CN1238784A - 用连续制备的水性单体乳液通过自由基水性乳液聚合制备聚合物分散液的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及通过水性单体乳液的自由基聚合制备聚合物分散液的方法,其中以其消耗速率连续制备单体乳液。
Description
本发明是涉及一种通过水性单体乳液的自由基聚合作用制备聚合物分散液的方法。
在通过乳液聚合作用制备聚合物分散液中通常区分为分批、半分批与连续方法,其中叙述了单体加入反应容器中的各种方法。
Kirk-Othmer的化学技术百科全书,第3版,第1卷,第397页以下,叙述了用于乳液聚合作用的半分批方法,其以丙烯酸酯的大规模工业聚合作用作为实例。在分别的锅中制备的单体乳液连续地引入聚合反应器中,在此与水性引发剂溶液混合及聚合。
Kirk-Othmer的化学技术百科全书,第3版,第14卷,第92页以下,对乳液聚合作用的分批、半分批与连续方法进行了比较性概述。在半分批方法的一般步骤中,乳液进料可含有用于乳液聚合作用的所有成份,例如,单体、表面活性剂、水与调节剂,单体乳液在分别的锅中制备,即,进料槽。然而,引发剂在此不可以混合至单体乳液中,因为聚合作用可能在进料槽中发生。
聚合物科学与工程百科全书,第6卷,第10页以下(1986)类似地叙述了乳液聚合作用的分批、半分批与连续反应器。如上,单体乳液在分别的锅中的制备叙述为分批与半分批方法的可能变化,此乳液可含有所有乳液成份,除了引发剂。后者在分别的进料中直接加入聚合作用反应器。在所述的连续方法中,未与水相一起事先乳化或分别制备并储存的单体乳液形式的单体连续地进料至反应器。
其中连续进料引入搅拌反应器中但是在反应时未移除产物的半分批方法优于分批方法。这样,进料的组成与第一次充填可以简单的方法改变,而且大量的不同分散液因此可在一个相同的反应器中制备。除了这些优点,半分批方法的其他益处为其由于反应器中与分批方法相比较少量的单体及有利的反应热去除而有较大安全性,特别是在聚合作用时粘度急剧增加的分散液的情形。此外,单体或单体乳液的进料速率可以调节及因此改良的反应控制为有利的。
在半分批方法中,单体可进料至聚合作用反应器中,例如,独立于作为单一进料的纯形式的引发剂进料,例如,如EP-A-0 757 625所述。将单体加入聚合作用反应器的其他方法为,也如上所述,与水相一起而未事先乳化加入和加入在分别的锅中制备的单体乳液。
加入非乳化或纯形式单体的现有技术方法具有以下的缺点:
a)单体乳化所需的能量必须由聚合作用反应器的搅拌器施加。其需要使用特定、昂贵搅拌器,其中一些为复杂的及难以清洁的搅拌器,或因增加搅拌器速度或使用较大搅拌器而增加对反应物质的功率。后一方法造成分散液的剪切力增加及因此有较大的凝聚形成。
b)在反应器中不足乳化的情形下,反应器中可形成纯单体相,即,尚未反应的特别轻的单体形成悬浮于其余反应物质上的内聚层。乳液进料结束后,对冷进料不进行冷却作用而且由于浓缩单体相的反应而在锅的内部有急剧温度增加。此外,此浓缩单体相的反应造成增加的凝聚形成及反应器的严重污染。
上述的现有技术半分批方法,其中单体乳液连续地进料至聚合作用反应器,均需在反应开始前于分别的锅中制备与提供此乳液。然而,此方法变化具有以下缺点:
a)引发剂无法混合到单体乳液中,因为然后要预期进料容器中的聚合作用。然而,反应器中分开的引发剂进料在进料点引起局部增加的电解质浓度,其造成较高程度的不希望的凝聚形成。
b)用于自由基水乳液聚合作用的乳液为热动力学上不稳定,即,可能发生单体乳液由于单体液滴凝聚而分离,及在进料容器中可能形成单体相。同时,乳化剂释放出来并在反应器中形成胶微粒,及因此引发其他不希望的粒子产生的成长。此外,进料结束时所形成纯单体相的引入由于急剧温度增加、凝聚形成增加及反应器污染而引起上述问题。
c)在更高浓缩分散液的制备中,进料至聚合反应器的单体乳液必须具有高单体含量。其通常引起具有高粘度的乳液及因此在输送这些乳液时产生问题。此外,特别高浓缩的水性单体乳液趋于分离。
上述刊物均未显示连续制备的水性单体乳液在制备聚合物分散液的自由基水性乳液聚合作用中的使用。
US-A-5,250,576专利叙述具有高含量分散水相的特别油包水乳液(高内相乳液HIPE)的制备,及其以后制备吸收泡沫的聚合作用与脱水的连续方法。此方法包含:
a)由单体,如苯乙烯与对-甲基苯乙烯,共聚单体,例如,丙烯酸烷酯与甲基丙烯酸烷酯、丁二烯等,交联剂与乳化剂制备油相;
b)由水溶性电解质与水溶性引发制剂制备水相;
c)将油相与水相同时引入动态混合区中;
d)预乳化;
e)动态混合区中借由增加水相的流速和/或降低油相的流速而形成HIPE;
f)由动态连续输送至混合物经其流动的静态混合区,形成稳定的油包水乳液;
g)聚合与脱水。
相对于其中聚合作用发生于胶微粒中而非单体液滴中(油相)的自由基水性乳液聚合作用,在此方法中聚合作用发生于油相,使得其可视为本体聚合作用的特殊情形。此外,此方法并不意图用于稳定水性聚合物分散液的制备,而是用于可脱水产生吸收剂的聚合物泡沫的制备。因此,特别是水性聚合物分散液的制备时的上述问题,例如,凝聚形成,在US-A-5,250,576专利中并未出现。
本发明的目的为提供以水性单体乳液的自由基聚合作用制备优选为高浓缩聚合物分散液的方法,其中可以避免上述的缺点,特别是在单体加入结束的前或的后马上的凝聚形成增加、聚合锅的污染与温度增加。
已令人惊奇地发现,此目的借由制备水性聚合物分散液的方法完成,其中以消耗速率连续地制备的水性单体乳液进料至反应容器。
本发明因此涉及以水性单体乳液的自由基聚合作用制备聚合物分散液的方法,其中单体乳液以消耗速率连续地制备。依照本发明,单体乳液的各成份在至少一种混合装置中混合以产生乳液。
对于混合装置中单体乳液的连续制备,此本发明方法适合均聚物与共聚物的制备,使得至少一种含单体进料引入该装置中。多数单体可分别或以混合物加入,其可借由,例如,在共同管线中汇合单个进料而制造。
单体可以纯形式(油相)或与水一起进料至混合装置。对于单体乳液的制备,表面活性剂(乳化剂)优选为在进入混合装置前加入含水单体进料。
引发剂经分别进料加入,通常在水相中,但是单体进料与引发剂进料可在进入混合装置之前合并。如果需要,引发剂也可直接加入反应器,与单体乳液无关。
视相容性而定,单体乳液的其他成分,其在以下更确实地定义,与上述进料之一一起或分别地以纯形式,作为在水中或在适当溶剂中的溶液加入。
在本发明方法作为半分批方法进行时,一部分水相,如果需要,及单体乳液之一或多种单体和/或其他成份优选先置于反应器中。
各成份加入混合装置中的进料可由熟知方法进行。包括,例如,所有成份直接加入或形成适当预混合物。
在共聚物制备的本发明方法的适当具体实施方案中,例如,作为第一进料的一或多种水溶性单体、乳化剂、如果需要,及其他添加物的混合物,可与作为第二进料的引发剂的水溶液组合,例如,在共用管线部份中。例如,至少一种纯形式(油相)的水不溶性单体可然后作为第三进料加入此混合物,如果需要,借助计量装置。三种进料的混合物在如下面详述的混合装置中以消耗速率连续地乳化,并直接进料至反应容器中。
在本发明方法中,一个或多个混合器可在水性单体乳液的连续制备中作为混合装置,而且其可为相同或不同设计的混合器,其以任何所需的序列、配置与组合使用,例如,所有混合器串列配置、平行与串列配置相组合或所有混合器都平行配置。如果使用多数混合器,串列配置优选。
适当混合器特别为动态混合器,其混合元件含可动部份,与静态混合器,即,内部无移动部分的混合元件,其特别依照在线原理操作。
适当混合器叙述于,例如,A.Echte的工业聚合物化学手册Handbuch der technischen Polymerchemie),VCHVerlagsgesellschaft Weinheim,第104页以下(1993)。其包括例如搅拌锅。合适的搅拌器包括推进搅拌器、叶轮搅拌器、碟式搅拌器、浆式搅拌器、锚式搅拌器、斜叶搅拌器、十字梁式搅拌器、螺旋搅拌器、蜗轮搅拌器等。
适当的动态在线混合器为,例如,叙述于食品工艺和加工技术杂志(ZFL-Zeitschrift fur Lebensmitteltechnologie und-Verfahrenstechnik)33(3)(1982),139以下的Kratz热交换器,依照转子-定子原理操作的粉碎机,例如,齿轮分散器、胶体研磨机、刚玉碟式研磨机及高压与超声波均化器。
其他适合的动态在线(inline)混合器为连续管式混合器。
适当的静态在线混合器为,例如,叙述于ZFL-Zeitschrift furlebensmitteltechnolgie und-Verfahrenstechnik 33(3)(1982),193以下,例如,Ross-ISG混合器,其中流体流通过有孔挡板,将其分成部分流,然后横向地置换及以不同的次序再度组合,或包含多数固定的相同类型的混合元件的静态混合器,其在管或导管中前后安装,并且各相错90°(例如,Kenics、Sulzer SMV与Sulzer SMX混合器)。
其他适合的静态在线混合器为剪切间隙混合器,如叙述于EP-B-101 007专利的喷射分散器。
其他适合的混合器为在线乳化用的装置,如薄膜、喷射混合器与具有本质上圆形或椭圆形横切面的曲管装置。
优选地使用的混合装置包含至少一种在线混合器,其有利地直接安装于反应容器的前面。
特别优选地,混合装置包含一个动态混合器和/或一个静态混合器。如果使用两个混合器,其串连连接。优选使用的动态混合器为连续管式混合器或齿轮分散器,例如,得自Kinematica的Megatron型。
有利地使用的混合装置为具有多个连续弯曲部分的管形装置,其具有交互弯曲方向。此装置叙述于德国专利申请案DE 196 34 450,其在此全部并入作为参考。
具有本质上圆形或椭圆形横切面的装置具有多个弯曲部分,其优选为直接连续并且具有交互弯曲方向,弯曲方向最晚在由弯曲部分开始到管横切面面积的重心部分时的距离为管直径的200倍时反转,而且弯曲部分可以包括多达三圈的围绕弯曲轴的盘绕。
在椭圆形横切面的装置的情形,管径表示最大与最小轴的平均值。
具有交互弯曲方向的曲线在此表示一系列的弯曲管段,在各情形中(曲线的两个连续反转间的部分)下一管段引向另一方向,优选为与前一个相反的方向,即,随各弯曲管段而发生弯曲方向的改变,优选为相反。此装置设计产生具有空间特别有利的配置的卷绕,即,紧密,其特别适合工业实际。
弯曲管段的弯曲半径优选为管横切面面积直径的0.5至100,优选为1至80,2至50或2至20倍。
装置的尺寸通常为使得长度对直径的比例为100∶1至1,000,000∶1,优选为1000∶1至100,000∶1或50,000∶1。
在优选具体实施方案,由进流的方向看,装置为围绕至少两个轴的下降单层卷绕的形式。轴可彼此有角度但是优选为本质上平行。卷绕为非自支撑的情况时,这些轴优选以管或棒实现,其可为圆形或角形。“围绕至少两个轴卷绕”在此仅用于描述。不需要轴在应用中实现,例如,以管或棒的形式。
如果围绕优选为平面配置的多个轴卷绕,则生成带状或壁状结构。
上述的卷绕组成空间特别有利的配置,并使本发明装置有紧密设计。其易于动输,其证明特别是对于维护作业有利。彼此重叠配置的卷绕数并无任何限制,并且视特定要求而定。
适于此本发明方法的水性单体乳液包含a)至少一种烯属不饱和单体,b)如果需要,至少一种适于引发水性乳液聚合作用的引发剂,c)一种或多种表面活性剂,及d)如果需要,其他的添加物。成份a)
适于本发明方法的单体为烯属不饱和C3-C6-单-或二羧酸与C1-C20-烷醇或C1-C20-二醇的单酯或二酯、乙烯基-C1-C20-烷酯、乙烯基芳族化合物、烯属不饱和腈、乙烯基卤化物、乙烯基-C1-C20-烷醚、C2-C8-单-和二烯烃、单烯属不饱和C3-C6-单-或二羧酸、其盐或其酰胺和N-单-或N,N-二-C1-C20-烷基酰胺或羟基烷基酰胺、N-乙烯基内酰胺、烯属不饱和烷基磺酸或芳基磺酸和及/或其盐、和同一类型和/或不同类型的不同单体的混合物。
适合单体的实例为丙烯酸或甲基丙烯酸与甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、仲丁醇、叔丁醇、戊醇、己醇、2-乙基己醇、辛醇、癸醇、十二醇或硬脂醇的酯、甲酸乙烯酯、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、丙烯腈、甲基丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、氯乙烯、偏氯乙烯、乙烯基乙基醚、乙烯、丙烯、丁二烯、异戊二烯、N-乙烯基吡咯烷酮、乙烯基磺酸与其碱金属盐、丙烯酰胺基丙烷磺酸与其碱金属盐、磺酸化苯乙烯与其碱金属盐、丙烯酸、甲基丙烯酸、顺丁烯二酸、反丁烯二酸、衣康酸等。
