CN111372766A

CN111372766A - 脱模膜和层叠体的制造方法

Info

Publication number: CN111372766A
Application number: CN201880075338.XA
Authority: CN
Inventors: 佐佐木伸明; 佐藤嘉秀
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 2017-11-30
Filing date: 2018-11-30
Publication date: 2020-07-03
Also published as: TW201930520A; KR102528364B1; TWI798300B; US11724423B2; EP3718762A1; US11673295B2; US20220242012A1; US20200282605A1; WO2019107544A1; EP3718762A4; KR20200090848A

Abstract

本发明涉及一种能够向粘合膜表面转印凹凸结构的脱模膜，作为将转印有凹凸结构的粘合膜加以粘贴时的脱气性良好，由此粘合该粘合膜后能够不易观察到该凹凸结构的脱模膜，提出了下述脱模膜：前述凹凸结构具备在俯视时该凹凸结构的凸部形成不规则形状而成的构成，且凸部在前述凹凸结构的表面所占的面积比例为10～90％，且前述凹凸结构的最大高低差为0.5μm以上，前述凹凸结构中的凸部在俯视时是连续的。

Description

脱模膜和层叠体的制造方法

技术领域

本发明涉及在表面具备凹凸结构的脱模膜，涉及能够向该脱模膜上层叠的膜的表面转印前述凹凸结构的脱模膜、使用了其的层叠体和该层叠体的制造方法。

背景技术

进行了向建筑物的墙壁或窗户、汽车的装饰或窗户、手机、个人电脑的图像显示部等粘贴例如装饰膜、紫外线阻隔膜、蓝光阻隔膜、耐划伤膜、耐热膜、防溅膜、抗指纹或皮脂附着的膜等具备各种功能的粘合膜(称为“功能性粘合膜”)的操作。

使这种功能性粘合膜粘贴至被粘面时，有时裹入空气而在被粘物表面与功能性粘合膜之间形成气泡(空气积留)。若在功能性粘合膜与被粘物之间残留气泡，则不仅损害美观，有时也使功能性粘合膜所具备的功能降低。

因而，在粘贴功能性粘合膜时，为了防止这种空气的裹入而在功能性粘合膜的表面设置凹凸，进行了使被裹入至功能性粘合膜与被粘面之间的空气容易逸散至外部的研究。

例如，专利文献1公开了一种具有由相互连结的多个线状隆起部构成的压花图案的剥离衬垫和使用了前述剥离衬垫的粘接片物品。具有这种凹凸形状的粘合膜中，贴附至被粘物时裹入的空气借助该凹凸形状而容易逸散至外部，因此，在被粘物与粘合膜之间不易产生空气的积留。

专利文献2中，作为在片基材上设置有粘合剂层的粘合膜及其制造方法，公开了以下特征内容：粘合剂层是使粘合剂从混合溶剂发生相分离而形成的点状物，且在制造时包括下述工序：将含有粘合剂和由该粘合剂的良溶剂和不良溶剂构成的混合溶剂的涂布液涂布至片基材上的工序；以及，使混合溶剂蒸发且使粘合剂发生相分离，从而形成点状物的工序。

专利文献3公开了：在基材上设置具有粘合性的树脂层而成的粘合膜，通过在树脂层中含有微粒而自行形成了不规则形状的凹部。

此外，专利文献4公开了一种脱模膜，其通过对基材涂布包含特定的烷基化三聚氰胺树脂作为主要成分的固化性材料并进行固化，从而在其固化膜表面形成粗糙化效果高且无规的图案凹凸的方法，从而得到具备基材、设置在基材上的树脂层、以及设置在树脂层的与基材相反一侧的面上的剥离剂层的脱模膜。具体而言，公开了一种脱模膜，其中，前述树脂层是将包含具有碳原子数为4～18的烷基的烷基化三聚氰胺树脂(A)作为主要成分的固化性材料进行固化而成的，在剥离剂层的表面以存在平均峰高度达到0.5μm以上的棱线的方式设置有凹凸。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006-70273号公报

专利文献2：日本特开2004-277534号公报

专利文献3：WO2015/152352号公报

专利文献4：日本特开2016-188344号公报

发明内容

发明要解决的问题

关于在表面具备凹凸结构的功能性粘合膜，如果该凹凸结构的凹凸深度大，则存在空气容易逸散的优点，另一方面，在粘贴粘合膜后，存在有时观察到该凹凸的花纹而有损外观的问题。

因而，本发明涉及能够向粘合膜的表面转印凹凸结构的脱模膜，提出了将转印有凹凸结构的粘合膜粘贴时的脱气性良好，由此在粘合该粘合膜后能够不易观察到该凹凸结构的新型脱模膜。

本发明还涉及在表面具备具有凹凸结构的粘合片的层叠体及其制造方法，提供能够容易地制作这种粘合片且能够容易地使用该粘合片，进而在将转印有凹凸结构的粘合片粘贴时的脱气性良好，由此在粘合该粘合片后能够不易观察到该凹凸结构的新型层叠体及其制造方法。

用于解决问题的方案

本发明提出了一种脱模膜，其特征在于，其是在基材的至少一个表面侧具备凹凸层的脱模膜，所述凹凸层在表面具有凹凸结构，前述凹凸结构具备在俯视时该凹凸结构的凸部形成不规则形状而成的构成，且凸部在前述凹凸结构的表面所占的面积比例为10～90％，且前述凹凸结构的最大高低差为0.5μm以上。

本发明还提出了一种卷状层叠体，其具备：支撑体、包含粘合层的粘合片和脱模膜依次层叠而成的构成，

前述脱模膜在基材的至少一个表面侧具备凹凸层，所述凹凸层在表面具有凹凸结构，且该凹凸结构具备在俯视时该凹凸结构的凸部形成不规则且连续的形状而成的构成，

通过使粘合层层叠至前述凹凸层的表面，从而向与该脱模膜层叠的粘合层的一个表面转印前述凹凸结构，且向该粘合片的另一个表面层叠支撑体。

本发明还提出了一种层叠体的制造方法，其特征在于，所述层叠体具备：支撑体、包含粘合层的粘合片和脱模膜依次层叠而成的构成，

通过使粘合层层叠至脱模膜的前述凹凸层的表面(称为“凹凸层表面”)，从而向与该脱模膜层叠的粘合层的一个表面转印前述凹凸结构，且向该粘合片的另一个表面层叠支撑体。

发明的效果

本发明提出的脱模膜在俯视时，凸部在前述凹凸结构的表面所占的面积比例为10～90％，且前述凹凸结构的最大高低差为0.5μm以上，因此，对于转印有该凹凸结构的粘合膜而言，能够使粘贴该粘合膜时的脱气性良好。进而，脱模膜中的凹凸结构的凸部形成不规则形状，因此，即使在转印至该粘合膜的凹凸结构中也形成不规则形状，能够在粘合后不易观察到该凹凸结构。

根据本发明提出的层叠体及其制造方法，通过对表面具备凹凸结构的脱模膜层叠粘合层，从而能够将该脱模膜的凹凸结构转印至粘合层，因此，能够容易地制作包含在表面具备凹凸结构的粘合层的粘合片。而且，如果在制造后的状态下不剥离脱模膜地保存层叠体，则能够维持形状而不使转印至粘合层的凹凸结构发生变形。因此，如果剥离脱模膜，则能够直接容易地使用该粘合片。

进而，向粘合层转印的凹凸结构具备凹凸结构的凸部形成不规则且连续的形状而成的构成，因此，不仅能够使粘贴该粘合片时的脱气性良好，而且能够在粘合后不易观察到该凹凸结构。

附图说明

图1是利用VertScan(注册商标)检测实施例1中制作的脱模膜(样品)的凹凸层表面而得到的放大图像(尺寸：703.12μm×937.42μm)。

图2是利用VertScan(注册商标)检测实施例2中制作的脱模膜(样品)的凹凸层表面而得到的放大图像(尺寸：703.12μm×937.42μm)。

图3是利用VertScan(注册商标)检测实施例3中制作的脱模膜(样品)的凹凸层表面而得到的放大图像(尺寸：703.12μm×937.42μm)。

图4是利用VertScan(注册商标)检测实施例4中制作的脱模膜(样品)的凹凸层表面而得到的放大图像(尺寸：703.12μm×937.42μm)。

图5是利用VertScan(注册商标)检测实施例5中制作的脱模膜(样品)的凹凸层表面而得到的放大图像(尺寸：703.12μm×937.42μm)。

图6是利用VertScan(注册商标)检测实施例6中制作的脱模膜(样品)的凹凸层表面而得到的放大图像(尺寸：703.12μm×937.42μm)。

图7是利用VertScan(注册商标)检测实施例7中制作的脱模膜(样品)的凹凸层表面而得到的放大图像(尺寸：703.12μm×937.42μm)。

图8是利用VertScan(注册商标)检测实施例8中制作的脱模膜(样品)的凹凸层表面而得到的放大图像(尺寸：703.12μm×937.42μm)。

图9是利用VertScan(注册商标)检测实施例9中制作的脱模膜(样品)的凹凸层表面而得到的放大图像(尺寸：703.12μm×937.42μm)。

图10是上述图1～9中的放大图像的尺寸图，在右侧的纵条中，白色部分相当于凸部、黑色部分相当于凹部。

具体实施方式

接着，基于实施方式例来说明本发明。其中，本发明不限定于以下说明的实施方式。

[本脱模膜]

本发明的实施方式的一个例子所述的脱模膜(称为“本脱模膜”)是在基材的至少一个表面侧具备凹凸层的脱模膜，所述凹凸层在表面具有凹凸结构。

本脱模膜能够向层叠至该脱模膜的粘合膜等的表面转印前述凹凸结构，因此，也称为凹凸结构转印膜。

本脱模膜只要在基材的至少一个表面侧具备凹凸层即可，因此，可以在例如基材与凹凸层之间具备“功能层”等其它层，此外，也可以在基材的与凹凸层相反的一侧具备与前述凹凸层相同的层等其它层，此外，还可以在凹凸层的外侧具备“剥离层”等其它层。

