CN201032516Y - 掩模盒 - Google Patents
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Abstract
一种掩模盒，用于放置掩模板，所述掩膜板上形成有图案，该掩膜盒包括盒体、盒盖和位于所述盒体上的用于支撑所述掩模板的支撑部，其中，所述支撑部具有与所述掩膜板接触的接触端，所述接触端与所述图案之间有距离。本实用新型的掩模盒能够减少支撑部对掩模板上图案的磨损，提高掩模板的使用寿命，减少曝光过程中的误差。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种光刻工艺中用于存放掩模板的掩模盒。
背景技术
半导体制造技术中的光刻工艺是通过光学成像的方法将掩模板上的图案转移到半导体晶片表面的光刻胶上的过程，然后通过所述光刻胶上已定义好的图案进行刻蚀或离子注入。由于光刻工艺对污染很敏感，需要严格控制光刻工艺环境的洁净度。通常光刻工艺的掩模板都需要存放于掩模盒(Reticle Pod)中，以避免在传送过程受到外部环境的污染。专利号为US 5296893的美国专利公开了一种掩模盒。图1为所述美国专利公开的掩模盒的剖面示意图。
如图1所示，所述美国专利公开的掩模盒包括一基本部件10，一盖子12以及所述基本部件10和盖子12的锁闭装置20。掩模板22以如图1所示的方式放置于所述掩模盒中。
所述基本部件10为方形结构，在所述基本部件10的四周边缘有侧墙11，所述侧墙11与基本部件10形成凹槽结构。在所述基本部件10上还分别形成有四个支撑柱14，在所述支撑柱上形成有部件16，所述掩模板22支撑于所述部件16上。
所述盖子12的形状也为方形，在所述盖子12上形成有四个凸柱18，用于固定所述掩模板22，以防止所述掩模板22上下移动。
所述盖子12和基本部件10通过锁闭装置20固定在一起，当所述掩模盒放置于曝光机上时，所述锁闭装置20被打开，使所述基本部件10和盖子12上下分离，将所述掩模板22取出，并置于曝光机的掩模板支撑台(ReticleStage)上进行曝光。
在所述掩模板22的四个边角的其中两个边角位置设置有对准标记、条形码标记等图案，所述对准标记在曝光时用作上下层的对准标记。然而，掩模板22放置于所述掩模盒中时，所述支撑柱14上的部件16与会所述掩膜板上的图案接触而使所述图案被磨损。例如，当所述图案为对准标记时，导致所述对准标记被磨损而损坏，致使所述掩模板22在曝光时上下层对准产生较大的误差，甚至超出工艺要求的范围，以至于导致器件的电性发生变化。
实用新型内容
因此，本实用新型的目的在于提供一种掩模盒，以解决现有掩模盒导致放置于其中的掩模板上的图案被磨损的问题。
为达到上述目的，本实用新型提供一种掩模盒，用于放置掩模板，所述掩膜板上形成有图案，该掩膜盒包括盒体、盒盖和位于所述盒体上的用于支撑所述掩模板的支撑部，其中，所述支撑部具有与所述掩膜板接触的接触端，所述接触端与所述图案之间有距离。
优选的，所述支撑部为棱柱、棱锥、棱台中的一种。
优选的，所述支撑部为四棱柱，该四棱柱横截面的宽度为1至2mm，长度为3至4mm。
优选的，所述支撑部为圆柱体和球缺的组合体，所述球缺与所述掩模板接触。
优选的，所述球缺的摩擦系数小于所述圆柱体的摩擦系数。
优选的，所述支撑部与所述盒体为一体成型。
优选的，所述支撑部与所述盒体为活动方式连接。
优选的，所述盒盖上还形成有用于防止所述掩模板沿所述盒盖法线方向滑动的凸柱。
优选的，所述凸柱与所述掩膜板的接触端为圆弧形。
优选的，所述掩模盒还包括有盒盖与盒体的锁闭装置。
优选的，所述图案包括对准标记、条形码标记和版图图案。
与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：
本使用新型的掩膜盒包括盒体、盒盖和位于所述盒体上的用于支撑所述掩模板的支撑部，其中，所述支撑部具有与所述掩膜板接触的接触端，该掩膜盒用于放置具有图案的掩膜板，所述接触端与所述图案之间有距离。在掩模板放置于所述掩模盒中时，所述接触端接触所述掩膜板上图案区域以外的区域，从而不会造成对所述掩膜板上的图案的磨损，减少了由于在掩模盒中存取掩膜板而引起的掩模板图案被损伤的缺陷，提高了掩模板的使用寿命，可降低成本；进一步的，由于所述掩模板上的图案不会被磨损，可减少曝光过程中光刻工艺指标的偏差，有助于增大光刻的工艺窗口，提高光刻工艺的可维护性。
所述支撑部可以是圆柱体和球缺的组合体，当掩膜板放置于所述掩膜盒中时，所述球缺与所述掩膜板接触，所述球缺的弧形表面减小了所述支撑部与所述掩膜板的接触面积，从而减小了对掩膜板的磨损。
所述掩膜盒的盒盖上还形成有凸柱，所述凸柱与所述支撑部结合用于夹持所述掩膜板，在搬运掩膜盒过程中放置在所述掩膜盒中的掩膜板不会晃动，减小被损伤的可能性。
附图说明
图1为现有一种掩模盒的剖面示意图；
图2为本实用新型的掩模盒的第一实施例的剖面示意图；
图3为图2所示的掩模盒的支撑部的横截面的示意图；
图4为掩模板放置于图2所示的掩模盒的支撑部上的俯视图；
图5为本实用新型的掩模盒的第二实施例的剖面示意图；