其他单体a)的实例,其通常以少量存在,包含上述烯属不饱和羧酸的N-烷基-和N-羟基烷基酰胺、二羟基醇与上述烯属不饱和单羧酸的二酯、烯属不饱和羧酸的乙烯酯或烯丙酯、N,N’-二乙烯基-或N,N’-二烯丙基脲衍生物或二乙烯基芳族化合物。
本发明方法的特别适合的单体组合为,例如,丙烯酸正丁酯与乙酸乙烯酯;丙烯酸正丁酯与苯乙烯;丙烯酸正丁酯与丙烯酸乙基己酯;丁二烯与苯乙烯;丁二烯与丙烯腈和/或甲基丙烯腈;丁二烯及异戊二烯与丙烯腈和/或甲基丙烯腈;丁二烯与丙烯酸酯;丁二烯与甲基丙烯酸酯。所述的所有单体组合更可含少量的其他单体,优选为丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺和/或甲基丙烯酰胺。成份b)
适合的自由基聚合作用引发剂均为可引发自由基水性乳液聚合作用的引发剂。其可为过氧化物,例如,碱金属过氧二硫酸盐,及偶氮化合物。也可使用由至少一种有机还原剂与至少一种过氧化物和/或氢过氧化物组合的系统,例如,叔丁基氢过氧化物与羟基甲烷亚磺酸的钠盐或氢过氧化物与抗坏血酸。也可使用含少量金属化合物的组合系统,其溶于聚合作用介质而且其金属成份可以多价态发生,例如,抗坏血酸/硫酸亚铁(Ⅱ)/氢过氧化物,在此羟基甲烷亚磺酸的钠盐、亚硫酸钠、亚硫酸氢钠或二亚硫酸钠也经常取代抗坏血酸而使用,及以叔丁基氢过氧化物或碱金属过氧二硫酸盐和/或过氧二硫酸铵取代氢过氧化物。优选引发剂为过氧硫酸或过氧二硫酸的铵或碱金属盐,特别是过氧二硫酸钠或钾。基于被聚合单体的总量,所使用自由基引发剂系统的量优选为0.1至2重量%。成份c)
乳液聚合在适当乳化剂与保护胶体的存在下进行。这些物质通常基于被聚合的单体的用量为达10,优选为0.5至5,特别是0.5至3重量%。
适合的保护胶体为,例如,聚乙烯醇、纤维素衍生物或以乙烯基吡咯烷酮为基的共聚物。适合的乳化剂特别为阴离子性与非离子性乳化剂,如乙氧化单、二与三烷基酚,长链烷醇的乙氧化物,烷基硫酸酯、乙氧化烷醇与乙氧化烷基酚的硫酸半酯、及烷基磺酸和烷基芳基磺酸的碱金属盐与铵盐。保护胶体与乳化剂的详细说明出现于Houben-Weyl,有机化学方法(Methoden der Organischen Chemie),第ⅩⅣ/1卷,大分子物质(Makromolekulare Stoffe),Georg-Thieme-Verlag,Stuttgart,1961,第192-208与411-420页。
可使用的非离子性乳化剂为芳脂族或脂族非离子性乳化剂,例如,乙氧化单-、二-与三烷基酚(乙氧化程度:3至50,烷基:C4-C10)、长链烷醇的乙氧化物(乙氧化程度:3至50,烷基:C8-C36)、及聚氧化乙烯/聚氧化丙烯嵌段共聚物。长链烷醇的乙氧化物(烷基:C10-C22,平均乙氧化程度10至50)优选,而且其中具有线形C12-C18-烷基与10至50的平均乙氧化程度者及乙氧化单烷基酚特别优选。
适合的阴离子性乳化剂为,例如,烷基硫酸酯(烷基:C8-C12)、乙氧化烷醇(乙氧化程度:2至50,烷基:C12-C18)与乙氧化烷基酚(乙氧化程度:3至50,烷基:C4-C9)的硫酸半酯、烷基磺酸(烷基:C12-C18)及烷基芳基磺酸(烷基:C9-C18)的碱金属与铵盐。其他适合的乳化剂叙述于Houben-Weyl,Methoden der Organischen Chemie,第ⅩⅣ/1卷,Makromolekulare Stoffe,Georg-Thieme-Verlag,Stuttgart,1961,第192-208页。其他适合的阴离子性乳化剂为双(苯基磺酸)醚或其碱金属或铵盐,其在一个芳环或两个芳环上带有一个C4-C24-烷基。这些化合物通常由US-A 4,269,749专利得知,而且为商业可得的,例如,如Dowfax2A1(道氏化学公司的商标)。
适合的阳离子性乳化剂优选为季铵卤化物,例如,三甲基十六基铵氯化物、甲基三辛基铵氯化物与苄基三乙基铵氯化物,及N-C6-C20-烷基吡啶、N-C6-C20-烷基吗啉或N-C6-C20-烷基咪唑的季化合物,例如,N-月桂基吡啶鎓氯化物。成份d)
分子量可借由使用常用调节剂而调整,例如,氢硫基化合物,如氢硫乙醇、氢硫丙醇、氢硫丁醇、氢硫乙酸、氢硫丙酸、氢硫三甲氧基硅烷、丁基硫醇与叔-十二烷基硫醇。有机卤化合物,如四氯化碳或溴三氯甲烷,也为适合的。其他适合的添加物为,例如,pH调整剂、抗氧化剂、脱臭剂、杀生物剂、交联剂、染料、颜料等。
依照本发明制备的乳液在适合此目的的反应器中聚合。此反应器包括,例如搅拌反应器、串接锅与未搅拌反应器,如管式反应器。连续制备单体乳液的乳液聚合作用然后可以半分批或连续方法进行。
在优选具体实施方案中,上述的管形装置不仅作为连续制备水性单体乳液用的混合装置,也同时作为聚合物分散液制备用的反应器。单体乳液的成份可在共同点或在沿反应器的不同点进料。例如,在共聚物的制备时,共聚单体可与主单体或其他成份一起在弯曲反应器开始或在沿弯曲反应器的不同点进料。乳液的制备可在第一部分进行,及聚合作用继而在相邻部分进行。聚合物分散液制备的全部方法可因此有利地连续进行。
在进一步优选具体实施方案中,水性单体乳液的制备在上述在线混合器之一中进行,聚合作用继而在相邻管形装置进行,如DE-196 34450专利所述,因此全部方法可有利地连续进行。
使用管形装置的聚合作用可按上述两种方法之一进行,有或无引发剂的加入。如果使用引发剂,其可在管式反应器开始时加入,或在使用额外的在线混合器时,在后者的前,或在足以制造单体乳液的管段之后加入,例如,10至50米。如果未使用引发剂,聚合作用也可热引发,例如,借由在足以制造单体乳液的管段之后增加反应器温度。
如果并未连续地进行聚合作用,例如,在上述管式反应器之一,而是为半分批方法,则可先加入一些连续相,即,反应器按比例地充填水,如果需要,及表面活性剂和/或单体。
聚合作用也可使用种籽乳胶进行,其在半分批步骤的情形时,可在反应开始时于反应器容器中制备,或可在进入混合装置前作为成份加入单体乳液的其他成份。在使用管式反应器时,一种籽乳胶可分别或在反应器的第一部分制备。在后者的情形,被聚合的单体然后在种籽形成后进料。
本发明方法特别适合具有高固体含量的聚合物分散液的制备。其优选为25至75,特别优选为至少50,特别是至少60重量%。其中可避免现有技术已知的缺点,特别是由于分别制备(预乳化)单体乳液的部分或完全分离引起的缺点。
借助以下的非限制性实例描述本发明。实例
为了证明以消耗速率连续乳液制备的聚合作用比较纯单体的进料或比较在锅中分别制备的乳液进料的优点,各由以下3种计量法制备以下四种分散液:计量法1(比较性)
分别预混的进料1A与1B经共同进料线路-但是无预先乳化-计量至搅拌锅(聚合锅)中。计量法2(比较性)
进料1A与1B在锅中乳化并且在此计量至搅拌锅中。进料2经分别进料线路计量至搅拌锅中。计量法3(依照本发明)
进料1A与2在一管路部分中汇合。进料1A与2的这种混合物然后计量至进料1B中。进料1A、1B与2的混合物然后借助安装于进料线路中搅拌锅正前的在线混合元件(a或b)进行乳化,而且该混合物然后送入搅拌锅中。
使用的在线混合元件为:a)SMX-S型,DN3.2的静态混合器,其包括10个混合元件,得自Sulzer Chemtech,b)Megatron MT 5000齿轮分散器,得自Kinematica。分散液1:
13公斤的水起初置于搅拌锅中并且加热至90℃。然后,加入5%的进料1与9%的进料2并且进行预聚合5分钟。其余量的进料1A与B及进料2然后计量同时在3小时的时间维持聚合作用温度,其各按上述的计量方法之一。然后,后聚合作用进行1小时以完成转化。进料1: A:24.94公斤的水
4.33公斤的乳化剂Ⅰ
1.25公斤的丙烯酸
1.50公斤的50重量%的丙烯酰胺水溶液B:25.00公斤的丙烯酸正丁酯
23.00公斤的乙酸乙烯酯进料2:以下的溶液:
0.375公斤的过氧二硫酸钠
4.98公斤的水固体含量:52.0%分散液2:
15公斤的水起初置于搅拌锅中并且加热至85℃。然后,加入6%的进料1与10%的进料2并且进行预聚合10分钟。其余量的进料1A与B及进料2然后计量同时在3.5小时的时间维持聚合作用温度,其各按上述的计量方法之一。然后,后聚合作用进行1小时以完成转化。进料1:A:19.01公斤的水
2.00公斤的乳化剂ⅡB:30.00公斤的丙烯酸正丁酯
20.00公斤的苯乙烯进料2:以下的溶液:
0.30公斤的过氧二硫酸钠
4.70公斤的水固体含量:55.6%分散液3:
4.33公斤的水起初置于搅拌锅中并且加热至85℃。然后,加入5%的进料1与8%的进料2并且进行预聚合10分钟。其余量的进料1A与B及进料2然后计量同时在3.5小时的时间维持聚合作用温度,其各按上述的计量方法之一。然后,后聚合作用进行1小时以完成转化。进料1:A:10.25公斤的水
1.33公斤的乳化剂Ⅱ
1.50公斤的乳化剂Ⅲ
1.00公斤的丙烯酸
1.40公斤的25重量%的氢氧化钠水溶液B:15.00公斤的丙烯酸乙基己酯
34.00公斤的丙烯酸正丁酯进料2:以下的溶液:
0.35公斤的过氧二硫酸钠
5.48公斤的水固体含量:68.6%分散液4:
16.7公斤的水与0.3公斤的衣康酸的混合物起初置于抗压搅拌锅中并且加热至85℃。然后,加入4.8%的进料1与9%的进料2并且进行预聚合10分钟。其余量的进料1A与B及进料2然后计量同时在4.5小时的时间维持聚合作用温度,其各按上述的计量方法之一。然后,后聚合作用进行1.5小时以完成转化。进料1:A:19.21公斤的水
3.00公斤的乳化剂Ⅱ
0.69公斤的丙烯酸
0.40公斤的25重量%的氢氧化钠水溶液B:31.00公斤的丙烯酸
18.00公斤的丁二烯
0.44公斤的叔十二烷基硫醇进料2:以下的溶液:
0.35公斤的过氧二硫酸钠
5.50公斤的水固体含量:53.7%
在此使用以下的乳化剂:乳化剂Ⅰ:乙氧化异壬基酚的硫酸半酯的30重量%水溶液,乙氧化程度:25乳化剂Ⅱ:月桂基硫酸钠的15重量%水溶液乳化剂Ⅲ:乙氧化异辛基酚的20重量%水溶液,乙氧化程度:25分散液制备后对-凝聚物>50μm的含量-聚合锅的污染-进料结束后内锅温度的增加按以下的方法检测:凝聚物1公斤的对应分散液经一片已知重量并且具有50μm筛度的尼龙网过滤。收集的凝聚物以蒸馏水完全清洗及在室温与尼龙网一起干燥。再称重以测定收集的凝聚物重量。凝聚物量以百分比(基于分散液的质量)表示。聚合锅的污染分散液已自搅拌锅排出后,用水完全清洗,而且依照以下标准目视评定及评估锅壁与搅拌器的污染:1非常少搅拌器和/或锅壁污染2少量的搅拌器和/或锅壁污染3中度的搅拌器和/或锅壁污染4严重的搅拌和/或锅壁污染进料结束后的温度增加
为此目的,进料结束后立即显示的温度与进料结束后达到的最高温度比较。如此测定的差ΔT各以℃叙述。实验的结果归纳于以下表1至4。表1:分散液1的实验结果
| 分散液1 | 计量法1 | 计量法2 | 计量法3a) | 计量法3b) |
| 凝聚物 | 0.14% | 0.09% | <0.01% | <0.01% |
| 进料结束后的ΔT | 8℃ | 4℃ | -- | -- |
| 锅污染 | 4 | 2 | 1 | 1 |
表2:分散液2的实验结果
| 分散液2 | 计量法1 | 计量法2 | 计量法3a) | 计量法3b) |
| 凝聚物 | 0.2% | 0.11% | 0.02% | <0.01% |
| 进料结束后的ΔT | 8℃ | 7℃ | 约1℃ | -- |
| 锅污染 | 3 | 2 | 1 | 1 |
表3:分散液3的实验结果
| 分散液3 | 计量法1 | 计量法2 | 计量法3a) | 计量法3b) |
| 凝聚物 | 0.15% | 0.1 | 0.02% | 0.01% |
| 进料结束后的ΔT | 10℃ | 7℃ | 2℃ | -- |
| 锅污染 | 4 | 3 | 2 | 1 |
表4:分散液4的实验结果
| 分散液4 | 计量法1 | 计量法2 | 计量法3a) | 计量法3b) |
| 凝聚物 | 0.12% | 0.08% | <0.01% | <0.01% |
| 进料结束后的ΔT | 8℃ | 6℃ | -- | -- |
| 锅污染 | 3 | 2 | 1 | 1 |
如表1至4的结果所示,在聚合物分散液的制备中借由单体乳液的连续制备与加入而降低凝聚形成,避免进料结束后的温度增加,及降低锅污染。本发明方法因此优于迄今已知的方法。
Claims (16)
1.一种以水性单体乳液的自由基聚合作用制备聚合物分散液的方法,其中单体乳液以其消耗的速率连续地制备。
2.根据权利要求1的方法,其中单体乳液的成份在至少一个混合装置中混合以产生乳液。
3.根据权利要求2的方法,其中使用至少一个动态和/或静态混合器作为混合装置。
4.根据权利要求3的方法,其中使用混合槽或混合反应器和/或在线混合器作为混合器。