此外，本脱模膜的特征在于含有抗静电剂。此时，前述基材或凹凸层或这两层可以含有抗静电剂，和/或，可以具备含有抗静电剂的层。和/或，其它层可以含有抗静电剂。例如，后述功能层、剥离层等可以含有抗静电剂。

通过使脱模膜含有抗静电剂，从而能够降低脱模膜的表面电阻值，能够使该脱模膜不易带电。

本发明中，如果是含有抗静电剂的层，则称为“抗静电层”。即，在例如基材、凹凸层、功能层、剥离层等中含有抗静电剂时，该基材、凹凸层、功能层、剥离层等兼作抗静电层。

在设置抗静电层时，其位置可以设置在基材的单面或两面，或者可以设置在凹凸层的外侧。

像这样，如果本脱模膜含有抗静电剂，则能够降低本脱模膜的表面电阻值，能够使本脱模膜不易带电，因此，不仅容易加工而且还能够防止尘埃等的附着。

对于基材而言，如果在具有凹凸层的一侧设置抗静电层，则能够抑制从转印有凹凸形状的粘合膜等剥离本脱模膜时的带电。此外，对于基材而言，如果在与凹凸层相反的一侧设置抗静电层，则在本脱模膜与粘合膜层叠的状态下保管时等时能够抑制因摩擦等而产生的带电。

<基材>

作为基材，可以使用例如纸、各种树脂膜、将纸基材用树脂层压而得到的基材、玻璃、金属箔、将金属箔用树脂层压而得到的基材等。但不限定于它们。

作为上述纸基材，可列举出例如薄页纸、中质纸、优质纸、浸渗纸、涂布纸、铜板纸、硫酸纸、玻璃纸等。

作为上述树脂膜，可列举出例如以聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、环状聚烯烃等聚烯烃；聚碳酸酯、聚乙酸乙烯酯、聚砜、聚醚醚酮、聚醚砜、聚苯硫醚、聚醚酰亚胺、聚酰亚胺、聚酰胺、氟树脂、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚氨基甲酸酯、丙烯酸类树脂等各种树脂作为主要成分树脂的树脂膜。

树脂膜可以是未拉伸膜(片)，也可以是拉伸膜。其中，优选为拉伸膜，更优选为双轴拉伸膜。要转印本脱模膜的凹凸形状的粘合膜通常为柔软的材质，因此，若基材为双轴拉伸膜则本脱模膜的刚性变高，因此，存在从粘合膜等上剥离的剥离性变得良好的倾向。

作为将上述纸基材用树脂进行层压而得到的基材，可列举出例如将上述纸基材用聚乙烯等热塑性树脂进行层压而得到的层压纸等。

此外，作为上述金属箔，可列举出铝箔等。

这些之中，从在切断(裁切)本脱模膜时不产生纸粉，且在转印凹凸结构的粘合膜等上也不发生纸粉附着的方面出发，优选为上述树脂膜，从加工容易度、耐久性、耐热性、成本等的观点出发，更优选以聚酯作为主要成分树脂的树脂膜，尤其是，进一步优选以聚对苯二甲酸乙二醇酯作为主要成分树脂的树脂膜。

此处，“主要成分树脂”是指构成基材的树脂之中含量最多的树脂，具体而言，是指占据50质量％以上、其中为70质量％以上、其中为80质量％以上、其中为90质量％以上(包括100质量％)的树脂。

基材可以为单层构成，也可以为以相同种类或不同种类的树脂作为主要成分的两层以上的多层构成。

基材的厚度优选根据用途来适当选择。一般而言，优选为5μm～500μm，其中，进一步优选为10μm以上或300μm以下、其中为15μm以上或200μm以下。

作为基材而使用树脂膜时，以赋予易滑动性作为主要目的，也可以含有颗粒。

基材所含有的颗粒种类只要是能够赋予易滑动性的颗粒，就没有特别限定。例如，除了二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、碳酸钡、硫酸钙、磷酸钙、磷酸镁、高岭土、氧化铝、氧化钛等无机颗粒之外，还可列举出丙烯酸类树脂、苯乙烯树脂、脲树脂、酚醛树脂、环氧树脂、苯并胍胺树脂等有机颗粒等。

关于该颗粒的形状，没有特别限定。可以为例如球状、块状、棒状、扁平状等中的任意者。

此外，针对该颗粒的硬度、比重、颜色等，也没有特别限定。这一系列颗粒可根据需要而组合使用两种以上。

上述颗粒的平均粒径优选为5μm以下，其中，进一步优选为0.1μm以上或3μm以下。如果上述颗粒的平均粒径为该范围，则能够对基材赋予适度的表面粗糙度，能够赋予良好的顺滑性和平滑性。

此外，上述基材可以含有抗静电剂。进而，除了上述颗粒和抗静电剂之外，可根据需要而含有以往公知的抗氧化剂、热稳定剂、润滑剂、紫外线吸收剂、软化剂、结晶成核剂、染料、颜料等。

<功能层>

可根据需要而设置具备各种功能的层(称为“功能层”)。例如，可根据需要而在上述基材的单面或两面设置功能层。例如，可以在上述基材与上述凹凸层之间设置功能层。或者，对于上述基材而言，也可以在上述凹凸层的相反面设置功能层。进而，也可以在上述凹凸层的表面设置功能层。

在凹凸层的表面设置功能层时，优选以不损害由凹凸层形成的凹凸结构(后述)的方式设计材质、厚度等。例如，在凹凸层的表面设置功能层时的厚度通常为1nm～5μm、优选为1nm～1μm左右。

作为该功能层，可列举出例如易粘接层、抗静电层、易滑动层、水蒸气等的阻气层、防止含基材的物质析出的层、紫外线吸收层、防损伤层、防污层、抗菌层、防反射层、光泽层、哑光层、墨接受层、着色层、印刷层等具备各种功能的层。

(抗静电层)

上述抗静电层只要是含有抗静电剂的层即可。

作为该抗静电剂，可以使用以往公知的抗静电剂。可列举出例如季铵盐、吡啶鎓盐、具有伯氨基～叔氨基等阳离子型基团的各种阳离子型抗静电剂；具有磺酸盐基、硫酸酯盐基、磷酸酯盐基、膦酸盐基等阴离子型基团的阴离子系抗静电剂；氨基酸系、氨基硫酸酯系等两性抗静电剂；氨基醇系、甘油系、聚乙二醇系等非离子型抗静电剂等各种表面活性剂型抗静电剂等。

此外，从防止自抗静电层渗出的观点出发，可列举出作为含有铵基的化合物、聚醚化合物、磺酸化合物、甜菜碱化合物等离子导电性的高分子化合物；或者聚乙炔、聚苯撑、聚苯胺、聚吡咯、聚异硫茚、聚噻吩等π电子共轭系的高分子化合物等高分子化合物的抗静电剂。

从涂布液化的观点和防止自抗静电层渗出的观点出发，作为抗静电剂，优选为阳离子型的高分子化合物，特别优选为含有铵基的化合物。

抗静电层以不同于基材、凹凸层的独立层的形式存在时(包括前述功能层的情况)，该抗静电层优选同时含有抗静电剂和粘结剂聚合物。

作为该粘结剂聚合物，只要能够与抗静电剂相容或混合分散，则可以为固化性树脂，也可以为热塑性树脂。

作为热塑性树脂，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂；或者聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺等聚酰亚胺树脂；或者聚酰胺6、聚酰胺6,6、聚酰胺12、聚酰胺11等聚酰胺树脂；或者聚偏二氟乙烯或丙烯酸类树脂或聚乙烯醇等乙烯基树脂；或者氨基甲酸酯树脂等。

作为固化性树脂，可以选择并使用与形成后述凹凸层时使用的材料相同的树脂。

需要说明的是，抗静电剂为高分子化合物时，可以不使用粘结剂聚合物而仅利用抗静电剂来构成抗静电层。

从防止带电(剥离带电、摩擦带电)的观点出发，以独立层的形式存在时的抗静电层的厚度通常为1nm～5μm、优选为1nm～1μm左右。

抗静电层中的抗静电剂的含量相对于抗静电层整体优选为1质量％以上且90质量％以下，更优选为10质量％以上且80质量％以下，优选为20质量％以上且60质量％以下。如果为上述含量，则能够对本脱模膜赋予适当的抗静电性。

<凹凸层>

前述凹凸层优选为在其表面具备凹凸结构的层，所述凹凸结构具有凸部和除该凸部之外的部分(称为“凹部”)。

前述凹凸结构优选具备在俯视其表面时前述凸部形成不规则形状而成的构成。需要说明的是，在图1～9中，白色部分相当于凸部。

此处，“不规则形状”是指不具有一定的规则性和周期性的形状。换言之，按照仅由直线形成的形状、由同一图案的曲线形成的形状、利用压花辊进行转印的形状、以及将它们加以组合而成的形状的方式以规定的间隔反复相同形状(花纹)的形状之外的形状可称为“不规则形状”。此外，本发明中的不规则性不仅是指花纹自身的不规则性，还包括构成形状的要素大小的不规则性(例如水珠花纹中的水珠大小的不规则性)、构成形状的要素配置的不规则性(例如水珠花纹中的水珠配置的不规则性)等。

作为不规则形状，典型地可列举出图1～9所示那样的、将非相容的聚合物等混合时自然形成的基于海岛结构的形状；凸部为不规则网格形状、不均匀形状的凸部不规则地存在的形状。但不限定于这样的形状。

像这样，通过使前述凸部在本脱模膜的表面形成为不规则形状，从而在向粘合膜转印的凹凸结构中也形成不规则形状，能够在粘合后不易观察到该凹凸结构。

针对用于形成这种凹凸结构的具体方法，如后所述。

前述凹凸结构可以具备如下构成：在俯视其表面时，利用前述凸部，不规则形状沿着周围方向、例如上下左右方向连续形成了不规则花纹、例如网格图案。

不规则形状沿着周围方向连续的情况下，不规则形状的大小、形状并非固定，优选形状不重复，此外，不规则形状的配置也优选为不规则。

此外，前述凹凸结构中的凸部在俯视时可以以具有适当面积的块的形式散在，也可以断续地存在，还可以连续地连接。

此时，将各个凸部的通过X坐标中心与Y坐标中心的直径之中的最大值的直径记作“最长直径”，将该最长直径之中的在测定区域中显示最大值的直径记作“最大最长直径”。

从将转印有凹凸形状的粘合膜粘贴时能够使脱气性良好、且能够在粘合后不易观察到该凹凸结构的观点出发，凸部的最大最长直径优选为1μm～1500μm，其中，进一步优选为10μm以上或1200μm以下、其中为100μm以上或1000μm以下、其中为300μm以上或800μm以下。

