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CN111613508A - 进气装置及反应腔室 - Google Patents

进气装置及反应腔室 Download PDF

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CN111613508A
CN111613508A CN201910138374.2A CN201910138374A CN111613508A CN 111613508 A CN111613508 A CN 111613508A CN 201910138374 A CN201910138374 A CN 201910138374A CN 111613508 A CN111613508 A CN 111613508A
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CN
China
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nozzle
air inlet
hole
mounting hole
annular concave
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Pending
Application number
CN201910138374.2A
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English (en)
Inventor
王乐
柳朋亮
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Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd
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Publication date
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Abstract

本发明提供一种进气装置及反应腔室，包括进气本体和喷嘴，进气本体的上端面设有环形凹道，在进气本体的环形凹道处设置有安装孔，喷嘴中设置有进气孔，喷嘴可拆卸的安装在安装孔中，且进气孔与环形凹道连通。本发明提供的进气装置及反应腔室能够方便的对进气装置进行清理，降低进气装置的维护成本。

Description

进气装置及反应腔室
技术领域
本发明涉及半导体设备技术领域，具体地，涉及一种进气装置及反应腔室。
背景技术
目前，在半导体加工工艺中，通常是通过等离子体和衬底相互作用，使衬底表面发生各种物理和化学反应，从而使衬底表面的性能发生变化。等离子体通常是经过激发工艺气体产生。
在现有技术中，产生等离子体的工艺气体通常是经过上电极进气装置通入反应腔室内，在上电极进气装置中直接开设通孔，这些通孔作为供工艺气体通过的进气孔，工艺气体经过进气管路通入进气孔中，再经过进气孔进入反应腔室内，并在反应腔室内被激发形成等离子体。
但是，在现有技术中，为了满足工艺的需求，上电极进气装置中的进气孔的内径通常非常小，而工艺气体中又常会夹杂粉尘等微小杂质，并且加工工艺中也不可避免地产生一些副产物，这些微小杂质和副产物会在进气孔处沉积，导致进气孔的堵塞，由于进气孔直接开设在上电极进气装置中，且在上电极进气装置中的深度较大，常规的清理无法彻底清洗进气孔，若要彻底对进气孔进气清洗，通常需要将上电极进气装置从反应腔室上拆下后，再对进气孔进行清洗，这就使得对上电极装置中的进气孔的清洗维护的难度大，且成本高。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种进气装置及反应腔室，其能够方便的对进气装置进行清理，降低进气装置的维护成本。