5.根据权利要求3或4的方法,其中混合器选自搅拌锅,转子-定子系统,优选为胶体研磨机或齿轮分散器,超声波均化器,高压均化器,连续管式混合器,喷射分散器,剪切间隙混合器,热交换器与弯管连续反应器,它们具有本质上圆形或椭圆形横切面。
6.根据权利要求2-5之一的方法,其中使用在线混合器,特别是连续管式混合器或齿轮分散器,并与静态混合器结合,作为混合装置。
7.根据权利要求2或3的方法,其中使用的混合装置为弯管装置,其具有本质上圆形或椭圆横切面,并且包含多个具有交互弯曲方向的弯曲部分,弯曲方向最晚在由弯曲部分开始到管横切面面积的重心部分时的距离为管直径的200倍时发生变化,而且弯曲部分可以包括多达三圈的围绕弯曲轴的盘绕。
8.根据权利要求7的方法,其中弯曲部分以每一弯曲部分的管横切面面积的重心成半圆形的方式形成。
9.根据权利要求7或8的方法,其中,在椭圆形横切面的情形,半主轴对半次要轴的比例为5∶1至1∶1。
10.根据权利要求7-9之一的方法,其中装置为围绕至少2个本质上平行轴的形式,其优选为配置于一个平面上。
11.根据权利要求7-10之一的方法,其中单体乳液的成份在单一点或沿装置的不同点进料。
12.根据权利要求7-11之一的方法,其中使用该装置作为混合器与反应器。
13.根据权利要求1-11之一的方法,其中使用的混合装置为一或多个在线混合器与根据权利要求8至14任一项的装置的组合,此装置同时作为反应器。
14.前述任一项权利要求的方法,其中水性单体乳液包含
a)至少一种烯属不饱和单体,
b)非必要的至少一种适于引发水性乳液聚合作用的引发剂,
c)一种或多种表面活性剂,及
d)非必要的其他的添加物。
15.根据权利要求14的方法,其中烯属不饱和单体选自烯属不饱和C3-C6-单-或二羧酸与C1-C20-烷醇或C2-C20二醇的酯,优选为丙烯酸烷酯与甲基丙烯酸烷酯,C1-C20-单羧酸的乙烯酯,乙烯基芳族化合物,烯属不饱和腈,乙烯基卤化物,C1-C20-烷基乙烯醚,具有2至8个碳原子与1或2个双键的脂族烃,烯属不饱和C3-C6-单-或二羧酸及其酰胺,N-乙烯基内酰胺,烯属不饱和烷基磺酸或芳基磺酸,及其混合物和/或非必要的其他的烯属不饱和单体。
16.根据权利要求14或15的方法,其中单体选自丙烯酸C1-C12-烷酯、甲基丙烯酸C1-C12烷酯、甲酸乙烯酯、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、丙烯腈、甲基丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、氯乙烯、乙烯基乙基醚、乙烯、丙烯、丁二烯、异戊二烯、与N-乙烯基吡咯烷酮。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106587245A (zh) * | 2016-11-17 | 2017-04-26 | 烟台智本知识产权运营管理有限公司 | 用于稠油热采污水处理的除油剂及其制备方法 |
| CN111704694A (zh) * | 2020-07-01 | 2020-09-25 | 西安长庆化工集团有限公司 | 乳液型聚合物的连续生产工艺和连续生产装置及其应用 |
| CN111978488A (zh) * | 2019-05-21 | 2020-11-24 | 中国石油天然气集团有限公司 | 一种高内相乳液法制备多孔高分子材料的方法 |
Families Citing this family (283)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9826701D0 (en) * | 1998-12-05 | 1999-01-27 | Univ Newcastle | Microcellular polymers as cell growth media and novel polymers |
| WO2001027165A1 (en) * | 1999-10-08 | 2001-04-19 | The Procter & Gamble Company | APPARATUS AND PROCESS FOR IN-LINE PREPARATION OF HIPEs |
| DE10119330A1 (de) * | 2001-04-19 | 2002-10-24 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung einer wässrigen Polymerdispersion durch radikalische wässrige Emulsionspolymerisation mit einer kontinuierlich hergestellten wässrigen Monomerenemulsion |
| DE602004019230D1 (de) * | 2003-09-11 | 2009-03-12 | Ciba Holding Inc | Auf wasser basierende konzentrierte produktformen von lichtschutzmitteln, hergestellt nach einer heterophasen-polymerisationstechnik |
| WO2005058207A1 (en) | 2003-12-11 | 2005-06-30 | Isto Technologies, Inc. | Particulate cartilage system |
| WO2007025290A2 (en) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Isto Technologies, Inc. | Implants and methods for repair, replacement and treatment of joint disease |
| US8163549B2 (en) | 2006-12-20 | 2012-04-24 | Zimmer Orthobiologics, Inc. | Method of obtaining viable small tissue particles and use for tissue repair |
| US7720533B2 (en) * | 2006-12-20 | 2010-05-18 | Zimmer Orthobiologicals, Inc. | Apparatus and method for delivering a biocompatible material to a surgical site |
| US20090012629A1 (en) | 2007-04-12 | 2009-01-08 | Isto Technologies, Inc. | Compositions and methods for tissue repair |
| JP2009029984A (ja) * | 2007-07-30 | 2009-02-12 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 高分子樹脂粒子の連続製造装置及び高分子樹脂粒子の連続製造方法 |
| BRPI0910211B1 (pt) * | 2008-06-30 | 2021-01-26 | Dow Global Technologies Inc. | método para formar uma emulsão de monômero |
| US20120129965A1 (en) | 2009-07-22 | 2012-05-24 | Basf Se | Use of film-forming polymers and organic hollow particles for coating agents |
| US20130023129A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Asm America, Inc. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
| EP2581421A1 (en) | 2011-10-12 | 2013-04-17 | Ineos Europe AG | Additive |
| US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
| US20140178343A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Jian Q. Yao | Supports and methods for promoting integration of cartilage tissue explants |
| US20160376700A1 (en) | 2013-02-01 | 2016-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | System for treatment of deposition reactor |
| US10858737B2 (en) | 2014-07-28 | 2020-12-08 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead assembly and components thereof |
| US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
| US10276355B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
| US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
| US10211308B2 (en) | 2015-10-21 | 2019-02-19 | Asm Ip Holding B.V. | NbMC layers |
| US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
| US10529554B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-01-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches |
| US10343920B2 (en) | 2016-03-18 | 2019-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Aligned carbon nanotubes |
| US11453943B2 (en) | 2016-05-25 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor |
| US9859151B1 (en) | 2016-07-08 | 2018-01-02 | Asm Ip Holding B.V. | Selective film deposition method to form air gaps |
| US10612137B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-04-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Organic reactants for atomic layer deposition |
| US9887082B1 (en) | 2016-07-28 | 2018-02-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US9812320B1 (en) | 2016-07-28 | 2017-11-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
| US11532757B2 (en) | 2016-10-27 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of charge trapping layers |
| US10714350B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-14 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