此外，前述凹凸结构中的凸部在俯视时可以连续，尤其可以呈现适当长度连续的线状。

从将转印有凹凸结构的粘合膜粘贴时使脱气性更良好的观点出发，其中，优选连续至膜周端边缘部为止。更具体而言，在利用光干涉法对脱模膜表面的凹凸结构的表面进行测定而得到的图像中，在该脱模膜表面的703.13μm×937.42μm的图像区域(相当于5倍的物镜)内，凸部优选为从该图像区域的边缘部连接至对应的边缘部为止、例如从上边部连接至下边部或者从左边部连接至右边部的状态。优选的是：在进一步优选为5mm×5mm见方、特别优选为30mm×30mm见方、最优选为100mm×100mm见方内，凸部从边缘部连接至对应的边缘部为止的状态。

前述凹凸结构中的凸部在利用本脱模膜而转印有凹凸结构的粘合膜等中形成凹部，因此，若本脱模膜的凸部如上那样地连续，则在粘合膜等中，脱气路径也变得连续。其中，在该情况下，一部分凸部可以存在不连续的部位。

作为一个例子，可列举出利用连续至膜周边缘部为止的凸部由不规则形状连续而形成网格图案的情况作为一个例子。

需要说明的是，上述现有专利文献4(日本特开2016-188344号公报)中公开的凹凸结构的凸部并未如上所述地连续，因此，如果凸部如上所述地连续，则能够使脱气性更优良。

此外，同样地，上述现有专利文献2(日本特开2004-277534号公报)公开了粘合膜的粘合层具有凹凸的方式、在该方式中，即使形成了连续的凸部～凹凸结构，在将粘合膜重合或制成卷体的情况下，凹凸有可能压扁或粘连，因此，可使用的粘合剂极为有限，可以说其不现实。

从将转印有凹凸形状的粘合膜粘贴时能够使脱气性良好、且能够在粘合后不易观察到该凹凸结构的观点出发，前述凹凸结构中存在的凸部个数在703.12μm×937.42μm的区域内优选为1个～1000个，其中优选为500个以下、其中优选为100个以下、其中优选为10个以下。

需要说明的是，前述凹凸结构中存在的凸部的上述个数可使用例如图像分析软件，数出单位面积内的脱模膜表面出现的凸部个数来求出。

前述凹凸结构中，在俯视其表面时，凸部在表面所占的面积比例的下限优选为10％以上。如果凸部所占的面积比例为10％以上，则存在脱气性变得良好的倾向。

出于与上述相同的理由，凸部的面积比例的下限更优选为15％以上、进一步优选为20％以上、特别优选为25％以上、最优选为30％以上。

另一方面，本脱模膜中的凸部的面积比例的上限优选为90％以下。如果凸部所占的面积比例为90％以下，则形成粘合膜时，对于保持粘合性而言是优选的。

出于与上述相同的理由，凸部的面积比例的上限更优选为85％以下、进一步优选为80％以下、特别优选为75％以下、最优选为70％以下。

其中，如果凸部的面积比例为10～50％的范围，则粘贴粘合膜时不易观察到脱模膜的凹凸结构，因此能够获得良好的外观，故而更为优选。

此外，如果凸部的面积比例为50～90％的范围，则能够使粘贴粘合膜时的脱气性良好，故而更为优选。

凸部在前述凹凸结构中所占的面积比例可通过对前述凹凸结构的表面进行图像分析，并二值化成凹部和凸部这两个区域来进行分析。

需要说明的是，通过如此对前述凹凸结构的表面进行图像分析，可以在二值化成凹部和凸部这两个区域时，将凹凸结构的表面整体进行二值化，也可以将凹凸结构的表面分成多个部位，在各个部位进行二值化，并求出其平均值。此时，优选求出至少任意三处、其中五处、其中十处的平均值。

对于前述凹凸结构而言，作为增大凸部面积的方法，可列举出后述方法。例如，可通过增加成为凸部主要成分的成分B的配混量，或者增大该成分B的分子量来调整。但不限定于这种方法。

此外，前述凹凸结构中的凹凸的最大高低差的下限优选为0.5μm以上。如果凹凸的最大高低差为0.5μm以上，则将转印有前述凹凸结构的粘合膜粘贴时存在脱气性变得良好的倾向。

出于与上述相同的理由，前述凹凸结构中的凹凸的最大高低差的下限优选为1.0μm以上、更优选为1.5μm以上、进一步优选为2.0μm以上、特别优选为3.0μm以上、最优选为4.0μm以上。

另一方面，前述凹凸结构的凹凸的最大高低差的上限没有特别限定。凹凸的最大高低差通常为40μm以下。如果凹凸的最大高低差为40μm以下，则与粘合膜粘贴后存在不易观察到该凹凸结构的倾向，故而优选。

出于与上述相同的理由，前述凹凸结构中的凹凸的最大高低差的上限优选为35μm以下、更优选为30μm以下、进一步优选为25μm以下、特别优选为20μm以下、最优选为15μm以下。

其中，如果前述凹凸结构的凹凸的最大高低差为0.5～15μm，则不仅能够获得充分的脱气性，在使用基材透明的粘合膜时，能够在粘贴后特别不易观察到凹凸结构。此外，如果前述凹凸结构的凹凸的最大高低差为15～40μm，则不仅具有优异的脱气性，在使用基材哑光或不透明的粘合膜时，能够在粘贴后不易观察到凹凸结构。

需要说明的是，凹凸的最大高低差可通过例如调整形成凹凸层时的涂布厚度来调整。但不限定于此。

此外，凹凸的最大高低差可以以凹部的极小值与该凹部周边的极大值之差、或者凸部的极大值与该凸部周边的极小值之差中的最大值来求出。

针对用于形成这种凹凸的最大高低差的具体方法，如后所述。

<形成凹凸层的材料>

本脱模膜中的凹凸层不限定形成的材料。

凹凸层优选含有两种以上的聚合物、低聚物或单体(将它们统称为“聚合物等”)，优选由含有两种以上的聚合物等的涂覆组合物形成。

此时，如后所述，优选为利用不同聚合物等之间的相分离性来形成凹凸层的方式。即，凹凸层优选两种以上的聚合物等形成了相分离结构。

需要说明的是，在本发明中，聚合物设为包括固化性树脂组合物的固化物在内的概念。此外，单体的概念包括作为聚合或交联反应的原料或固化性树脂组合物的原料的单体在内。

在前述凹凸结构中，可列举出形成凹部的组成与形成凸部的组成互不相同的例子。例如，在形成凹部的成分之中占据更多比例的成分为成分A，且形成凸部的成分之中占据更多比例的成分为成分B时，可列举出成分A与成分B不同的例子。

(成分A)

形成凹部的成分之中含量最多的成分A与成分B不相容，从在涂布后主要形成凹凸形状的凹部的观点出发，溶解性参数(SP(A))优选为8～21，其中进一步优选为10以上或20以下、其中进一步优选为12以上或19以下。

此外，从制成用于使涂布液的涂布性良好的粘度的观点出发，优选成分A的质均分子量(Mw)为300～300000的聚合物等，其中进一步优选为2000以上或200000以下、其中进一步优选为5000以上或100000以下。

作为上述成分A，可列举出例如聚(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸系聚合物类、聚酯类、聚氨基甲酸酯类、聚烯烃类、聚醚类、聚苯乙烯类、聚碳酸酯类、聚丙烯腈类、聚酰胺类、聚酰亚胺类等，其中，从容易调整分子量或SP值、容易控制凹凸形状的观点出发，优选为聚(甲基)丙烯酸酯类。这些成分A可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

例如，成分A为丙烯酸系聚合物等时，为了进一步提高其SP值，只要以例如在丙烯酸系聚合物的树脂的侧链包含大量极性高的官能团的方式进行设计即可，更具体而言，可列举出例如包含具有羟基的(甲基)丙烯酸羟基酯、具有羧基的(甲基)丙烯酸、具有缩水甘油基的(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等结构单元的均聚物或共聚物。

(成分B)

另一方面，形成凸部的成分之中含量最多的成分B与成分A不相容，从在涂布后主要形成凹凸形状的凸部的观点出发，成分B的溶解性参数(SP(B))优选为7～20，其中进一步优选为8以上或18以下、其中进一步优选为9以上或17以下。

成分B的溶解性参数(SP(B))优选比成分A的溶解性参数(SP(A))低0.01～10，其中优选低0.05以上或低7以下的范围，其中优选低0.1以上或低4以下的范围。

需要说明的是，本脱模膜利用不同的聚合物等之间的相分离性来形成凹凸结构时，成分B的溶解性参数(SP(B))可以比成分A的溶解性参数(SP(A))高0.01～10。

在凹凸层由3种以上的聚合物形成，且成分A、成分B之中的至少任一者由2种以上的聚合物形成的情况下，只要其中的任意组合具有上述关系性即可。针对下述质均分子量也相同。

此外，从制成用于使涂布液的涂布性良好的粘度的观点出发，成分B的质均分子量(Mw)优选为500～400000，其中进一步优选为2000以上或300000以下、其中进一步优选为10000以上或250000以下。

成分B的质均分子量(Mw)进一步优选比前述成分A的质均分子量(Mw)大1000以上。

关于主要形成凸部的成分B，从可充分耐受形成凹凸结构时的干燥温度、保持形状的观点出发，成分B的玻璃化转变温度优选为40℃以上，其中进一步优选为50℃以上、其中进一步优选为60℃以上。

作为成分B，可列举出例如聚(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸系聚合物类、聚酯类、聚氨基甲酸酯类、聚烯烃类、聚醚类、聚苯乙烯类、聚碳酸酯类、聚丙烯腈类、聚酰胺类、聚酰亚胺类等，其中，从容易调整分子量或SP值、容易控制凹凸形状的观点出发，优选为聚(甲基)丙烯酸酯类。这些成分B可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