为实现本发明的目的而提供一种进气装置，包括进气本体和喷嘴，所述进气本体的上端面设有环形凹道，在所述进气本体的环形凹道处设置有安装孔，所述喷嘴中设置有进气孔，所述喷嘴可拆卸的安装在所述安装孔中，且所述进气孔与所述环形凹道连通。
优选的，在所述安装孔的孔壁上设置有第一凸部；
所述喷嘴的外壁上设置有第二凸部，所述喷嘴的所述第二凸部叠置在所述安装孔的所述第一凸部上；在所述第一凸部和所述第二凸部相互叠置的两个表面之间设置有密封圈。
优选的，所述安装孔的上端开设在所述环形凹道的底部，所述安装孔的下端开设在所述进气本体的下端面；所述喷嘴与所述安装孔间隙配合，所述进气孔贯通所述喷嘴的两端，所述进气孔的上端与所述环形凹道相连通。
优选的，所述安装孔的上端开设在所述进气本体的上端面，所述安装孔的下端开设在所述进气本体的下端面；
所述喷嘴与所述安装孔间隙配合，所述喷嘴的上部设有连通槽，所述进气孔的下端开设在所述喷嘴的下端面，所述进气孔的上端通过所述连通槽与所述环形凹道相连通。
优选的，所述喷嘴的材料包括陶瓷或者石英。
优选的，在所述安装孔的孔壁上设置有内螺纹；
所述喷嘴的外周壁上设置有与所述内螺纹相配合的外螺纹；所述喷嘴螺纹连接在所述安装孔内。
优选的，所述安装孔包括由上而下同轴设置的螺纹孔和扩孔，其中，
所述扩孔的直径大于所述螺纹孔的直径；所述螺纹孔的上端开设在所述环形凹道的底部，所述扩孔的下端开设在所述进气本体的下端面；
所述喷嘴包括由上而下依次设置的第一本体和第二本体，其中，在所述第一本体的外周壁上设置有所述外螺纹并螺纹连接在所述螺纹孔中；所述第二本体设置在所述扩孔中，所述第二本体的直径大于所述第一本体的直径；
所述进气孔贯通所述喷嘴的两端，所述进气孔的上端与所述环形凹道相连通。
优选的，所述安装孔包括由上而下同轴设置的螺纹孔和扩孔，其中，
所述扩孔的直径大于所述螺纹孔的直径；所述螺纹孔的上端开设在所述进气本体的上端面，所述扩孔的下端开设在所述进气本体的下端面；
所述喷嘴包括由上而下依次设置的第一本体和第二本体，其中，在所述第一本体的外周壁上设置有所述外螺纹并螺纹连接在所述螺纹孔中；所述第二本体设置在所述扩孔中，所述第二本体的直径大于所述第一本体的直径；
所述喷嘴的上部设有连通槽，所述进气孔的下端开设在所述喷嘴的下端面，所述进气孔的上端通过所述连通槽与所述环形凹道相连通。
优选的，在所述第二本体朝向所述螺纹孔的端面与所述扩孔的相对面之间设置有密封圈。
优选的，所述喷嘴的材料包括金属。
本发明还提供一种反应腔室，包括上述的所述进气装置。
本发明具有以下有益效果：
本发明提供的进气装置包括进气本体和喷嘴，其中，进气本体的上端面设有环形凹道，并在进气本体的环形凹道处设置有安装孔，喷嘴可拆卸的安装在安装孔中，并在喷嘴中设置有进气孔，且进气孔与环形凹道连通，在本发明提供的进气装置中，借助可拆卸的安装在安装孔中的喷嘴，当喷嘴中的进气孔被堵塞时，通过直接将新喷嘴更换至安装孔中，或者将喷嘴从安装孔中拆除，对进气孔进行清理，以实现对进气装置的清理，从而能够方便的对进气装置进行清理，降低进气装置的维护成本。
本发明提供的反应腔室，借助本发明提供的进气装置，能够方便的对进气装置进行清理，降低进气装置的维护成本。
附图说明
图1为本发明提供的进气装置中喷嘴与安装孔的第一种可拆卸结构的结构示意图；
图2为本发明提供的进气装置中喷嘴与安装孔的第一种可拆卸结构中喷嘴与安装孔的第一种设置结构中安装孔的结构示意图；
图3为本发明提供的进气装置中喷嘴与安装孔的第一种可拆卸结构中喷嘴与安装孔的第一种设置结构中喷嘴的结构示意图；
图4为本发明提供的进气装置中喷嘴与安装孔的第一种可拆卸结构中喷嘴与安装孔的第二种设置结构的结构示意图；
图5为本发明提供的进气装置中喷嘴与安装孔的第一种可拆卸结构中喷嘴与安装孔的第二种设置结构中喷嘴的结构示意图；
图6为本发明提供的进气装置中喷嘴与安装孔的第二种可拆卸结构的结构示意图；