| KR102546317B1 (ko) | 2016-11-15 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
| KR102762543B1 (ko) | 2016-12-14 | 2025-02-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| US11447861B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
| US11581186B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-02-14 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus |
| US10269558B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
| US11390950B2 (en) | 2017-01-10 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process |
| US10468261B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US10770286B2 (en) | 2017-05-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
| US12040200B2 (en) | 2017-06-20 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus |
| US11306395B2 (en) | 2017-06-28 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus |
| KR20190009245A (ko) | 2017-07-18 | 2019-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물 |
| US11374112B2 (en) | 2017-07-19 | 2022-06-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
| US10590535B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-17 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same |
| TWI815813B (zh) | 2017-08-04 | 2023-09-21 | 荷蘭商Asm智慧財產控股公司 | 用於分配反應腔內氣體的噴頭總成 |
| US10692741B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-06-23 | Asm Ip Holdings B.V. | Radiation shield |
| US10770336B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate lift mechanism and reactor including same |
| US11769682B2 (en) | 2017-08-09 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
| US11830730B2 (en) | 2017-08-29 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
| US11295980B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
| USD880859S1 (en) | 2017-09-05 | 2020-04-14 | Black & Decker Inc. | Tool bit container |
| US10658205B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-05-19 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
| US10403504B2 (en) | 2017-10-05 | 2019-09-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
| US10923344B2 (en) | 2017-10-30 | 2021-02-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
| CN111316417B (zh) | 2017-11-27 | 2023-12-22 | 阿斯莫Ip控股公司 | 与批式炉偕同使用的用于储存晶圆匣的储存装置 |
| JP7206265B2 (ja) | 2017-11-27 | 2023-01-17 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | クリーン・ミニエンバイロメントを備える装置 |
| US10603783B2 (en) | 2017-12-04 | 2020-03-31 | Black & Decker Inc. | Tool container system |
| USD882952S1 (en) | 2017-12-04 | 2020-05-05 | Black & Decker Inc. | Tool bit container |
| USD882951S1 (en) | 2017-12-04 | 2020-05-05 | Black & Decker Inc. | Tool bit container |
| USD882950S1 (en) | 2017-12-04 | 2020-05-05 | Black & Decker Inc. | Tool bit container |
| JP7410857B2 (ja) | 2017-12-12 | 2024-01-10 | コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガニゼーション | 導電性ポリマーの調製のための連続フロープロセス |
| US10872771B2 (en) | 2018-01-16 | 2020-12-22 | Asm Ip Holding B. V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
| CN111630203A (zh) | 2018-01-19 | 2020-09-04 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过等离子体辅助沉积来沉积间隙填充层的方法 |
| TWI852426B (zh) | 2018-01-19 | 2024-08-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 沈積方法 |
| US11081345B2 (en) | 2018-02-06 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
| US10896820B2 (en) | 2018-02-14 | 2021-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
| JP7124098B2 (ja) | 2018-02-14 | 2022-08-23 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 周期的堆積プロセスにより基材上にルテニウム含有膜を堆積させる方法 |
| US10731249B2 (en) | 2018-02-15 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus |
| KR102636427B1 (ko) | 2018-02-20 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 장치 |
| US10975470B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-04-13 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
| US11473195B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate |
| US11629406B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate |
| KR102646467B1 (ko) | 2018-03-27 | 2024-03-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조 |
| US11230766B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| KR102600229B1 (ko) | 2018-04-09 | 2023-11-10 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 장치, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| TWI811348B (zh) | 2018-05-08 | 2023-08-11 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構 |
| US12025484B2 (en) | 2018-05-08 | 2024-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film forming method |
| US12272527B2 (en) | 2018-05-09 | 2025-04-08 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for use with hydrogen radicals and method of using same |
| KR102596988B1 (ko) | 2018-05-28 | 2023-10-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
| TWI840362B (zh) | 2018-06-04 | 2024-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 水氣降低的晶圓處置腔室 |
| US11718913B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-08-08 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system and reactor system including same |
| US11286562B2 (en) | 2018-06-08 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase chemical reactor and method of using same |
| US10797133B2 (en) | 2018-06-21 | 2020-10-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
| KR102568797B1 (ko) | 2018-06-21 | 2023-08-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 시스템 |
| JP7674105B2 (ja) | 2018-06-27 | 2025-05-09 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 金属含有材料ならびに金属含有材料を含む膜および構造体を形成するための周期的堆積方法 |