例如，成分B为丙烯酸系聚合物等时，为了进一步降低其SP值，例如，在丙烯酸系聚合物中，作为含有1个以上(甲基)丙烯酰基的单体和/或低聚物，选择SP值低的物质即可。具体而言，可列举出例如包含具有脂肪族烃基的(甲基)丙烯酸烷基酯、具有脂环族烃基的(甲基)丙烯酸环烷基酯、具有芳香族烃基的(甲基)丙烯酸苯基烷基酯等结构单元的均聚物或共聚物。

需要说明的是，上述溶解性参数(SP值)是Solubility Parameter，成为溶解性的尺度。溶解性参数的值越大则表示极性越高，反之，数值越小则表示极性越低。

SP值可通过浊度法、Fedors推算法等方法来测定。

在前述凹凸层中，为了维持形状，从提高耐热性和耐溶剂性的观点出发，优选凹部和凸部中的任一者、其中尤其是凸部进行了交联，即具有交联结构。

是否进行了交联优选通过测定各部位的凝胶分数，并确认该值大于0％、特别是5％以上、尤其是10％以上来判断。

此时，前述两种以上的聚合物等之中的至少任一者优选为具有交联性结构的热塑性树脂或固化性树脂组合物、或者包含具有交联性结构的热塑性树脂的固化性树脂组合物。在这些情况下，通过将前述凹凸层进行交联和/或固化，从而使前述凹凸层含有固化物，能够提高耐热性和耐溶剂性。

此处，前述固化物是指：具有交联性结构的上述热塑性树脂或固化性树脂组合物发生固化而得到的固化物。

需要说明的是，交联性结构是指：具有交联性质的结构，交联结构是指进行交联而成的结构。

向热塑性树脂中导入交联性结构的方法没有限定。可列举出例如向成分A、成分B或其它热塑性树脂中导入交联性结构的方法。

此时，交联性结构没有限定。可列举出例如碳-碳双键之类的交联性不饱和键；能够化学键合的官能团、例如羟基、羧基、氨基、异氰酸酯基、缩水甘油基、噁唑啉基、酸酐基、醛基、巯基、环氧基、碳二亚胺基等。它们中例示的交联性结构可通过共聚、高分子反应而向成分A、成分B或其它热塑性树脂中导入。

需要说明的是，此处提及的交联结构不限定于共价键，还包括离子键、配位键、氢键之类的伪交联。

作为固化性树脂组合物，可列举出例如二组分性固化树脂组合物、常温固化树脂组合物、光固化树脂组合物或热固化树脂组合物等，其中，优选为通过施加光能或热能而使组合物发生反应而固化(交联)的光固化树脂组合物或热固化树脂组合物。

固化性树脂组合物的固化物可以构成成分A或成分B自身，作为形成凹凸层的除成分A、成分B之外的其它成分，也可以使用固化性树脂组合物。成分A或成分B自身为固化性树脂组合物时，通过将构成这些成分的单体用作凹凸层的原料，并通过固化反应制成成分A或成分B来形成凹凸结构。

光或热固化树脂组合物可列举出例如含有光交联性化合物、光交联引发剂的光固化性组合物、热固化性树脂组合物等。

作为光交联性化合物，可列举出具有交联性不饱和键的化合物，具体而言，可列举出具有烯属不饱和键的单体或低聚物。

作为光交联引发剂，在应用例如紫外线照射作为活性能量射线的情况下，可以使用苯偶姻系、苯乙酮系、噻吨酮系、氧化膦系和过氧化物系等的光交联性引发剂。

作为热固化性树脂，可列举出例如氨基甲酸酯树脂、脲树脂、三聚氰胺树脂和丙烯酸类树脂、透明聚酰亚胺前体清漆等。

综上所述，作为形成两种以上的聚合物赋予的凹凸层的形成方法，分类成例如以下那样的形成例。但不限定于这些组合。此外，下述记载不排除含有除了成分A、成分B之外的附加性的任意成分。

(a)由两种以上的热塑性聚合物形成凹凸层。

(b)通过以两种以上的热塑性聚合物和交联剂作为原料，并使交联剂发生固化来形成凹凸层。

(c)通过在两种以上的热塑性聚合物之中的至少1种以上的热塑性聚合物中具有交联性结构，并使该交联性结构发生交联来形成凹凸层。

(d)通过在两种以上的热塑性聚合物之中的至少1种以上的热塑性聚合物中具有交联性结构，进而对于含有交联剂的原料，在该交联性结构与交联剂之间发生交联和固化来形成凹凸层。

(e)通过以1种以上的热塑性聚合物、聚合性单体和交联剂作为原料，并使聚合性单体与交联剂进行聚合/固化来形成凹凸层。

(f)通过在至少1种以上的聚合物中具有交联性结构，进而对于含有聚合性单体和交联剂的原料，在该交联性结构、聚合性单体和交联剂之间进行聚合/交联和固化来形成凹凸层。

(g)组合使用上述(a)～(f)之中的至少2种以上。

(剥离成分)

前述凹凸层可以包含具有剥离性的剥离成分。

形成前述凹凸结构的聚合物等具有剥离性时，该聚合物等成为剥离成分。此外，作为添加剂而添加具有剥离性的成分时，该添加剂成为剥离成分。

作为具有剥离性的成分，具体而言，可列举出例如有机硅系化合物、以及氟化合物、烯烃化合物、含有长链烷基的化合物等化合物。它们可以是聚合物等，也可以是低分子量化合物，优选为含有这些之中的一种或两种以上的层。

前述凹凸层中的剥离成分的含量优选为0.5质量％～90质量％，其中优选为1.0质量％以上或85质量％以下、其中优选为2.0质量％以上或80质量％以下。

(其它成分)

凹凸层可根据需要而含有除了上述成分A、B和脱模成分之外的成分。具体而言，可列举出抗静电剂、消泡剂、涂布性改良剂、增稠剂、有机系润滑剂、有机颗粒、无机颗粒、抗氧化剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、遮光剂、发泡剂、着色剂等。

<剥离层>

可以在前述凹凸层的表面进一步层叠剥离层来提高剥离性。该剥离层被定义为前述功能层的一个方式。

其中，不一定需要在凹凸层的外侧表面具备剥离层。例如，前述凹凸层包含前述剥离成分时等，如果剥离性充分，则不需要进一步具备该剥离层。另一方面，即使前述凹凸层包含前述剥离成分，如果剥离性不充分，则可以在该凹凸层的表面进一步层叠剥离层。

此外，通过在剥离层中含有抗静电剂，能够兼作抗静电层。

剥离层中，除了含有例如有机硅树脂系剥离剂之外，优选还含有醇酸树脂系、烯烃树脂系、丙烯酸系、含有长链烷基的化合物系、橡胶系等非有机硅树脂系等剥离剂之中的一种或两种以上。

此外，前述各剥离剂可进一步含有固化剂、催化剂等其它成分。

剥离层的厚度没有特别限定。例如，优选为25nm～1000nm，其中进一步优选设为40nm以上或500nm以下。

通过将剥离层的厚度设为前述范围，能够充分发挥出作为剥离面的功能，且能够维持凹凸形状。

作为前述有机硅树脂系剥离剂，有溶剂型和无溶剂型的剥离剂。对于溶剂型有机硅树脂，由于能进行溶剂稀释而制成涂布液，因此可以广泛地使用高分子量(即高粘度)的聚合物～低粘度的低分子量聚合物(低聚物)。因此，与无溶剂型相比，容易控制剥离性，容易根据所要求的性能(品质)来进行设计。

此外，作为有机硅树脂系剥离剂，有加成反应型、缩合反应型、紫外线固化型、电子射线固化型等的剥离剂。

其中的加成反应型有机硅树脂的反应性高、生产率优异，与缩合反应型相比时，存在制造后的剥离力的变化小、无固化收缩等优点，因此，优选用于形成剥离层的剥离剂。

作为前述加成反应型有机硅树脂，没有特别限定，可以使用各种树脂。例如，可以使用作为以往的热固化加成反应型有机硅树脂剥离剂而惯用的树脂。作为该加成反应型有机硅树脂，例如，作为容易热固化的加成反应型有机硅树脂可列举出在分子中具有乙烯基等烯基、氢硅烷基等吸电子性基团作为官能团的树脂，可以使用将具有这种官能团的聚二甲基硅氧烷、聚二甲基硅氧烷的一部分或全部甲基置换成苯基等芳香族官能团而得到的树脂等。

有机硅树脂系剥离剂可根据需要而添加二氧化硅、有机硅树脂、抗静电剂、染料、颜料等其它添加剂。

作为前述烯烃树脂系剥离剂，可以使用结晶性烯烃系树脂。作为该结晶性烯烃系树脂，适合为聚乙烯、结晶性聚丙烯系树脂等。作为聚乙烯，可列举出高密度聚乙烯、低密度聚乙烯、直链状低密度聚乙烯等。作为结晶性聚丙烯系树脂，可列举出具有全同立构结构或间同立构结构的丙烯均聚物、丙烯-α-烯烃共聚物等。这些结晶性烯烃系树脂可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

作为前述丙烯酸系剥离剂，通常可以使用具有交联结构的丙烯酸系树脂。丙烯酸系树脂可以为长链烷基改性丙烯酸类树脂、有机硅改性丙烯酸类树脂等改性物。

作为前述含有长链烷基的化合物系剥离剂，可以使用例如使聚乙烯醇系聚合物与碳原子数为8～30的长链烷基异氰酸酯发生反应而得到的聚乙烯基氨基甲酸酯、使聚乙烯亚胺与碳原子数为8～30的长链烷基异氰酸酯发生反应而得到的烷基脲衍生物等。

作为前述橡胶系剥离剂，可以使用例如天然橡胶系树脂和丁二烯橡胶、异戊二烯橡胶、苯乙烯-丁二烯橡胶、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯橡胶、丙烯腈-丁二烯橡胶等合成橡胶系树脂等。