图7为本发明提供的进气装置中喷嘴与安装孔的第二种可拆卸结构中喷嘴与安装孔的第一种设置结构中安装孔的结构示意图；
图8为本发明提供的进气装置中喷嘴与安装孔的第二种可拆卸结构中喷嘴与安装孔的第一种设置结构中喷嘴的结构示意图；
图9为本发明提供的进气装置中喷嘴与安装孔的第二种可拆卸结构中喷嘴与安装孔的第二种设置结构的结构示意图；
图10为本发明提供的进气装置中喷嘴与安装孔的第二种可拆卸结构中喷嘴与安装孔的第二种设置结构中喷嘴的结构示意图；
附图标记说明：
1-进气本体；111-第一凸部；112-环形凹道；113-安装孔；114-螺纹孔；115-扩孔；21-喷嘴；211-第二凸部；212-连通槽；222-进气孔；223-第一本体；224-第二本体；3-密封圈。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图来对本发明提供的进气装置及反应腔室进行详细描述。
如图1-图10所示，本实施例提供一种进气装置，包括进气本体1和喷嘴21，进气本体1的上端面设有环形凹道112，在进气本体1的环形凹道112处设置有安装孔113，喷嘴21中设置有进气孔222，喷嘴21可拆卸的安装在安装孔113中，且进气孔222与环形凹道112连通。
本实施例提供的进气装置，借助可拆卸的安装在安装孔113中的喷嘴21，当喷嘴21中的进气孔222被堵塞时，通过直接将新喷嘴21更换至安装孔113中，或者将喷嘴21从安装孔113中拆除，对进气孔222进行清理，以实现对进气装置的清理，从而能够方便的对进气装置进行清理，降低进气装置的维护成本。
具体的，在本实施例提供的进气装置中，环形凹道112设置在进气装置的上端面，并在进气装置中设置有多个安装孔113，用于安装多个喷嘴21，且多个喷嘴21中的进气孔222都与环形凹道112连通，当工艺气体通入至环形凹道112中后，工艺气体会沿环形凹道112流动，充满整个环形凹道112，以使工艺气体通过环形凹道112进入多个进气孔222中，再经过多个进气孔222进入反应腔室中，因此，工艺气体中的杂质以及加工工艺过程中产生的杂质可能会残留在环形凹道112和进气孔222中，由于环形凹道112设于进气装置的上端面，并且环形凹道112是一个连续的环形，这就使得环形凹道112的清理比较容易，而当喷嘴21中的进气孔222被堵塞时，通过将被堵塞的喷嘴21从安装孔113中拆除，并将新的喷嘴21安装至安装孔113中，以实现对进气装置的清理，或者通过将被堵塞的喷嘴21从安装孔113中拆除，对进气孔222进行清理后，再将其安装至安装孔113中，以实现对进气装置的清理，从而使得对进气装置的清理简单方便，降低了进气装置的维护成本。
如图1-图5所示，为本实施例中喷嘴21与安装孔113的第一种可拆卸结构，在此种安装方式中，在安装孔113的孔壁上设置有第一凸部111；喷嘴21的外壁上设置有第二凸部211，喷嘴21的第二凸部211叠置在安装孔113的第一凸部111上；在第一凸部111和第二凸部211相互叠置的两个表面之间设置有密封圈3。
在本实施例中，第一凸部111设置在安装孔113底部的孔壁上，并朝向靠近安装孔113的轴线的方向凸出，第二凸部211设置在喷嘴21顶部的外壁上，并朝向远离喷嘴21的轴线的方向凸出，在向安装孔113中安装喷嘴21时，喷嘴21自安装孔113的顶部放入至安装孔113中，当安装孔113的第一凸部111的上端面与喷嘴21的第二凸部211的下端面相抵时，第二凸部211的下端面压在第一凸部111的上端面至上，从而通过第一凸部111对喷嘴21进行支撑，以使喷嘴21稳定的处于安装孔113中，在从安装孔113中拆卸喷嘴21时，仅需将进气本体1翻转一定角度，喷嘴21即可在重力的作用下从安装孔113中滑出，或者使用拆卸工具从安装孔113的底部伸入安装孔113中，将喷嘴21从安装孔113的顶部顶出即可，或者使用拆卸工具伸入至进气孔222中，并将拆卸工具与进气孔222的内壁相抵，将喷嘴21从安装孔113中提出即可，当然，喷嘴21的拆卸方式并不限于此，在此就不一一例举。