| CN112292477A (zh) | 2018-06-27 | 2021-01-29 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于形成含金属的材料的循环沉积方法及包含含金属的材料的膜和结构 |
| US10612136B2 (en) | 2018-06-29 | 2020-04-07 | ASM IP Holding, B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
| US10388513B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US10755922B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US11430674B2 (en) | 2018-08-22 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
| KR102707956B1 (ko) | 2018-09-11 | 2024-09-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 |
| US11024523B2 (en) | 2018-09-11 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| CN110970344B (zh) | 2018-10-01 | 2024-10-25 | Asmip控股有限公司 | 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法 |
| US11232963B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| KR102592699B1 (ko) | 2018-10-08 | 2023-10-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치 |
| KR102605121B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| KR102546322B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| US12378665B2 (en) | 2018-10-26 | 2025-08-05 | Asm Ip Holding B.V. | High temperature coatings for a preclean and etch apparatus and related methods |
| US11087997B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
| KR102748291B1 (ko) | 2018-11-02 | 2024-12-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
| US11572620B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-02-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate |
| US10818758B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
| US12040199B2 (en) | 2018-11-28 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
| US11217444B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-01-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film |
| USD873018S1 (en) | 2018-12-04 | 2020-01-21 | Black & Decker Inc. | Tool container |
| USD872479S1 (en) | 2018-12-04 | 2020-01-14 | Black & Decker Inc. | Tool container |
| USD858103S1 (en) | 2018-12-04 | 2019-09-03 | Black & Decker Inc. | Tool container |
| USD873019S1 (en) | 2018-12-04 | 2020-01-21 | Black & Decker Inc. | Tool container |
| USD873017S1 (en) | 2018-12-04 | 2020-01-21 | Black & Decker Inc. | Tool container |
| USD873013S1 (en) | 2018-12-04 | 2020-01-21 | Black & Decker, Inc. | Tool container |
| USD874143S1 (en) | 2018-12-04 | 2020-02-04 | Black & Decker Inc. | Tool container |
| KR102636428B1 (ko) | 2018-12-04 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치를 세정하는 방법 |
| USD870457S1 (en) | 2018-12-04 | 2019-12-24 | Black & Decker Inc. | Tool container |
| USD873012S1 (en) | 2018-12-04 | 2020-01-21 | Black & Decker Inc. | Tool container |
| US11158513B2 (en) | 2018-12-13 | 2021-10-26 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
| TWI874340B (zh) | 2018-12-14 | 2025-03-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成裝置結構之方法、其所形成之結構及施行其之系統 |
| TWI866480B (zh) | 2019-01-17 | 2024-12-11 | 荷蘭商Asm Ip 私人控股有限公司 | 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法 |
| KR102727227B1 (ko) | 2019-01-22 | 2024-11-07 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| JP7509548B2 (ja) | 2019-02-20 | 2024-07-02 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基材表面内に形成された凹部を充填するための周期的堆積方法および装置 |
| US11482533B2 (en) | 2019-02-20 | 2022-10-25 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and methods for plug fill deposition in 3-D NAND applications |
| KR102626263B1 (ko) | 2019-02-20 | 2024-01-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치 |
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| TWI842826B (zh) | 2019-02-22 | 2024-05-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基材處理設備及處理基材之方法 |
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| US11742198B2 (en) | 2019-03-08 | 2023-08-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structure including SiOCN layer and method of forming same |
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| US11447864B2 (en) | 2019-04-19 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
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| JP7598201B2 (ja) | 2019-05-16 | 2024-12-11 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 |
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| USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| USD947913S1 (en) | 2019-05-17 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
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| USD944946S1 (en) | 2019-06-14 | 2022-03-01 | Asm Ip Holding B.V. | Shower plate |
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| JP7499079B2 (ja) | 2019-07-09 | 2024-06-13 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法 |
| CN112216646A (zh) | 2019-07-10 | 2021-01-12 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板支撑组件及包括其的基板处理装置 |
| KR102895115B1 (ko) | 2019-07-16 | 2025-12-03 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
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| US11643724B2 (en) | 2019-07-18 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
| TWI839544B (zh) | 2019-07-19 | 2024-04-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成形貌受控的非晶碳聚合物膜之方法 |
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| TWI851767B (zh) | 2019-07-29 | 2024-08-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於利用n型摻雜物及/或替代摻雜物選擇性沉積以達成高摻雜物併入之方法 |
