansteuern der Trennelemente als nicht sehr wirksam
erwiesen.
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Der Erfindung liegt somit die Aufgabe
zu Grunde, ein Verfahren zum Ansteuern von einmal betreibbaren Trennelementen
auf einem Halbleiterchip vorzusehen, bei dem die benötigte Zeit
zum Aktivieren der Trennelemente vermindert ist. Diese Aufgabe wird
erfindungsgemäß mit den
in den unabhängigen Patentansprüchen angegebenen
Maßnahmen
gelöst.
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Dadurch, daß, sobald eine Trenninformation für ein Trennelement
vorliegt, mit dem Aktivieren des Trennelementes begonnen wird, und
nicht auf die Beendigung des Hinterlegens der Trenninformation gewartet
wird, kann bereits mit dem Aktivieren des Trennelementes begonnen
werden, während
noch der Hinterlegungsvorgang läuft.
Auf diese Art und Weise ist bereits bei einem einzelnen Bauelement
die Zeit für
das Hinterlegen der Trenninformation im Gesamtablauf nicht mehr
relevant. Werden mehrere Chips nacheinander mit diesem Verfahren
bearbeitet, so ist es vorteilhaft, daß nach dem Hinterlegen und
dem Beginn der Aktivierung des ersten Trennelementes im ersten Chip,
nachdem eine Teilinformation, d. h. die Trenninformation für zumindest
ein Trennelement hinterlegt ist, beim nächsten Chip mit dem Hinterlegen
begonnen wird. Werden mit dem so erweiterten Verfahren so viele
Chips bzw. Bauelemente betrieben, daß die Summe der Zeit, die für das Hinterlegen
einer Trenninformation für
ein Trennelement benötigt
wird, der Zeit entspricht, die für
das Aktivieren eines einzelnen Trennelementes benötigt wird,
ist für
die Dauer des gesamten Vorgangs nur noch die Zeit für das Hinterlegen
der Trenninformation maßgeblich.
Es kann zur Optimierung der Zeitersparnis sinnvoll sein, insbesondere
wenn die Chips noch auf dem "Wafer" vorliegen, mehrere derartige Serien
wiederum parallel durchzuführen.
Dies bedeutet, daß bei
mehreren Chips parallel zunächst
begonnen wird, die Trenninformation zu hinterlegen, und sobald die
Trenninformation für
ein erstes Trennelement vorliegt mit dem Aktivieren dieses Trennelementes
zu beginnen, um dann in jeder der parallelen Serien mit diesem Verfahren
beim nächsten
Chip in der Serie fortzufahren.
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Genauso gut ist es möglich, mehrere
Serien hintereinander zu schalten. In einem solchen Fall ist beispielsweise
wiederum eine zeitliche Optimierung erreicht, wenn die Summe des
Einlesens der Trenninformation für
zwei Trennelemente bei allen Chips in einer Serie der Summe des
Aktivierens zweier Trennelemente entspricht.
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Das Hinterlegen der Trenninformation
kann dabei durch das Zuführen
der Trenninformation von einer externen Vorrichtung auf den jeweiligen
Chip erfolgen, genauso wie durch anstoßen eines Vorgangs, der auf
dem Chip die Trenninformation selbst erzeugt. Dies ist möglich, da
es heutzutage sowohl üblich
ist, Speicherchips durch externe Apparaturen zu testen und auszuwerten,
als auch ein Tests, die durch eine externe Apparatur eingeleitet
werden, auf dem Chip durchzuführen.
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In diesem Fall sind alle für den Test
notwendigen Schaltungsanordnungen auf dem Chip integriert, so daß die Trenninformation
vom Chip selber erzeugt wird.
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Nachfolgend wird ein Ausführungsbeispiel zur
Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnung erläutert.