在本实施例中，当喷嘴21处于第一凸部111的上端面与第二凸部211的下端面相抵时，密封圈3位于第一凸部111的上端面与第二凸部211的下端面之间，通过第二凸部211对第一凸部111的压力，以对密封圈3进行挤压，使密封圈3对喷嘴21与安装孔113之间的间隙进行密封，在实际应用中，反应腔室内的压力会对加工结果产生影响，通过密封圈3对安装孔113的密封，可以避免空气经过安装孔113进入反应腔室中，影响反应腔室的密闭性，从而提高反应腔室内压力的稳定性，提高加工工艺的工艺效果。
在本实施例中，第一凸部111是环形，并沿安装孔113的周向环绕设置在安装孔113的孔壁上，第二凸部211也是环形，并沿喷嘴21的周向环绕设置在喷嘴21的外壁上，这样可以增加第一凸部111与第二凸部211的接触面积，从而提高第一凸部111对喷嘴21支撑的稳定性，提高喷嘴21在安装孔113中的稳定性，但是，第一凸部111和第二凸部211的设置方式并不限于此，其也可以不是环形，只要第一凸部111与第二凸部211能够相抵即可。
在本实施例中，喷嘴21的材料包括陶瓷或者石英。在实际应用中，工艺气体经常会采用氯气(Cl2)、氢溴酸(HBr)等具有腐蚀性的气体，而陶瓷和石英具有良好的耐腐蚀性，从而避免喷嘴21以及进气孔222被工艺气体腐蚀，降低杂质在进气孔222内壁上沉积的情况发生，从而降低进气孔222堵塞的几率，并且，在半导体加工工艺中，温度通常都会比较高，而陶瓷和石英还具有良好的热稳定性，可以提高喷嘴21在半导体加工工艺中的使用稳定性。
需要说明的是，由于陶瓷的强度相对于石英较高，使用陶瓷作为喷嘴21的材料，可以进一步提高喷嘴21的稳定性。
如图1-图3所示，为在第一种可拆卸结构中，喷嘴21与安装孔113的第一种设置结构，在此种设置结构中，安装孔113的上端开设在环形凹道112的底部，安装孔113的下端开设在进气本体1的下端面；喷嘴21与安装孔113间隙配合，进气孔222贯通喷嘴21的两端，进气孔222的上端与环形凹道112相连通。
具体的，安装孔113的上端面与环形凹道112的下端面平齐，安装孔113的下端面与进气本体1的下端面平齐，安装孔113自环形凹道112的下端面贯通至进气本体1的下端面，喷嘴21与安装孔113之间采用间隙配合，这是由于喷嘴21与进气本体1的材料的热膨胀系数有差异，采用间隙配合，可以避免喷嘴21卡死或损坏，并且可以使拆装喷嘴21更加容易，从而使得进气装置的清理更加简单方便，在喷嘴21安装在安装孔113中时，喷嘴21位于安装孔113中，进气孔222自喷嘴21的上端面贯通至喷嘴21的下端面，且进气孔222的上端与环形凹道112连通，工艺气体进入环形凹道112后，从环形凹道112的下端面经过进气孔222的上端进入进气孔222中，流经进气孔222后从进气孔222的下端喷入至反应腔室中。
可选的，在喷嘴21安装在安装孔113中时，喷嘴21的上端面与环形凹道112的下端面平齐，喷嘴21的下端面与进气本体1的下端面平齐，可以避免杂质进入安装孔113中，从而避免安装孔113被堵塞，并且，也可以避免喷嘴21影响工艺气体的流动。
如图4-图5所示，为在第一种可拆卸结构中，喷嘴21与安装孔113的第二种设置结构，在此种设置结构中，安装孔113的上端开设在进气本体1的上端面，安装孔113的下端开设在进气本体1的下端面；喷嘴21与安装孔113间隙配合，喷嘴21的上部设有连通槽212，进气孔222的下端开设在喷嘴21的下端面，进气孔222的上端通过连通槽212与环形凹道112相连通。