| CN112309900B (zh) | 2019-07-30 | 2025-11-04 | Asmip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| CN112309899B (zh) | 2019-07-30 | 2025-11-14 | Asmip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| KR20210015655A (ko) | 2019-07-30 | 2021-02-10 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 방법 |
| US11587815B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11227782B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11587814B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| CN118422165A (zh) | 2019-08-05 | 2024-08-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于化学源容器的液位传感器 |
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| US11286558B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
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| US12469693B2 (en) | 2019-09-17 | 2025-11-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a carbon-containing layer and structure including the layer |
| US11562901B2 (en) | 2019-09-25 | 2023-01-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
| CN112593212B (zh) | 2019-10-02 | 2023-12-22 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法 |
| TW202128273A (zh) | 2019-10-08 | 2021-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氣體注入系統、及將材料沉積於反應室內之基板表面上的方法 |
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| TWI846953B (zh) | 2019-10-08 | 2024-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理裝置 |
| KR102879443B1 (ko) | 2019-10-10 | 2025-11-03 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체 |
| US12009241B2 (en) | 2019-10-14 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette |
| TWI834919B (zh) | 2019-10-16 | 2024-03-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法 |
| US11637014B2 (en) | 2019-10-17 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition of doped semiconductor material |
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| CN112951697B (zh) | 2019-11-26 | 2025-07-29 | Asmip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| US11450529B2 (en) | 2019-11-26 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively forming a target film on a substrate comprising a first dielectric surface and a second metallic surface |
| CN120432376A (zh) | 2019-11-29 | 2025-08-05 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| CN120998766A (zh) | 2019-11-29 | 2025-11-21 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| JP7527928B2 (ja) | 2019-12-02 | 2024-08-05 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基板処理装置、基板処理方法 |
| KR20210070898A (ko) | 2019-12-04 | 2021-06-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| US11885013B2 (en) | 2019-12-17 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming vanadium nitride layer and structure including the vanadium nitride layer |
| US11527403B2 (en) | 2019-12-19 | 2022-12-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures |
| JP7730637B2 (ja) | 2020-01-06 | 2025-08-28 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | ガス供給アセンブリ、その構成要素、およびこれを含む反応器システム |
| KR20210089079A (ko) | 2020-01-06 | 2021-07-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 채널형 리프트 핀 |
| US11993847B2 (en) | 2020-01-08 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Injector |
| KR102882467B1 (ko) | 2020-01-16 | 2025-11-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 고 종횡비 피처를 형성하는 방법 |
| KR102675856B1 (ko) | 2020-01-20 | 2024-06-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법 |
| TWI889744B (zh) | 2020-01-29 | 2025-07-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 污染物捕集系統、及擋板堆疊 |
| TW202513845A (zh) | 2020-02-03 | 2025-04-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 半導體裝置結構及其形成方法 |
| KR20210100010A (ko) | 2020-02-04 | 2021-08-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 대형 물품의 투과율 측정을 위한 방법 및 장치 |
| US11776846B2 (en) | 2020-02-07 | 2023-10-03 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices |
| KR20210103956A (ko) | 2020-02-13 | 2021-08-24 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 수광 장치를 포함하는 기판 처리 장치 및 수광 장치의 교정 방법 |
| TW202146691A (zh) | 2020-02-13 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氣體分配總成、噴淋板總成、及調整至反應室之氣體的傳導率之方法 |
| TWI855223B (zh) | 2020-02-17 | 2024-09-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於生長磷摻雜矽層之方法 |
| TWI895326B (zh) | 2020-02-28 | 2025-09-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 專用於零件清潔的系統 |
| TW202139347A (zh) | 2020-03-04 | 2021-10-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 反應器系統、對準夾具、及對準方法 |
| KR20210116240A (ko) | 2020-03-11 | 2021-09-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치 |
| US11876356B2 (en) | 2020-03-11 | 2024-01-16 | Asm Ip Holding B.V. | Lockout tagout assembly and system and method of using same |
| CN113394086A (zh) | 2020-03-12 | 2021-09-14 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于制造具有目标拓扑轮廓的层结构的方法 |
| US12173404B2 (en) | 2020-03-17 | 2024-12-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing epitaxial material, structure formed using the method, and system for performing the method |
| KR102755229B1 (ko) | 2020-04-02 | 2025-01-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 |
| TWI887376B (zh) | 2020-04-03 | 2025-06-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 半導體裝置的製造方法 |
| TWI888525B (zh) | 2020-04-08 | 2025-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法 |
| KR20210127620A (ko) | 2020-04-13 | 2021-10-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 질소 함유 탄소 막을 형성하는 방법 및 이를 수행하기 위한 시스템 |
| US11821078B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film |