图6为本实用新型的掩模盒的第三实施例的剖面示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。
图2为本实用新型的掩模盒的第一实施例的剖面示意图。如图2所示的掩模盒，包括盒体10、盒盖12以及所述盒体10和盒盖12的锁闭装置20。
所述盒体10包括一长方形底面和位于所述长方形底面四边且垂直于该长方形底面的侧墙11，所述侧墙11和长方形底面共同形成凹槽结构的盒体10。在所述盒体10的长方形底面上还形成有用于支撑掩模板的支撑部15，所述支撑部15为棱柱、棱锥、棱台中的一种。本实施例中所述支撑部15为四棱柱，所述四棱柱的横截面的示意图如图3所示，其宽度15b为1至2mm，长度15a为3至4mm。所述支撑部15位于所述长方形底面上靠近四个拐角的区域。掩模板22放置于所述盒体10时，所述支撑部15用于支撑所述掩模板22，使得所述掩模板22上的保护膜(Pellicle)19不会接触到所述盒体的底部，以免磨损所述保护膜19。所述支撑部15接触所述掩模板22的接触端与所述掩模板22上的图案有距离即所述接触端接触所述掩膜板上图案区域以外的区域，以避免所述接触端磨损所述掩模板22上的图案，所述图案包括掩模板22上的对准标记，条形码识别标记以及版图图案等。如图2所示的掩模板22上有对准标记17，所述接触端与对准标记17之间的距离大于零，可以避免所述接触端接触到所述对准标记17而使所述对准标记17被磨损而被损坏。所述支撑部15与所述盒体10可以是一体成型，也可通过可活动方式连接，本实施例中所述支撑部15与所述盒体10为一体成型。
所述掩模盒还包括盒盖12，所述盒盖12与所述盒体10能够形成封闭的腔室，掩模板22存放于所述腔室之中。在所述盒盖朝向所述腔室的表面上还形成有凸柱18，所述凸柱18位于所述支撑部15的相应位置。所述凸柱18与所述支撑部15相结合夹持所述掩膜板22，防止所述掩模板22沿所述盒盖12法线方向上下移动而使所述掩膜板22被损坏。所述掩模板22放置于所述掩模盒中时，所述凸柱18与所述掩模板22的上表面接触，且所述凸柱18与所述掩膜板22接触的接触端为圆弧形，本实施例中所述凸柱18为圆柱体和球缺的组合体，所述球缺与所述掩模板22的上表面接触，所述球缺由具有弹性、摩擦系数较小的材质形成，以避免所述球缺的顶部划伤所述掩模板22的表面。
所述盒盖12和盒体10通过锁闭装置20固定在一起，当所述掩模盒放置于曝光机上时，所述锁闭装置20被打开，使所述盒体10和盒盖12上下分离，可将所述掩模板22取出，并置于曝光机的掩模板支撑台上进行曝光。
图4为所述掩模板22放置于图2所示的掩模盒的支撑部15上的俯视图；如图4所示，所述掩模板22上形成有米字形的对准标记17、条形码标记20和版图图案24。所述支撑部15的接触端沿所述掩模板22的纵、横轴线对称分布于所述掩模板22靠近拐角区域，且所述接触端与所述掩模板22上的图案有距离，即所述接触端不与所述掩模板22上的图案接触，从而不会磨损所述掩模板22上的图案。
在掩模板22放置于所述掩模盒中时，所述接触端接触所述掩膜板22上图案区域以外的区域，从而不会造成对所述掩膜板22上的图案的磨损，减少了由于在掩模盒中存取掩膜板22而引起的掩模板22图案被损伤的缺陷，提高了掩模板22的使用寿命，可降低成本；进一步的，由于所述掩模板22上的图案不会被磨损，可减少曝光过程中光刻工艺指标的偏差，有助于增大光刻的工艺窗口，提高光刻工艺的可维护性。
图5为本实用新型的掩模盒的第二实施例的剖面示意图。如图5所示的掩模盒，包括盒体10、盒盖12以及所述盒体10和盒盖12的锁闭装置20。
所述盒体10包括一长方形底面和位于所述长方形底面四边且垂直于该长方形底面的侧墙11，所述侧墙11和长方形底面共同形成凹槽结构的盒体10。在所述盒体10的长方形底面上还形成有用于支撑掩模板的支撑部15，所述支撑部15为圆柱体和球缺的组合体，本实施例中所述圆柱体和球缺为同种材质，且所述圆柱体与球缺为具有弹性、摩擦系数较小的材质形成。在所述掩模盒中放置掩模板22后，所述球缺与所述掩模板22接触。所述支撑部15位于所述长方形底面上靠近四个拐角的区域。掩模板22放置于所述盒体10时，所述支撑部15用于支撑所述掩模板22，使得所述掩模板22上的保护膜19不会接触到所述盒体10的底部，以免磨损所述保护膜19。所述支撑部15的球缺接触所述掩模板22的接触端与所述掩模板22上的图案之间有距离，即所述接触端在支撑所述掩模板22的时候不会和所述掩模板22上的图案接触，以避免所述接触端磨损所述掩模板22上的图案，所述图案包括对准标记，条形码识别标记以及版图图案等。如图5所示的掩模板22上有对准标记17，所述支撑部15和所述掩模板22的接触点与对准标记17之间的距离大于零，可以避免所述接触点接触到所述对准标记17而使所述对准标记17被磨损而被损坏。所述支撑部15与所述盒体10为一体成型，或者为活动方式连接，本实施例中所述支撑部15与所述盒体10为一体成型。