<本脱模膜的层叠构成>

作为本脱模膜的层叠构成，可列举出例如基材/凹凸层、基材/凹凸层/剥离层、功能层/基材/凹凸层、基材/功能层/凹凸层、功能层/基材/功能层/凹凸层、功能层/基材/凹凸层/剥离层、基材/功能层/凹凸层/剥离层、功能层/基材/功能层/凹凸层/剥离层等层叠构成。但不限定于这些层叠构成，也可以适当追加层叠其它层。

在前述层叠构成中，也可以制成基材、凹凸层、功能层和剥离层之中的任一个或两个以上的层含有抗静电剂的层叠构成。此外，在前述层叠构成中，也可以在基材、凹凸层、功能层和剥离层之外进一步层叠含有抗静电剂的抗静电层。但不限定于这些层叠构成，也可以适当追加层叠其它层。

从既确保本脱模膜的凹凸结构或剥离性又赋予抗静电性的观点出发，优选使设置于基材表面的功能层含有抗静电剂的层叠构成、或者在基材表面设置抗静电层的层叠构成。

<本脱模膜的制作方法>

本脱模膜可例如如下操作来制作。但不限定于以下的制作方法。

本脱模膜可通过对基材设置凹凸层来制作。此时，设置凹凸层的方法没有限定。可列举出例如通过如下方法等方式：物理性的切削加工、基于激光照射等的切削、基于模具的转印等方法；利用抗蚀材料等所使用的光掩模、印刷、不同聚合物等之间的相分离性来形成凹凸层的方法。其中，优选为利用不同聚合物等之间的相分离性来形成凹凸层的方法。

如果利用不同聚合物等之间的相分离性，则基于数μm～数mm数量级的相分离结构而形成凹凸结构，因此，转印有该凹凸结构的粘合膜具有良好的粘合性，且能够在粘贴后不易观察到凹凸结构。此外，如果利用不同聚合物等之间的相分离性，则根据所使用的聚合物等的选择、配混比例的最佳化等，能够控制凹凸结构的凸部形状的不规则性、连续性、凸部的面积比例、凹凸结构的最大高低差等，因此，作为用于实现本发明的具体手段之一是优选的。

利用不同聚合物等之间的相分离性来形成凹凸层时，只要使用两种以上的聚合物等，其具体方法就没有限定。具体而言，可列举出以下的(1)～(5)等方式。此外，也可以将这些方法组合多种。

(1)使用2种以上的热塑性树脂(聚合物)，根据需要添加抗静电剂，在从溶解于溶剂中的状态馏去溶剂的过程中发生相分离，或者在从熔融状态进行冷却固化的过程中发生相分离，由此形成凹凸结构的方法。

(2)预先将热塑性树脂、固化性树脂组合物和根据需要的抗静电剂进行配混，在固化性树脂组合物的固化过程中排除热塑性聚合物，由此使其相分离，形成凹凸结构的方法。

(3)根据需要而添加抗静电剂，预先配混固化性树脂组合物，在固化性树脂组合物的固化过程中，形成高分子量体的固化性树脂组合物以从未反应的固化性树脂组合物被逐出的方式形成突起，由此形成凹凸结构的方法。

(4)在上述(1)中，将至少1种热塑性树脂预先制成能够交联的结构，在基于相分离而形成凹凸结构后，进行交联反应，将凹凸结构进行固定化的方法。

(5)在上述(1)中，预先将2种以上的热塑性树脂与固化性树脂组合物进行混合，通过热塑性树脂的相分离而形成凹凸结构后，使固化性树脂组合物固化，由此将凹凸结构固定化的方法。

此外，使用在从溶解于溶剂中的状态馏去溶剂的过程中发生相分离的方法时，如下所示，优选为混合使用2种以上的溶剂且利用聚合物等的溶解性之差来形成凹凸结构的方法。如果采用该方法，则仅通过选择特定的聚合物等和特定的溶剂而能够形成目标的凹凸结构。因此，能够简便地实现本发明的目的而不使用切削加工装置、模具等。

以下，以上述的各种方式之中的方式(5)为例，针对使用了光固化性树脂组合物的情况进行具体说明。

将前述成分A、前述成分B和根据需要的交联引发剂C的混合树脂添加至特定的混合溶剂Z中，例如，添加至对于成分A、成分B和交联引发剂C为良溶剂的溶剂X与对于成分A和交联引发剂C为良溶剂(即对于它们为共溶剂)且对于成分B为不良溶剂、且沸点比溶剂X高的溶剂Y的混合溶剂Z中，进行溶解而制备固化性涂覆组合物，将该固化性涂覆组合物涂布至基材的表面。在将混合溶剂Z干燥的过程中，相对而言，溶剂X快速挥发，溶剂Y所占的比例增加，因此，使难以溶解于溶剂Y中的成分B析出而形成凸部。进而，通过干燥而利用成分A形成凹部，从而形成凹凸结构。或者，进一步进行例如光照射等而使交联引发剂C激发来使其固化，从而形成前述凹凸结构即可。

根据这种制作方法，能够形成具备由不规则形状构成的凸部的凹凸结构，而且，通过成分A、成分B、交联引发剂C、溶剂X和Y的材料的选择、配混量的调整，能够控制凹凸的大小。

但不限定于这种制造方法。

上述交联引发剂C并不是必须配混。此外，上述混合溶剂Z优选将溶剂X和溶剂Y混合。但未必需要均匀混合，可以是悬浮液。

可推测：在上述制作方法中，作为形成凹凸层的原理，在涂布上述固化性涂覆组合物后进行干燥的过程中，随着混合溶剂Z的减少，溶剂中的环境逐渐变化，相容性差的成分A与成分B发生相分离，溶解于两种溶剂中的成分溶解在溶剂中，直至进展至进一步干燥为止，因此，难以溶解于一种溶剂Y中的成分B发生析出而主要形成凸部，溶解于两种溶剂的成分A主要形成凹部，从而自发地形成凹凸结构。

成分A与成分B优选不相容。

从所述观点出发，成为凸部的主要成分的成分B的SP值优选比成分A的SP值低0.01～10，其中优选低0.05以上或低7以下的范围，其中优选低0.1以上或低4以下的范围。

(成分A、B)

如上所述，形成凹部的成分之中含量最多的成分A优选为具有特定的质均分子量(Mw)、特定的SP值的聚合物等。

另一方面，如上所述，形成凸部的成分之中含量最多的成分B优选为具有特定的质均分子量(Mw)、特定的SP值的聚合物等。

例如，通过增加形成凸部的主要成分的成分B的配混量，或者增大成分B的分子量，能够增大前述凹凸结构中的凸部面积或变更凸部的形状。此外，通过控制该成分B的结晶性，能够调整凸部的极大值、即凹凸的最大高低差。但不限定于这种方法。

成分A与成分B的配混质量比例优选设为1：99～99：1，其中优选为5：95～95：5、其中优选为90：10～10：90。

需要说明的是，成分A或成分B包含2种以上的成分时，分别设为将2种以上的成分总计而得到的质量比例。

作为用于将凹凸结构中的凸部的面积比例设为前述范围的控制因子之一，可列举出使成分A与成分B的配混质量比例最佳化的方法。需要说明的是，凸部、凹部不限定于分别仅由成分B、成分A构成，因此，上述配混质量比例与凸部的面积比例的含义不同。

(交联引发剂C)

作为交联引发剂C，可列举出光交联引发剂、热交联引发剂等。其中，从保持在干燥工序中形成的凹凸形状的观点出发，优选为具有速固化性的固化系，从所述观点出发，优选为光交联引发剂。

作为光交联引发剂，可列举出例如2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮、1-羟基-环己基-苯基-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1等。这些交联引发剂可以单独使用1种，也可以混合使用2种以上。其中，优选为发生紫外线固化的多官能丙烯酸酯。

交联引发剂的配混量相对于成分A和B的总量100质量份优选设为0.01～20质量份，其中更优选设为0.1质量份以上或10质量份以下、其中更优选设为1质量份以上。

(溶剂X)

上述溶剂X对于成分A、成分B和交联引发剂C为良溶剂是优选的。即，优选为能够将成分A、成分B和交联引发剂C全部溶解的溶剂。

溶剂X的沸点优选为50℃～200℃，其中优选为60℃以上或140℃以下、其中优选为70℃以上或120℃以下。

作为溶剂X，可列举出例如丙酮、甲乙酮、甲丙酮、甲基异丁基酮、二异丁基酮、环己酮、二丙酮醇等酮系溶剂；戊醇、己醇、庚醇、辛醇等醇系溶剂；乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯等醚系溶剂；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸甲氧基丁酯、乙酸戊酯、乙酸丙酯、乳酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸丁酯等酯系溶剂；甲苯、二甲苯、溶剂石脑油、己烷、环己烷、乙基环己烷、甲基环己烷、庚烷、辛烷、癸烷等烃系溶剂等有机溶剂。这些有机溶剂可以仅使用1种，也可以组合使用2种以上。

(溶剂Y)

另一种溶剂Y优选对于成分A和交联引发剂C为良溶剂，且对于成分B为不良溶剂。即，优选为能够溶解成分A和交联引发剂C，且相对于成分B的溶解性低的溶剂。此时，成分B的溶解性低包括对于成分B而言分类成不溶性(insolble)或溶胀(swelling)的情况。

溶剂Y的沸点优选为51℃～201℃，其中优选为61℃以上或141℃以下、其中优选为71℃以上或121℃以下。

其中，从能够使溶剂X比溶剂Y先挥发的观点出发，溶剂Y的沸点优选高于溶剂X的沸点，其中优选高1～80℃、其中进一步优选高2℃以上、其中进一步优选高5℃以上。

通过溶剂Y使用与溶剂X相比沸点高的溶剂，由此溶剂X比溶剂Y先挥发，难溶于溶剂Y的成分B析出而主要容易形成凸部。

需要说明的是，可根据沸点之差来选择所使用的前述溶剂X和溶剂Y。其中，也可以根据其它特性的差异来进行选择。作为具体特性，可列举出相对蒸发速度、在特定温度和压力下的蒸气压、成分A或成分B的亲和性。