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Es zeigen:
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1 eine
Prinzipskizze für
ein Ausführungsbeispiel
einer Schaltungsanordnung zum Durchführen des Verfahrens,
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2 eine
Prinzipsskizze einer Anordnung für
das Durchführen
des Verfahrens bei mehreren gehäusten
Bauelementen und
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3 die
Prinzipskizze eines Halbleiterwafers.
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1 zeigt
einen Halbleiterchip 4, der eine Trennelemente-Steuerung 1 aufweist.
Aus dieser Trennelementesteuerung gehen erste Sicherungsleitungen
A1 bis Am und zweite Sicherungsleitungen B1 bis Bn heraus. Diese
sind zur Ansteuerung einer Trennelementematrix F vorgesehen, so
daß am Schnittpunkt
der ersten und zweiten Sicherungsleitungen ein jeweiliges Trennelement
ansteuerbar, d. h. aktivierbar ist. Die Matrix umfaßt somit
m×n-Trennelemente.
Dabei ist es nicht notwendig, daß die Trennelemente tatsächlich auf
dem Chip räumlich
als Matrix angeordnet sind. Die Darstellung dient nur dem besseren
Verständnis.
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Alternativ ist es natürlich auch
möglich,
zum Aktivieren der einzelnen Trennelemente für jedes Trennelement eine einzelne
Steuerleitung vorzusehen, Dies ist insbesondere dann vor Vorteil,
wenn nur wenige Trennelemente auf einem Chip vorgesehen sind.
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In dem gemäß 1 dargestellten Beispiel werden die einzelnen
Trennelemente durch eine Trennelementeansteuerung einzeln aktiviert.
Hierzu ist die Trennelementeansteuerung mit einem Zwischenspeicher
verbunden, in dem eine Trenninformation abspeicherbar ist. Im dargestellten
Ausführungsbeispiel
wird die Trenninformation über
eine Schnittstelle 7 in den Zwischenspeicher 3 eingegeben.
Es ist jedoch nicht zwingend notwendig, daß diese Schnittstelle 7 tatsächlich aus
dem Chip herausgeführt
ist bzw. bei einem gehäusten
Bauelement aus dem Gehäuse
herausgeführt
ist, genausogut kann die Schnittstelle 7 mit einer internen
Schaltungsanordnung verbunden sein, die die Trenninformation direkt
auf dem Chip erzeugt. Sobald nunmehr eine Trenninformation für ein einzelnes
Trennelement der Matrix F beispielsweise F1,1 vorliegt,
aktiviert die Trennelementeansteuerung 2 über die
erste Sicherungsleitung A1 und die zweite Sicherungsleitung B1 das
Trennelement F1
,
1, so daß die
damit verbundene "E-Fuse" bzw. "Anti-Fuse" durchtrennt bzw. kurzgeschlossen
wird. So bald dieser Vorgang abgeschlossen ist, liest die Trennelementeansteuerung 2 die
nächste
Trenninformation aus dem Zwischenspeicher 3 aus und führt das
Verfahren so lange fort, bis ihm über den Zwischenspeicher 3 keine
weitere Trenninformation zugeführt
wird.
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In einer Anordnung gemäß 2, ist eine Vielzahl von
gehäusten
Bauelementen 5 dargestellt, aus denen äußere Anschlüsse 6 schematisch
dargestellt herausgeführt
sind, wobei ein Chip 4 mittels einer gestrichelten Linie
als innenliegend dargestellt ist. Es liegt somit eine Anzahl x x
y an Bauelementen vor. Über
die zweiteilig dargestellte Testeinrichtung wird nunmehr zunächst dem
Bauelement 5
1,
1 ,
das intern grund sätzlich
die Anordnung gemäß 1 aufweist, begonnen, eine
Trenninformation zuzuführen, wobei
die Schnittstelle 7 über
einen oder mehrere der äußeren Anschlüsse 6 realisiert
ist.