| KR20210128343A (ko) | 2020-04-15 | 2021-10-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 크롬 나이트라이드 층을 형성하는 방법 및 크롬 나이트라이드 층을 포함하는 구조 |
| US11996289B2 (en) | 2020-04-16 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods |
| TW202143328A (zh) | 2020-04-21 | 2021-11-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於調整膜應力之方法 |
| TW202208671A (zh) | 2020-04-24 | 2022-03-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成包括硼化釩及磷化釩層的結構之方法 |
| KR20210132600A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템 |
| TW202146831A (zh) | 2020-04-24 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 垂直批式熔爐總成、及用於冷卻垂直批式熔爐之方法 |
| TWI887400B (zh) | 2020-04-24 | 2025-06-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於穩定釩化合物之方法及設備 |
| US11898243B2 (en) | 2020-04-24 | 2024-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming vanadium nitride-containing layer |
| KR102783898B1 (ko) | 2020-04-29 | 2025-03-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 고체 소스 전구체 용기 |
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| JP7726664B2 (ja) | 2020-05-04 | 2025-08-20 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基板を処理するための基板処理システム |
| JP7736446B2 (ja) | 2020-05-07 | 2025-09-09 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 同調回路を備える反応器システム |
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| TW202147383A (zh) | 2020-05-19 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基材處理設備 |
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| KR102702526B1 (ko) | 2020-05-22 | 2024-09-03 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 과산화수소를 사용하여 박막을 증착하기 위한 장치 |
| KR20210146802A (ko) | 2020-05-26 | 2021-12-06 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 붕소 및 갈륨을 함유한 실리콘 게르마늄 층을 증착하는 방법 |
| TWI876048B (zh) | 2020-05-29 | 2025-03-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
| TW202212620A (zh) | 2020-06-02 | 2022-04-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 處理基板之設備、形成膜之方法、及控制用於處理基板之設備之方法 |
| KR20210156219A (ko) | 2020-06-16 | 2021-12-24 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 붕소를 함유한 실리콘 게르마늄 층을 증착하는 방법 |
| JP7703376B2 (ja) | 2020-06-24 | 2025-07-07 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | シリコンを備える層を形成するための方法 |
| TWI873359B (zh) | 2020-06-30 | 2025-02-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
| US12431354B2 (en) | 2020-07-01 | 2025-09-30 | Asm Ip Holding B.V. | Silicon nitride and silicon oxide deposition methods using fluorine inhibitor |
| KR102707957B1 (ko) | 2020-07-08 | 2024-09-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
| TWI864307B (zh) | 2020-07-17 | 2024-12-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於光微影之結構、方法與系統 |
| KR20220011092A (ko) | 2020-07-20 | 2022-01-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 전이 금속층을 포함하는 구조체를 형성하기 위한 방법 및 시스템 |
| TWI878570B (zh) | 2020-07-20 | 2025-04-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於沉積鉬層之方法及系統 |
| US12322591B2 (en) | 2020-07-27 | 2025-06-03 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film deposition process |
| KR20220021863A (ko) | 2020-08-14 | 2022-02-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
| US12040177B2 (en) | 2020-08-18 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes |
| TW202228863A (zh) | 2020-08-25 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 清潔基板的方法、選擇性沉積的方法、及反應器系統 |
| US11725280B2 (en) | 2020-08-26 | 2023-08-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming metal silicon oxide and metal silicon oxynitride layers |
| TW202229601A (zh) | 2020-08-27 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成圖案化結構的方法、操控機械特性的方法、裝置結構、及基板處理系統 |
| KR20220033997A (ko) | 2020-09-10 | 2022-03-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 갭 충진 유체를 증착하기 위한 방법 그리고 이와 관련된 시스템 및 장치 |
| USD990534S1 (en) | 2020-09-11 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
| KR20220036866A (ko) | 2020-09-16 | 2022-03-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 산화물 증착 방법 |
| USD1012873S1 (en) | 2020-09-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for semiconductor processing apparatus |
| TWI889903B (zh) | 2020-09-25 | 2025-07-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
| US12009224B2 (en) | 2020-09-29 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and method for etching metal nitrides |
| KR20220045900A (ko) | 2020-10-06 | 2022-04-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 함유 재료를 증착하기 위한 증착 방법 및 장치 |
| CN114293174A (zh) | 2020-10-07 | 2022-04-08 | Asm Ip私人控股有限公司 | 气体供应单元和包括气体供应单元的衬底处理设备 |
| TW202229613A (zh) | 2020-10-14 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 於階梯式結構上沉積材料的方法 |
| KR102873665B1 (ko) | 2020-10-15 | 2025-10-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자의 제조 방법, 및 ether-cat을 사용하는 기판 처리 장치 |
| KR20220053482A (ko) | 2020-10-22 | 2022-04-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐 금속을 증착하는 방법, 구조체, 소자 및 증착 어셈블리 |
| TW202223136A (zh) | 2020-10-28 | 2022-06-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統 |
| TW202229620A (zh) | 2020-11-12 | 2022-08-01 | 特文特大學 | 沉積系統、用於控制反應條件之方法、沉積方法 |
| TW202229795A (zh) | 2020-11-23 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 具注入器之基板處理設備 |
| TW202235649A (zh) | 2020-11-24 | 2022-09-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 填充間隙之方法與相關之系統及裝置 |
| KR20220076343A (ko) | 2020-11-30 | 2022-06-08 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치의 반응 챔버 내에 배열되도록 구성된 인젝터 |
| US12255053B2 (en) | 2020-12-10 | 2025-03-18 | Asm Ip Holding B.V. | Methods and systems for depositing a layer |