例如，从相同的观点、即能够使溶剂X比溶剂Y先挥发的观点出发，溶剂X的相对蒸发速度优选高于溶剂Y的相对蒸发速度。其中，溶剂X的相对蒸发速度优选为1以上或者乙酸丁酯的相对蒸发速度以上，且溶剂Y的相对蒸发速度优选小于1或者小于乙酸丁酯的相对蒸发速度。

此时，“相对蒸发速度”被定义为将25℃、大气压下的乙酸丁酯的蒸发速度设为1时的相对蒸发速度。例如，作为各种溶剂的相对蒸发速度，乙酸丁酯：1、MEK：4.52、环己烷：2.9、甲苯：2.66、甲氧基丙醇：0.71、正丁醇：0.39。

作为溶剂Y，可列举出例如甲醇、乙醇、丁醇、异丁醇、丙醇等醇系溶剂；丙酮、甲乙酮、甲丙酮、甲基异丁基酮、二异丁基酮、环己酮二丙酮醇等酮系溶剂；正丙醇二乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚等醚系溶剂；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸甲氧基丁酯、乙酸戊酯、乙酸丙酯、乳酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸丁酯等酯系溶剂；甲苯、二甲苯、溶剂石脑油、己烷、环己烷、乙基环己烷、甲基环己烷、庚烷、辛烷、癸烷等烃系溶剂；水。这些溶剂可以仅使用1种，也可以组合使用2种以上。

(混合溶剂Z)

混合溶剂Z优选以0.1：99.9～99.9：0.1的质量比例配混溶剂X和溶剂Y，其中进一步优选以1：99～99：1、其中以10：90～90：10、其中以15：85～85：15、其中以80：20～20：80的质量比例来含有。需要说明的是，溶剂X或溶剂Y包含2种以上的溶剂时，分别设为2种以上的溶剂的总计质量比例。

形成凹凸层时使用的抗静电剂可以使用前述抗静电剂。

(固化性涂覆组合物的涂布)

作为将上述固化性涂覆组合物涂布于基材表面的方法，可以采用例如辊舐涂布机、液滴涂布机、棒涂机、迈尔棒涂机、模涂机、凹版涂布机等公知惯用的方法。

(干燥)

为了在涂布后使溶剂X比溶剂Y优先挥发，从与溶剂X、Y的沸点的关系出发，涂布后的干燥温度优选设定为10℃～150℃，其中更优选设定为20℃以上或140℃以下，其中进一步优选设定为40℃以上或125℃以下。需要说明的是，可以在常温下使其干燥。

通过调整加热(干燥)温度，能够调整凹凸的最大高低差，存在干燥温度越低则凹凸的最大高低差变得越大的倾向。一般而言，在沸点以下的温度下溶剂具有挥发性，此外，挥发特性不仅因沸点发生变化，还因蒸气压特性、与聚合物等的亲和性等而发生变化。因此，根据凹凸层所使用的聚合物等的种类、配混质量比例、凹凸结构的目标形状等来设定干燥温度即可。

<本脱模膜的形态>

作为本脱模膜的形态，可任意采用现有公知的形态。其中，若考虑到能够实现本脱模膜的特征、例如粘贴粘合膜时的脱气性良好且在粘合后不易观察到该凹凸结构，则优选为具有大面积的形态。若从这一点出发，则优选的一个例子是：膜或卷体的例如长度为0.1m以上、其中为1m以上、其中为10m以上的卷体；或者、宽度为0.1m以上、其中为0.2m以上、其中为0.3m以上的卷体；或者、面积为0.01m²以上、其中为0.1m²以上、其中为1m²以上的膜。

<本脱模膜的表面电阻值>

本脱模膜通过含有抗静电剂而能够将膜表面的电阻值设为5.0×10¹²Ω以下、其中设为1.0×10⁴Ω以上或1.0×10¹²Ω以下、其中设为1.0×10⁴Ω以上或1.0×10¹¹Ω以下。

<本脱模膜的用途>

本脱模膜通过在具备前述凹凸结构的凹凸层上以能够剥离的方式层叠例如粘合膜，从而能够向该粘合膜转印前述凹凸结构。

并且，这样地转印有凹凸结构的粘合膜在粘贴至被粘物时，能够使脱气性良好，能够在粘合后不易观察到该凹凸结构。

本脱模膜也可以以具备与粘合膜层叠而成的构成的层叠体的形式来提供。该层叠体可以具备向前述粘合膜的表面转印本脱模膜的前述凹凸结构而成的构成。通过制成这种层叠体直至使用具有凹凸结构的粘合膜的期间，本脱模膜能够具有保护粘合膜的作用。

本脱模膜可以透明，也可以不透明(包含着色)。在制成粘合膜透明那样的层叠体来使用的情况下，脱模膜还优选不透明。若粘合膜透明且脱模膜不透明，则能够观察到两膜的差异，故而优选。

前述粘合膜只要具备粘合剂层，则其构成就是任意的。

例如，作为前述粘合膜，可列举出在片基材上具备粘合剂层的粘合膜。此时，作为构成粘合剂层的粘合剂，可列举出例如丙烯酸系粘合剂、橡胶系粘合剂、有机硅系粘合剂、聚酯系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、聚烯烃系粘合剂等。但不限定于它们。

前述粘合膜的厚度没有限定，可根据用途来适当选择。前述粘合膜的厚度下限优选超过本脱模膜的凹凸结构的最大高低差。粘合膜的厚度下限更优选为1μm以上、进一步优选为5μm以上、特别优选为10μm以上。另一方面，粘合膜的厚度上限也没有限定。优选为3mm以下、更优选为2mm以下、进一步优选为1mm以下、特别优选为500μm以下。

构成前述粘合膜的片基材可以透明，也可以哑光，还可以不透明。需要说明的是，若片基材透明，则粘合膜的外观变得更显眼。因此，为了不易观察到凹凸结构，优选将凹凸的最大高低差最佳化。片基材为哑光、不透明的基材时，与透明的片基材相比，更不易发生由凹凸结构引起的外观不良。

<本层叠体>

接着，针对本发明的实施方式的一个例子的层叠体(“本层叠体”)进行说明。

本层叠体具备：支撑体(称为“本支撑体”)、包含粘合层(称为“本粘合层”)的粘合片(称为“本粘合片”)和脱模膜依次层叠而成的构成。

前述脱模膜优选在基材的至少一个表面侧具备凹凸层，所述凹凸层在表面具有凹凸结构，且该凹凸结构具备在俯视时该凹凸结构的凸部形成不规则且连续的形状而成的构成，其中优选为上述的本脱模膜。

本层叠体可以通过如下方式制造：在该脱模膜的前述凹凸层的表面(称为“凹凸层表面”)上层叠本粘合层，从而向与该脱模膜层叠的本粘合片的一个表面转印前述凹凸结构，且通过在本粘合片的另一个表面上层叠本支撑体，从而能够制造(将该制造方法称为“本层叠体制造方法”)。但是，本层叠体的制造方法不限定于本层叠体制造方法。

(本支撑体)

本支撑体只要能够应用本发明的制造方法，就不限定于薄片状的支撑体、柔软的原材料，可以为注射成型体、结构材料等立体形状，也可以为刚性高的材料。在本层叠体中，即使在使用刚性高的材料作为支撑体的情况下，剥离上述脱模膜后的粘合片表面的脱气性也非常良好，因此可适合地使用。

另一方面，本支撑体可以为能够最小限度地覆盖粘合片那样的极薄层，例如通过蒸镀、涂布而形成的薄层。

这些之中，作为本支撑体，优选为薄板状、膜状的支撑体，适合为纸、各种树脂膜、将纸基材用树脂层压而得到的支撑体、玻璃板、金属箔、将金属箔用树脂层压而得到的支撑体等。

此外，通过使用脱模膜作为本支撑体，也能够制成在粘合片的两面具有脱模膜的两面粘合片。此时，只要至少一个脱模膜为前述的本脱模膜，则另一个脱模膜是任意的。

作为本支撑体，只要是用于容易形成粘合片或容易处理的构件即可，因此材料没有限定。可以使用例如纸、各种树脂膜、树脂板、树脂成型体(注射成型品)、将纸基材用树脂层压而得到的支撑体、玻璃、金属箔、金属板、将金属箔用树脂层压而得到的支撑体、陶瓷等，还包括它们的复合体、层叠体。但不限定于它们。

作为上述纸支撑体，可列举出例如薄页纸、中质纸、优质纸、浸渗纸、涂布纸、铜板纸、硫酸纸、玻璃纸等。

作为上述树脂膜，可列举出例如以聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯等聚烯烃；聚碳酸酯、聚乙酸乙烯酯、聚砜、聚醚醚酮、聚醚砜、聚苯硫醚、聚醚酰亚胺、聚酰亚胺、聚酰胺、氟树脂、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚氨基甲酸酯、丙烯酸类树脂等各种树脂作为主要成分树脂的树脂膜。树脂膜可以为未拉伸膜(片)，也可以为拉伸膜。其中，优选为拉伸膜，更优选为双轴拉伸膜。

作为将上述纸支撑体用树脂层压而得到的支撑体，可列举出例如将上述纸支撑体用聚乙烯等热塑性树脂层压而得到的层压纸等。

此外，作为包含上述金属箔的支撑体，可列举出铝箔等。

这些之中，从在切断时不产生纸粉，且在转印凹凸结构的粘合片等上也不发生纸粉附着的方面出发，优选为上述树脂膜，从加工容易度、耐久性、耐热性、成本等的观点出发，更优选为以聚酯作为主要成分树脂的树脂膜，尤其是，进一步优选为以聚对苯二甲酸乙二醇酯作为主要成分树脂的树脂膜。

此处，“主要成分树脂”是指构成支撑体的树脂之中含量最多的树脂，具体而言，是指占据50质量％以上、其中为70质量％以上、其中为80质量％以上、其中为90质量％以上(包括100质量％)的树脂。

本支撑体为膜状时，可以为单层构成，也可以为以相同种类或不同种类树脂作为主要成分的2层以上的多层构成。

本支撑体的厚度是任意的。一般而言，优选为5μm～500μm，其中进一步优选为10μm以上或300μm以下、其中进一步优选为15μm以上或200μm以下。

在使用树脂膜作为本支撑体时，以赋予易滑动性作为主要目的，也可以含有颗粒。

本支撑体所含有的颗粒种类只要是能够赋予易滑动性的颗粒，就没有特别限定。例如，除了二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、碳酸钡、硫酸钙、磷酸钙、磷酸镁、高岭土、氧化铝、氧化钛等无机颗粒之外，还可列举出丙烯酸类树脂、苯乙烯树脂、脲树脂、酚醛树脂、环氧树脂、苯并胍胺树脂等有机颗粒等。