在第一种可拆卸结构中，喷嘴21与安装孔113的第二种设置结构与喷嘴21与安装孔113第一种设置结构相比，区别在于，在喷嘴21与安装孔113的第二种设置结构中，安装孔113的上端面与环形凹道112的上端面平齐，即，环形凹道112中包括安装孔113，当喷嘴21安装至安装孔113中后，喷嘴21的上端面是高于环形凹道112的下端面的，而在喷嘴21与安装孔113的第一种设置结构中，喷嘴21的上端面低于或等于环形凹道112的下端面的，因此，在喷嘴21与安装孔113的第二种设置结构中，就需要在喷嘴21位于环形凹道112中的部分中设有与环形凹道112相连通的连通槽212，以避免喷嘴21阻挡工艺气体在环形凹道112中的扩散，即可以看作环形凹道112的一部分包括喷嘴21中的连通槽212，当工艺气体在环形凹道112中扩散时，在经过进气本体1中的其中一个喷嘴21时，会进入连通槽212，进入连通槽212的工艺气体中的一部分会进入喷嘴21的进气孔222中，以经过进气孔222进入反应腔室中，另一部分会通过连通槽212继续扩散至环形凹道112中，从而扩散至其余的喷嘴21中。
可选的，在喷嘴21安装在安装孔113中时，喷嘴21的上端面与环形凹道112的上端面平齐，喷嘴21的下端面与进气本体1的下端面平齐，可以避免杂质进入安装孔113中，从而避免安装孔113被堵塞，并且，也可以避免喷嘴21影响工艺气体的流动。
在第一种可拆卸结构中，喷嘴21与安装孔113的第二种设置结构与喷嘴21与安装孔113的第一种设置结构相比，由于喷嘴21的一部分位于环形凹道112中，这就使得环形凹道112的加工难度降低，喷嘴21的尺寸不会受到环形凹道112的限制，降低了喷嘴21的加工难度，并且当喷嘴21安装至安装孔113中后，喷嘴21的上部位于环形凹道112中，更加便于对喷嘴21进行拆装，从而使得对进气装置的清理更加简单方便。
在第一种可拆卸结构中，喷嘴21与安装孔113之间的间隙包括0.2mm-0.4mm。但是，喷嘴21与安装孔113之间的间隙并不限于此，可以根据喷嘴21与安装孔113的材料的热膨胀系数进行调整。
如图6-图10所示，为本实施例中喷嘴21与安装孔113的第二种可拆卸结构，在此种安装方式中，在安装孔113的孔壁上设置有内螺纹；喷嘴21的外周壁上设置有与内螺纹相配合的外螺纹；喷嘴21螺纹连接在安装孔113内，在向安装孔113中安装喷嘴21时，顺时针或逆时针旋转喷嘴21，通过外螺纹与内螺纹的配合，将喷嘴21旋入安装孔113中，在从安装孔113中拆卸喷嘴21时，通过将喷嘴21朝与安装喷嘴21相反的方向旋转，即可将喷嘴21从安装孔113中旋出，即，喷嘴21与安装孔113的第二种可拆卸结构是喷嘴21与安装孔113通过螺纹连接的方式实现可拆线的安装。
如图6-图8所示，为在第二种可拆卸结构中，喷嘴21与安装孔113的第一种设置结构，在此种设置结构中，安装孔113包括由上而下同轴设置的螺纹孔114和扩孔115，其中，扩孔115的直径大于螺纹孔114的直径；螺纹孔114的上端开设在环形凹道112的底部，扩孔115的下端开设在进气本体1的下端面；喷嘴21包括由上而下依次设置的第一本体223和第二本体224，其中，在第一本体223的外周壁上设置有外螺纹并螺纹连接在螺纹孔114中；第二本体224设置在扩孔115中，第二本体224的直径大于第一本体223的直径；进气孔222贯通喷嘴21的两端，进气孔222的上端与环形凹道112相连通。
具体的，安装孔113中的内螺纹设置在位于安装孔113上部的螺纹孔114的内壁上，螺纹孔114的上端面与环形凹道112的下端面平齐，螺纹孔114的下端面与扩孔115的上端面平齐，扩孔115的下端面与进气本体1的下端面平齐，在向安装孔113中安装喷嘴21时，将喷嘴21的第一本体223伸入扩孔115中并旋转喷嘴21，通过第一本体223的外螺纹与螺纹孔114中的内螺纹配合，使第一本体223进入螺纹孔114中，由于喷嘴21的第二本体224的直径大于第一本体223的直径，在持续旋转喷嘴21的过程中，随着第一本体223伸入螺纹孔114中的长度的增加，第二本体224会与螺纹孔114的下端面相抵，从而使喷嘴21旋紧固定在安装孔113中，此时，第一本体223位于螺纹孔114中，第二本体224位于扩孔115中，进气孔222自喷嘴21的上端面贯通第一本体223和第二本体224至喷嘴21的下端面，且进气孔222的上端与环形凹道112连通，工艺气体进入环形凹道112后，从环形凹道112的下端面经过第一本体223的上端进入进气孔222中，流经进气孔222后从第二本体224的下端喷入至反应腔室中，在拆卸喷嘴21时，仅需从进气本体1的下端通过将喷嘴21朝与安装喷嘴21相反的方向旋转，即可将喷嘴21从安装孔113中旋出。