| TW202233884A (zh) | 2020-12-14 | 2022-09-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成臨限電壓控制用之結構的方法 |
| US11946137B2 (en) | 2020-12-16 | 2024-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Runout and wobble measurement fixtures |
| TW202232639A (zh) | 2020-12-18 | 2022-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 具有可旋轉台的晶圓處理設備 |
| TW202226899A (zh) | 2020-12-22 | 2022-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 具匹配器的電漿處理裝置 |
| TW202242184A (zh) | 2020-12-22 | 2022-11-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 前驅物膠囊、前驅物容器、氣相沉積總成、及將固態前驅物裝載至前驅物容器中之方法 |
| TW202231903A (zh) | 2020-12-22 | 2022-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成 |
| USD981973S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor wall for substrate processing apparatus |
| USD1023959S1 (en) | 2021-05-11 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for substrate processing apparatus |
| USD980814S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor for substrate processing apparatus |
| USD980813S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate for substrate processing apparatus |
| USD990441S1 (en) | 2021-09-07 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate |
| USD1099184S1 (en) | 2021-11-29 | 2025-10-21 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
| USD1060598S1 (en) | 2021-12-03 | 2025-02-04 | Asm Ip Holding B.V. | Split showerhead cover |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3296168A (en) † | 1962-07-11 | 1967-01-03 | Kativo S A | Continuous flow polymerization of vinyl acetate in emulsion |
| DE1240286B (de) † | 1965-01-02 | 1967-05-11 | Basf Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Emulsions-polymerisation olefinisch ungesaettigter Verbindungen |
| US3317449A (en) † | 1966-04-19 | 1967-05-02 | Grace W R & Co | Polyvinylidene chloride latex and process |
| US3637563A (en) | 1967-08-02 | 1972-01-25 | Celanese Corp | Preparation of high solids polymer aqueous emulsions |
| JPS5438636B2 (zh) † | 1974-05-14 | 1979-11-22 | ||
| DE2930160A1 (de) † | 1979-07-25 | 1981-02-12 | Bayer Ag | Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von wasser-in-oel-emulsionen |
| DE3013812A1 (de) | 1980-04-10 | 1981-10-15 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von waessrigen polymer-dispersionen mit einem polymerisatgehalt bis 75 gew. prozent |
| JPS57192403A (en) † | 1981-05-22 | 1982-11-26 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Continuous emulsion polymerization |
| DE3222002A1 (de) † | 1982-06-11 | 1983-12-15 | Röhm GmbH, 6100 Darmstadt | Kontinuierliches emulsionspolymerisationsverfahren |
| JPH06102681B2 (ja) † | 1989-07-11 | 1994-12-14 | 株式会社巴川製紙所 | 懸濁重合法 |
| EP0443609B2 (en) † | 1990-02-23 | 2002-07-24 | Tomoegawa Paper Co. Ltd. | Method and apparatus of suspension polymerization |
| US5149720A (en) * | 1991-08-12 | 1992-09-22 | The Procter & Gamble Company | Process for preparing emulsions that are polymerizable to absorbent foam materials |
| US5250576A (en) * | 1991-08-12 | 1993-10-05 | The Procter & Gamble Company | Process for preparing emulsions that are polymerizable to absorbent foam materials |
| KR100278934B1 (ko) | 1992-01-10 | 2001-01-15 | 고마쓰바라 히로유끼 | 공중합체 라텍스 제조방법 및 그 용도 |
| ES2121073T3 (es) | 1992-01-10 | 1998-11-16 | Sumitomo Dow Ltd | Procedimiento para la produccion de latex copolimero y utilizacion de este latex. |
-
1996
- 1996-11-25 DE DE19648744A patent/DE19648744A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-11-21 CA CA002272863A patent/CA2272863C/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-11-21 AR ARP970105461A patent/AR010299A1/es unknown
- 1997-11-21 JP JP52425398A patent/JP3880631B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-11-21 US US09/308,231 patent/US6271320B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-21 CN CNB031471706A patent/CN1244598C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-21 ES ES97953687T patent/ES2163211T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-21 WO PCT/EP1997/006511 patent/WO1998023650A2/de not_active Ceased
- 1997-11-21 CN CN97180050A patent/CN1120176C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-21 EP EP97953687A patent/EP0939774B2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-21 AU AU57506/98A patent/AU747573B2/en not_active Expired
- 1997-11-21 BR BR9713414-7A patent/BR9713414A/pt not_active IP Right Cessation
- 1997-11-21 DE DE59704400T patent/DE59704400D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-27 ID IDW990387A patent/ID21485A/id unknown
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106587245A (zh) * | 2016-11-17 | 2017-04-26 | 烟台智本知识产权运营管理有限公司 | 用于稠油热采污水处理的除油剂及其制备方法 |
| CN111978488A (zh) * | 2019-05-21 | 2020-11-24 | 中国石油天然气集团有限公司 | 一种高内相乳液法制备多孔高分子材料的方法 |
| CN111978488B (zh) * | 2019-05-21 | 2022-05-10 | 中国石油天然气集团有限公司 | 一种高内相乳液法制备多孔高分子材料的方法 |
| CN111704694A (zh) * | 2020-07-01 | 2020-09-25 | 西安长庆化工集团有限公司 | 乳液型聚合物的连续生产工艺和连续生产装置及其应用 |
| CN111704694B (zh) * | 2020-07-01 | 2022-03-15 | 西安长庆化工集团有限公司 | 乳液型聚合物的连续生产工艺和连续生产装置及其应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1120176C (zh) | 2003-09-03 |
| EP0939774B2 (de) | 2009-06-17 |
| CA2272863A1 (en) | 1998-06-04 |
| WO1998023650A2 (de) | 1998-06-04 |
| ID21485A (id) | 1999-06-17 |
| BR9713414A (pt) | 2000-04-04 |
| AR010299A1 (es) | 2000-06-07 |
| DE59704400D1 (de) | 2001-09-27 |
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