关于该颗粒的形状，也没有特别限定。可以为例如球状、块状、棒状、扁平状等中的任意者。

此外，该颗粒的硬度、比重、颜色等也没有特别限定。这一系列的颗粒可根据需要而组合使用两种以上。

上述颗粒的平均粒径优选为5μm以下，其中进一步优选为0.1μm以上或3μm以下。如果上述颗粒的平均粒径为该范围，则能够对本支撑体赋予适度的表面粗糙度，能够赋予良好的顺滑性和平滑性。

此外，除了含有上述颗粒之外，本支撑体中也可根据需要含有现有公知的抗氧化剂、热稳定剂、润滑剂、紫外线吸收剂、抗静电剂、软化剂、结晶成核剂、染料、颜料等。

(本粘合片或本层叠体的制造方法)

作为本粘合片或本层叠体的制造方法，可列举出如下方法：

(1)在上述脱模膜的凹凸层表面涂布粘合剂组合物并粘贴本支撑体，从而在上述脱模膜的凹凸层表面层叠包含本粘合层的本粘合片的方法(称为“向脱模膜涂布的方法”)；

(2)在本支撑体的表面涂布粘合剂组合物，以由该粘合剂组合物形成的粘合层的涂布面接触上述脱模膜的凹凸层表面的方式、粘贴并层叠上述脱模膜的方法(称为“向支撑体涂布的方法”)；

(3)在本支撑体与上述脱模膜之间，以前述脱模膜的凹凸层表面接触本粘合片的方式、层压本粘合片的方法(层压方法)等。但不限定于这些方法。

通过连续生产本层叠体，并将其卷绕成卷状，能够得到包含卷状层叠体的卷绕体(称为“本卷绕体”)。

即，本卷绕体可以制成具备经本支撑体、包含粘合层的本粘合片和上述脱模膜依次层叠而成的构成的卷状层叠体，

通过在前述凹凸层的表面层叠粘合层，从而向与该脱模膜层叠的粘合层的一个表面转印前述凹凸结构，且向该粘合片的另一个表面层叠支撑体。

根据上述那样的本层叠体的制造方法，采用了预先对脱模膜设置凹凸结构，且将该凹凸结构转印至粘合片的方法，因此，即使在利用上述那样的任意方法来形成层叠体的情况下，也能够对粘合片可靠地形成凹凸结构。因此，转印至粘合层的凹凸结构即使在层叠体的状态下长期保管，也能够维持形状而不发生变形。

(1)向脱模膜涂布的方法

首先，针对在上述脱模膜的凹凸层表面涂布粘合剂组合物并粘贴本支撑体而在上述脱模膜的凹凸层表面层叠本粘合片的方法进行说明。

作为上述粘合剂组合物，可列举出例如含有丙烯酸系粘合剂、橡胶系粘合剂、有机硅系粘合剂、聚酯系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、聚烯烃系粘合剂等的组合物。但不限定于它们。

此外，上述粘合剂组合物可以为能够光交联的粘合剂组合物。作为代表例，可例示出以下的(a)～(d)。但不限定于它们。

(a)使用(甲基)丙烯酸酯系聚合物(包括共聚物)作为基础树脂，并向其中配混交联单体、根据需要的交联引发剂、反应催化剂等而成的粘合剂组合物。

(b)使用丁二烯或异戊二烯系共聚物作为基础树脂，并向其中配混交联单体、根据需要的交联引发剂、反应催化剂等而成的粘合剂组合物。

(c)使用有机硅系聚合物作为基础树脂，并向其中配混交联单体、根据需要的交联引发剂、反应催化剂等而成的粘合剂组合物。

(d)使用聚氨基甲酸酯系聚合物作为基础树脂的聚氨基甲酸酯系粘合剂组合物。

作为在上述脱模膜的凹凸层表面涂布上述粘合剂组合物的方法，可以采用例如使用了辊舐涂布机、液滴涂布机、棒涂机、迈尔棒涂机、模涂机、凹版涂布机等公知器具的惯用方法。

如上所述，通过将粘合剂组合物涂布成片状并粘贴本支撑体后，使粘合剂组合物固化，由此能够在上述脱模膜的凹凸层表面层叠包含本粘合层和本支撑体的本粘合片。

作为将粘合剂组合物固化的方法，可根据粘合剂组合物的组成进行固化，例如使其干燥或使其加热交联或使其光交联即可。即，只要上述粘合剂组合物具有加热交联性，则加热至激发其加热交联性的温度为止即可。此外，上述粘合剂组合物含有光交联引发剂时，只要照射该光交联引发剂发生激发的波长的光即可。

此外，也可以在将粘合剂组合物形成为片状后，施加压力而将本粘合片按压至上述脱模膜的凹凸层表面。

本粘合片的厚度没有特别限定，优选根据用途来适当选择。其中，本粘合片的厚度下限优选超过上述脱模膜的凹凸结构的最大高低差。另一方面，本粘合片的厚度下限更优选为1μm以上、进一步优选为5μm以上、特别优选为10μm以上。另一方面，粘合片的厚度上限也没有限定。优选为3mm以下、更优选为2mm以下、进一步优选为1mm以下、特别优选为500μm以下。

(2)向支撑体涂布的方法

接着，针对在本支撑体的表面涂布粘合剂组合物，并以该粘合剂组合物的涂布面接触上述脱模膜的凹凸层表面的方式、粘贴并层叠上述脱模膜的方法进行说明。

向支撑体涂布时，也可以使用与向脱模膜涂布的上述方法(1)相同的粘合剂组合物。

此外，向支撑体涂布的方法、固化方法、施加压力的方面等与向上述脱模膜涂布的上述方法(1)相同。

此外，本粘合片的厚度与上述方法(1)相同，可根据用途来适当选择。

(3)层压方法

接着，针对在本支撑体与上述脱模膜之间以该脱模膜的凹凸层表面与本粘合片接触的方式层压本粘合片的方法进行说明。

本粘合片只要具备粘合剂层，其构成就是任意的。可以是单层构成，也可以是2层以上的多层构成。

作为构成粘合剂层的粘合剂，可以使用与向脱模膜涂布的上述方法(1)相同的粘合剂组合物。

作为层压本粘合片的方法，可以使用公知的方法，可列举出例如干式层压、热层压、热压接法、挤出层压等方法。

例如，以在上述脱模膜与片状的本支撑体之间夹持着本粘合片的方式进行层叠，通过真空抽吸等进行一体化而进行加热压接后，根据需要进行卷取等，将各层作为一体的成型体进行加热压接成型，从而能够制作本层叠体。

需要说明的是，在进行层压之前，为了提高粘接性，可以对本粘合片或本支撑体的表面进行等离子体处理、电晕处理等表面处理。

(本层叠体的使用方法)

如果利用本层叠体制造方法来制造本层叠体，则在制造后的时刻，能够将上述脱模膜的凹凸结构转印至本粘合片的一个表面。并且，如果剥离上述脱模膜，则本粘合片能够以在表面具备凹凸结构的粘合片的形式直接且容易地使用。像这样转印有凹凸结构的本粘合片在粘贴至被粘物时，能够使脱气性良好，能够在粘合后不易观察到该凹凸结构。

因此，即使在将本层叠体卷绕成卷状并长期保管的情况下，也能够维持形状而不使转印至粘合层的凹凸结构发生变形，能够在直至即将剥离脱模膜并使用之前维持其形状而不发生变形。因此，能够良好地发挥上述效果。

本层叠体的用途没有限定，从本层叠体剥离脱模膜后的粘合片(粘合膜)能够粘贴至各种被粘物。

作为被粘物的例子，可列举出外饰、内饰、窗户等建筑材料；汽车、电车、飞机等车辆；电视机、个人电脑、平板型终端、智能手机、便携电话等电气制品；室外招牌、指路牌、公告栏、导流板等显示构件；文具类；家具类等。此外，不仅是这些最终制品，组装制品时的中间制品也可以作为被粘物。这些之中，可以适合地用于汽车的窗户、外饰部、前围板等显示部；便携电话、个人电脑的图像显示部；大型电视机等的画面等被粘物。

此外，从本层叠体上剥离脱模膜后的粘合片(粘合膜)的功能、目的也没有限定，可列举出例如装饰膜(装潢膜)、紫外线阻隔膜、蓝光阻隔膜、耐划伤膜、防裂膜、耐热膜、防溅膜、防止指纹或皮脂附着的膜等。

<语句的说明>

在本说明书中，表示为“X～Y”(X、Y为任意数字)时，只要没有特别记载，则在包括“X以上且Y以下”这一含义的同时，还包括“优选大于X”或“优选小于Y”的含义。

此外，表示为“X以上”(X为任意数字)或“Y以下”(Y为任意数字)时，还包括“优选大于X”或“优选小于Y”的含义。

一般而言，“片”在JIS的定义中是指薄、其厚度明显小于长度和宽度且平坦的制品，一般而言，“膜”是指与长度和宽度相比厚度极小、最大厚度任意限定的薄且平坦的制品，通常以卷的形态供给(日本工业标准JISK6900)。但是，片与膜的界限并不确定，在本发明中无需在语言表达上区分两者，因此，在本发明中，在称为“膜”的情况下也包括“片”，在称为“片”的情况下也包括“膜”。

实施例

以下，基于下述实施例和比较例，进一步详述本发明。

[测定、评价方法]

<质均分子量(Mw)>

各成分的质均分子量(Mw)是通过GPC法并利用下述条件测定的值。

机器：东曹株式会社制“HLC-8120GPC”

柱：东曹株式会社制“TSKgel Super H3000+H4000+H6000”

检测器：差示折射率检测器(RI检测器/内置)