可选的，在喷嘴21安装在安装孔113中时，第一本体223的上端面与螺纹孔114的上端面平齐，且第二本体224的下端面与进气本体1的下端面平齐，这样可以避免杂质进入螺纹孔114和扩孔115中，从而避免安装孔113被堵塞，并且，也可以避免喷嘴21影响工艺气体的流动。
如图9-图10所示，为在第二种可拆卸结构中，喷嘴21与安装孔113的第二种设置结构，在此种设置结构中，安装孔113包括由上而下同轴设置的螺纹孔114和扩孔115，其中，扩孔115的直径大于螺纹孔114的直径；螺纹孔114的上端开设在进气本体1的上端面，扩孔115的下端开设在进气本体1的下端面；喷嘴21包括由上而下依次设置的第一本体223和第二本体224，其中，在第一本体223的外周壁上设置有外螺纹并螺纹连接在螺纹孔114中；第二本体224设置在扩孔115中，第二本体224的直径大于第一本体223的直径；喷嘴21的上部设有连通槽212，进气孔222的下端开设在喷嘴21的下端面，进气孔222的上端通过连通槽212与环形凹道112相连通。
在第二种可拆卸结构中，喷嘴21与安装孔113的第二种设置结构与喷嘴21与安装孔113第一种设置结构相比，区别在于，在喷嘴21与安装孔113的第二种设置结构中，螺纹孔114的上端面与环形凹道112的上端面平齐，即，环形凹道112中包括螺纹孔114，当喷嘴21安装至安装孔113中后，喷嘴21的第一本体223的上端面高于环形凹道112的下端面，而在喷嘴21与安装孔113的第一种设置结构中，第一本体223的上端面是低于或等于环形凹道112的下端面的，因此，在喷嘴21与安装孔113的第二种设置结构中，就需要在喷嘴21的第一本体223位于环形凹槽中部分中设置与环形凹道112相连通的连通槽212，以避免第一本体223阻挡工艺气体在环形凹道112中的扩散，即可以看作环形凹道112的一部分包括喷嘴21中的连通槽212，当工艺气体在环形凹道112中扩散时，在经过进气本体1中的其中一个喷嘴21的第一本体223时，会进入连通槽212，进入连通槽212的工艺气体中的一部分会进入喷嘴21的进气孔222中，以经过进气孔222进入反应腔室中，另一部分会通过连通槽212继续扩散至环形凹道112中，从而扩散至其余的喷嘴21中。
可选的，在喷嘴21安装在安装孔113中时，第一本体223的上端面与环形凹道112的上端面平齐，第二本体224的下端面与进气本体1的下端面平齐，可以避免杂质进入螺纹孔114以及扩孔115中，从而避免安装孔113被堵塞，并且，也可以避免喷嘴21影响工艺气体的流动。
在第二种可拆卸结构中，喷嘴21与安装孔113的第二种设置结构与喷嘴21与安装孔113的第一种设置结构相比，由于喷嘴21的一部分位于环形凹道112中，这就使得环形凹道112的加工难度降低，喷嘴21的尺寸不会受到环形凹道112的限制，降低了喷嘴21的加工难度，并且当喷嘴21安装至安装孔113中后，喷嘴21的上部位于环形凹道112中，更加便于对喷嘴21进行拆装，从而使得对进气装置的清理更加简单方便。
在第二种可拆卸结构中，在第二本体224朝向螺纹孔114的端面与扩孔115的相对面之间设置有密封圈3，当旋紧喷嘴21时，通过第二本体224的上端面与扩孔115的下端面对密封圈3挤压，使密封圈3对喷嘴21与安装孔113之间的间隙进行密封，与第一种可拆卸结构相似的，通过密封圈3对安装孔113的密封，可以避免空气经过安装孔113进入反应腔室中，影响反应腔室的密闭性，从而提高反应腔室内压力的稳定性，提高加工工艺的工艺效果。
在第二种可拆卸结构中，喷嘴21的材料包括金属，金属材料具有良好的导热性以及射频防护性能，并且便于螺纹的加工。