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Sobald die Trenninformation für ein erstes Trennelement
in dem Bauelement 5
1,
1 hinterlegt
ist, beginnt die Trennelementeansteuerung 1 innerhalb des
Bauelementes 1 ein erstes Trennelement zu aktivieren, währenddessen
beginnt die Testeinrichtung 10a,b in einem Bauelement 51
,
2 die
Trenninformation zu hinterlegen, so daß die Aktivierung ebenfalls
in diesem Bauelement beginnt. Es wird so bis zum Bauelement 5
1
,y fortgesetzt.
Wenn nach dem Hinterlegen der Trenninformation im Bauelement 5
1
,y im Bauelement 5
1
,
1 der
zuvor begonnene Vorgang des Aktivierens eines Trennelementes abgeschlossen
ist, kann mit dem weiteren Hinterlegen einer nächsten Trenninformation im
Bauelement 5
1
,
1 fortgesetzt werden und wie vorhergehend
beschrieben entsprechend fortgesetzt werden. Nunmehr ist leicht
vorstellbar, daß der
für die
Bauelemente 5
1,1 bis 5
1,y beschriebene Vorgang für alle x-Spalten
an Bauelementen parallel abläuft.
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Genausogut ist es vorstellbar, daß wenn beim
Hinterlegen der Trenninformation beim Bauelement 5
1
,y das Aktivieren
des Trennelementes im Bauelement 5
1,
1 noch nicht abgeschlossen ist, mit dem Vorgang
des Hinterlegens beim Bauelement 5
2,
1 fortgesetzt wird. Es ist nunmehr nicht
zwingend notwendig, daß nunmehr
die Hinterlegung der Trenninformationen in allen Bauelementen der
zweiten Reihe, d. h. bis zum Bauelement 5
2
,y fortgesetzt wird. Unter der Voraussetzung,
daß eine
Teststeuerung 11, die mit der Testeinrichtung 10a,b verbunden
ist und diese steuert, dazu geeignet ist, ist es möglich eine
beliebige geeignete Sequenz an Bauelementen herauszusuchen, die
nicht unbedingt vollständige
Reihen oder Spalten umfaßt.
Und genauso gut ist es mit einer derartig ausgestatteten Teststeuerung
möglich
mehrere geeignet lange Sequenzen an Bauelementen parallel abzuarbeiten.
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Dieses Verfahren, das an fertig gehäusten Bauelementen
gemäß 2 beschrieben wurde, ist auch
auf einen Halbleiterwafer 13 übertragbar, der in 3 schematisch dargestellt
ist.
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Die in 3 dargestellten
Linien auf dem Wafer 13 sollen die sogenannten Sägelinien
repräsentieren,
wobei in Wirklichkeit eine größere Anzahl von
Sägelinien
und damit eine größere Anzahl
einzelner Chips 4 auf einem solchen Wafer 13 ausgebildet sind.
Schematisch ist in einem mittleren Bereich des Chips 4 ein
Kontakt/Logik-Bereich 12 angedeutet, in dem beispielsweise
u. a. die in 1 prinzipiell
dargestellte Schaltungsanordnung angeordnet ist, wobei in vielen
Fällen
ebenfalls in dem Kontakt/Logik-Bereich 11 Anschlußkontakte
ausgebildet sind. Auf diesen setzt die Testeinrichtung auf, die
die Kontakte über
sogenannte Nadeln kontaktiert. Nunmehr ist das unter Bezugnahme
auf 1 bzw. 2 beschriebene Verfahren
für einen
oder beliebig viele Chips 4 auf dem Wafer 13 anwendbar.
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- 1
- Trennelementesteuerung
- 2
- Trennelementeansteuerung
- 3
- Zwischenspeicher
- 4
- Chip
- 5
- gehäustes Bauelement
- 6
- Anschlüsse
- 7
- Schnittstelle
- 10a,
b
- Testeinrichtung
- 11
- Teststeuerung
- A1..
m
- erste
Sicherungsleitungen
- B1..
n
- zweite
Sicherungsleitungen
- 12
- Kontakt-Logik-Bereich
- 13
- Wafer
- Fm,
n
- Trennelemente
Matrix