所述掩模盒还包括盒盖12，所述盒盖12与所述盒体10能够形成封闭的腔室，掩模板22存放于所述腔室之中。在所述盒盖朝向所述腔室方向的表面上还形成有凸柱18，所述凸柱18位于所述支撑部15的相应位置，所述凸柱18与所述支撑部15相结合夹持所述掩膜板22，防止所述掩模板22沿所述盒盖12法线方向上下移动而使所述掩膜板22被损坏。在另外的实施例中，所述凸柱18也可设置于所述盒盖朝向所述腔室方向的表面的其它位置。所述掩模板22放置于所述掩模盒中时，所述凸柱18与所述掩模板22的上表面接触，且所述凸柱18与所述掩膜板22接触的接触端为圆弧形。本实施例中所述凸柱18为圆柱体和球缺的组合体，所述球缺与所述掩模板22的上表面接触，所述球缺由具有弹性、摩擦系数较小的材质形成，以避免所述球缺的顶部划伤所述掩模板22的表面。
所述盒盖12和盒体10通过锁闭装置20固定在一起，当所述掩模盒放置于曝光机上时，所述锁闭装置20被打开，使所述盒体10和盒盖12上下分离，可将所述掩模板22取出，并置于曝光机的掩模板支撑台上进行曝光。
本实施例中所述掩模盒的支撑部15为圆柱体和球缺的组合体，所述球缺与所述掩模板22接触，所述球缺的弧形表面使得所述支撑部15与所述掩模板22的接触端面积进一步减小，从而减小接触端对掩模板22的磨损。
图6为本发明的掩模盒的第三实施例的剖面图，本实施例中所述掩模盒的支撑部15为圆柱体和球缺的组合体，所述圆柱体和球缺的材质不同，其中所述球缺由材质为具有弹性、摩擦系数较小于圆柱体的摩擦系数的材料组成。本实施例中的掩模盒的其它结构同第二实施例所描述的掩模盒，这里不再赘述。
本实用新型虽然以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本实用新型，任何本领域技术人员在不脱离本实用新型的精神和范围内，都可以做出可能的变动和修改，因此本实用新型的保护范围应当以本实用新型权利要求所界定的范围为准。
Claims (11)
1.一种掩模盒，用于放置掩模板，所述掩膜板上形成有图案，该掩膜盒包括盒体、盒盖和位于所述盒体上的用于支撑所述掩模板的支撑部，其中，所述支撑部具有与所述掩膜板接触的接触端，其特征在于：所述接触端与所述图案之间有距离。
2.如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于：所述支撑部为棱柱、棱锥、棱台中的一种。
3.如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于：所述支撑部为四棱柱，该四棱柱横截面的宽度为1至2mm，长度为3至4mm。
4.如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于：所述支撑部为圆柱体和球缺的组合体，所述球缺与所述掩模板接触。
5.如权利要求4所述的掩模盒，其特征在于：所述球缺的摩擦系数小于所述圆柱体的摩擦系数。
6.如权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于：所述支撑部与所述盒体为一体成型。
7.如权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于：所述支撑部与所述盒体为活动方式连接。
8.如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于：所述盒盖上还形成有用于防止所述掩模板沿所述盒盖法线方向滑动的凸柱。
9.如权利要求8所述的掩模盒，其特征在于：所述凸柱与所述掩膜板的接触端为圆弧形。
10.如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于：所述掩模盒还包括有盒盖与盒体的锁闭装置。
11.如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于：所述图案包括对准标记、条形码标记和版图图案。
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Effective date of registration: 20121211 Address after: 100176 No. 18, Wenchang Avenue, Beijing economic and Technological Development Zone Patentee after: Semiconductor Manufacturing International (Beijing) Corporation Address before: 201203 Shanghai City, Pudong New Area Zhangjiang Road No. 18 Patentee before: Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation |
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| CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20080305 |
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| CX01 | Expiry of patent term |