在本实施例中，环形凹道112的内径可以设置为4mm，进气孔222可以设置为在进气孔222的轴线方向上，自上而下内径依次减小的多段子孔，其中，靠近环形凹道112处，用于工艺气体进入的子孔的内径可以设置为3mm，靠近进气本体1下端面，用于工艺气体喷出的子孔的内径可以设置为0.8mm，但是，多段子孔的内径并不限于此，可以根据加工工艺进行调整。
本实施例还提供一种反应腔室，包括本实施例提供的进气装置。
本发明提供的反应腔室，借助本发明提供的进气装置，能够方便的对进气装置进行清理，降低进气装置的维护成本。
综上所述，本实施例提供的进气装置及反应腔室能够方便的对进气装置进行清理，降低进气装置的维护成本。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (11)

1.一种进气装置，其特征在于，包括进气本体和喷嘴，所述进气本体的上端面设有环形凹道，在所述进气本体的环形凹道处设置有安装孔，所述喷嘴中设置有进气孔，所述喷嘴可拆卸的安装在所述安装孔中，且所述进气孔与所述环形凹道连通。
2.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，在所述安装孔的孔壁上设置有第一凸部；
所述喷嘴的外壁上设置有第二凸部，所述喷嘴的所述第二凸部叠置在所述安装孔的所述第一凸部上；在所述第一凸部和所述第二凸部相互叠置的两个表面之间设置有密封圈。
3.根据权利要求2所述的进气装置，其特征在于，所述安装孔的上端开设在所述环形凹道的底部，所述安装孔的下端开设在所述进气本体的下端面；所述喷嘴与所述安装孔间隙配合，所述进气孔贯通所述喷嘴的两端，所述进气孔的上端与所述环形凹道相连通。
4.根据权利要求2所述的进气装置，其特征在于，所述安装孔的上端开设在所述进气本体的上端面，所述安装孔的下端开设在所述进气本体的下端面；
所述喷嘴与所述安装孔间隙配合，所述喷嘴的上部设有连通槽，所述进气孔的下端开设在所述喷嘴的下端面，所述进气孔的上端通过所述连通槽与所述环形凹道相连通。
5.根据权利要求2-4任意一项所述的进气装置，其特征在于，所述喷嘴的材料包括陶瓷或者石英。
6.根据权利要求1所述的进气装置，其特征在于，在所述安装孔的孔壁上设置有内螺纹；
所述喷嘴的外周壁上设置有与所述内螺纹相配合的外螺纹；所述喷嘴螺纹连接在所述安装孔内。
7.根据权利要求6所述的进气装置，其特征在于，所述安装孔包括由上而下同轴设置的螺纹孔和扩孔，其中，
所述扩孔的直径大于所述螺纹孔的直径；所述螺纹孔的上端开设在所述环形凹道的底部，所述扩孔的下端开设在所述进气本体的下端面；
所述喷嘴包括由上而下依次设置的第一本体和第二本体，其中，在所述第一本体的外周壁上设置有所述外螺纹并螺纹连接在所述螺纹孔中；所述第二本体设置在所述扩孔中，所述第二本体的直径大于所述第一本体的直径；
所述进气孔贯通所述喷嘴的两端，所述进气孔的上端与所述环形凹道相连通。
8.根据权利要求6所述的进气装置，其特征在于，所述安装孔包括由上而下同轴设置的螺纹孔和扩孔，其中，
所述扩孔的直径大于所述螺纹孔的直径；所述螺纹孔的上端开设在所述进气本体的上端面，所述扩孔的下端开设在所述进气本体的下端面；
所述喷嘴包括由上而下依次设置的第一本体和第二本体，其中，在所述第一本体的外周壁上设置有所述外螺纹并螺纹连接在所述螺纹孔中；所述第二本体设置在所述扩孔中，所述第二本体的直径大于所述第一本体的直径；
所述喷嘴的上部设有连通槽，所述进气孔的下端开设在所述喷嘴的下端面，所述进气孔的上端通过所述连通槽与所述环形凹道相连通。
9.根据权利要求7或8所述的进气装置，其特征在于，在所述第二本体朝向所述螺纹孔的端面与所述扩孔的相对面之间设置有密封圈。
10.根据权利要求6-8任意一项所述的进气装置，其特征在于，所述喷嘴的材料包括金属。
11.一种反应腔室，其特征在于，包括如权利要求1-10任意一项的所述进气装置。
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