溶剂：四氢呋喃

温度：40℃

流速：0.5ml/分钟

注入量：10μL

浓度：0.2质量％

校正试样：单分散聚苯乙烯

校正法：聚苯乙烯换算

<SP值>

成分A、成分B和光交联引发剂C的溶解性参数(SP值)通过Fedors等人提出的方法来计算。具体而言，基于“SP值的基础/应用和计算方法”(山本秀树著、株式会社信息机构)，以高分子的溶解度参数的推算方法之中的Fedors推算法作为参考，基于下式由各聚合物成分所含的各取代基的内聚能量密度：E(J/mol)和摩尔分子体积：V(cm³/mol)进行计算，求出SP值(σ(cal/cm³)^1/2)。

σ((J/cm³)^1/2)＝(ΣEcoh/ΣV)^1/2

σ(cal/cm³)^1/2＝σ(J/cm³)^1/2/2.0455

<凹凸的最大高低差、凸部的面积比例、凸部的个数和凹凸形状的最大最长直径>

使用表面形状测量系统(株式会社日立高新科技的“VertScan”(注册商标)R5500)，利用光干涉法测定脱模膜(样品)表面的703.12μm×937.42μm区域内的表面凹凸形状，利用下述条件进行补充和基线校正，读取数据。需要说明的是，测定时的物镜倍率设定为5倍。

(校正条件)

·补充校正：完全

·基线校正：面校正(多项式近似4次)

关于凹凸的最大高低差，由上述测定数据求出凹部的极小值与该凹部周边的凸部的极大值之差、或者凸部的极大值与该凸部周边的凹部的极小值之差作为凹凸的高低差。并且，在上述区域中的任意10点测定该凹凸的高低差，将其中的最大值作为凹凸的最大高低差。需要说明的是，不将上述测定数据中的最大值与最小值之差作为凹凸的最大高低差。

凸部的面积比例使用方位函数，将峰侧高度阈值和谷侧高度阈值均设定为0.0μm而进行二值化，求出凸部的面积比例。

凸部的个数和凹凸形状的最大最长直径通过颗粒分析功能在下述测定条件下进行计算。将所检测的最长直径之中的最大值记作最大最长直径。

(颗粒分析)

·曲面校正：不进行

·分析：凸起分析

·二值化阈值：100nm

·颗粒成型：不进行

·对象判定

高度基础：曲面

高度：上限为100000nm、下限为0nm

最长直径：上限为10000μm、下限为0μm

体积：下限为0.0μm³

长宽比：下限为0.0

<凸部规则性和凸部连续性>

利用上述表面形状测量系统对脱模膜(样品)的表面进行观察，评价凸部的形状是否具有一定的规则性或周期性，在不具有规则性和周期性的情况下，将凸部规则性评价为“不规则”。

此外，与上述同样地观察脱模膜(样品)的表面，评价凸部(白色部分)是否从放大图像的1个边缘部连续连接至对侧的边缘部为止(从上边连续连接至下边为止、或者从右边连续连接至左边为止)。

在凸部连续连接的情况下，将凸部连续性评价为“有”，在凸部散在或断续存在、或者凸部未连续连接的情况下，将凸部连续性评价为“无”。

<脱气指数>

在所得脱模膜(样品)的脱模面、即凹凸层表面上，涂布将二季戊四醇六丙烯酸酯60质量份、1,9-壬二醇丙烯酸酯40质量份、作为光交联引发剂的2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮3质量份混合而得到的光固化性树脂组合物，进而在其上重叠聚酯膜、具体为透明聚酯双轴拉伸膜(厚度为50μm、三菱化学株式会社制)，利用辊将该光固化性树脂组合物均匀地延展，从紫外线照射装置照射紫外线，使该树脂组合物固化而形成粘合层。接着，将脱模膜(样品)从聚酯膜上剥离，得到在前述粘合层上转印有凹凸结构的复制膜。

将上述复制膜裁切成70mm见方的尺寸，将该复制膜与中央开有直径5mm孔的聚酯膜以复制膜的凹凸结构面接触聚酯膜的方式进行层叠，测定脱气指数。

脱气指数的测定使用DIGI-BEKK平滑度试验机(DB-2、东洋精机式会社制)，在温度23℃、湿度50％RH的气氛下进行测定。此时，加压装置的压力为100kPa，真空容器使用容积为38ml的小真空容器，测量流通1mL空气的时间、即容器内的压力从50.7kPa变成48.0kPa所需的时间(秒)，将所得秒数的10倍记作脱气指数。

该脱气指数的值越小，则表示空气从间隙越快地脱除，是空气良好脱除的形状。

<外观>

在脱模膜(样品)的基材的相反面涂布丙烯酸系粘合组合物后，以100℃进行5分钟加热处理，得到厚度(干燥后)为50μm的粘合层。

此时，作为上述丙烯酸系粘合组合物，使用了将BPS5762K(Toyochem Co.,Ltd.制、固体成分为45.5质量％)98.6质量份、BXX5627(Toyochem Co.,Ltd.制、50质量％)1.4质量份混合而成的组合物。

其后，在前述粘合层上进一步重叠基材膜，利用辊进行粘贴，得到粘合膜。作为此时使用的基材膜，在透明基材的情况下，使用透明聚酯膜(厚度为50μm、三菱化学株式会社制)，在不透明基材的情况下，使用白色聚酯膜(厚度为50μm、三菱化学株式会社制)。

接着，从所得粘合膜上剥离脱模膜，利用2kg橡胶辊在亚克力板上往返1次而进行粘贴，肉眼观察粘合膜的基材表面。

并且，在观察时，将在基材表面识别不到粘合剂层的凹凸的情况评价为“○(良好)”，将虽然能够在基材表面识别到粘合剂层的凹凸，但无法将凹凸识别为图案而不显眼，因此在实用上无问题的情况评价为“△(一般)”，将能够在基材表面识别到粘合剂层的凹凸，且能够将凹凸识别为图案而显眼，因此在实用上存在问题的情况评价为“×(差)”。

<表面电阻值>

使用三菱化学分析株式会社制的高电阻测定器：UX MCP-HT800，在23℃、50％RH的测定气氛中将样品调湿30分钟后，测定剥离层表面的表面电阻值。

[实施例1]

<基材的原料>

聚酯A：聚对苯二甲酸乙二醇酯均聚物的碎片(特性粘度：0.66dl/g)

聚酯B：含有平均粒径2μm的非晶质二氧化硅1000ppm的聚对苯二甲酸乙二醇酯均聚物的碎片(特性粘度：0.62dl/g)

<功能层用涂布液的原料>

将具有羧基的水分散型聚碳酸酯聚氨基甲酸酯树脂(Tg：35℃)60质量份、在丙烯酸系树脂中掺混有噁唑啉基的聚合物型交联剂30质量份、硅溶胶水分散体(平均粒径：0.07μm)6质量份进行混合，制成功能层用涂布液。

<固化性涂覆组合物的原料>

丙烯酸系聚合物A1：将甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸甲酯和丙烯酸乙酯以98：1：1的摩尔比率共聚而成的丙烯酸改性物(质均分子量(Mw)：20000、SP值：12.6、Tg：32℃)

丙烯酸系聚合物B1：将甲基丙烯酸甲酯和丙烯酸甲酯以99：1的摩尔比率共聚而成的共聚物(质均分子量(Mw)：95000、SP值：9.9、Tg：105℃)

光聚合性化合物：二季戊四醇六丙烯酸酯(质均分子量：578、SP值：10.4)

光交联引发剂C1：IGM Resins Inc.制、Omnirad127

溶剂X：甲乙酮(能够溶解丙烯酸系聚合物A1和B1的溶剂，沸点为80℃)

溶剂Y：甲氧基丙醇(溶解丙烯酸系聚合物A1但不溶解B1的溶剂，沸点为120℃)

(基材的制作)

将前述聚酯A作为中间层用的原料，将前述聚酯B作为表层用的原料，将各原料分别用各自的熔融挤出机进行熔融挤出，使表层/中间层/表层的2种3层层叠的不规则形状片在已冷却的流延鼓上冷却固化，从而得到无取向片。

接着，沿着机械方向(纵向)以90℃拉伸至3.5倍。其后，将前述功能层用涂布液以干燥后的厚度达到0.05μm的方式进行涂布后，导入至拉幅机中，进而在拉幅机内历经预热工序，以120℃沿着横向拉伸至4.3倍，以230℃进行2秒钟的热处理，得到包含功能层/表层/中间层/表层在内的带功能层的基材形式的聚酯膜。所得聚酯膜的厚度为50μm，功能层/表层/中间层/表层的厚度构成为0.05μm/5μm/40μm/5μm。

(凹凸层的形成)

作为用于形成凹凸层的涂布液，使包含作为成分A的丙烯酸系聚合物A1 45质量份、作为成分B的丙烯酸系聚合物B1 27.5质量份、作为光聚合性化合物的二季戊四醇六丙烯酸酯27.5质量份和光交联引发剂C1 5质量份的丙烯酸系聚合物混合物溶解于将作为溶剂X的甲乙酮与作为溶剂Y的甲氧基丙醇以72：28的质量比例混合而得到的混合溶剂Z，从而制备丙烯酸系聚合物混合物浓度为30质量％的固化性涂覆组合物。

利用迈尔棒在作为前述基材的聚酯膜的功能层表面涂布前述固化性涂覆组合物，在70℃下使溶剂X和溶剂Y挥发后，利用紫外线照射装置照射紫外线而使其光固化，制作在基材的一个表面侧形成凹凸层而成的带凹凸层的膜，所述凹凸层在表面具有凹凸结构。

(剥离层的形成)

作为剥离层所使用的涂布液，将固化型有机硅树脂(信越化学株式会社制、KS-847H)100质量份和固化剂(信越化学株式会社制、PL-50T)1质量份用甲乙酮/甲苯混合溶剂(混合比率为1：1)进行稀释，制作有机硅树脂浓度为4质量％的剥离层用涂布液。

利用迈尔棒在前述带凹凸层的膜的凹凸层的表面涂布前述剥离层用涂布液，加热至120℃而使其干燥和固化，由此设置剥离层，制作包含剥离层/凹凸层/功能层/基材的脱模膜1(样品)。

[实施例2]

变更迈尔棒的线数而使凹凸层的厚度变更，将凸部的最大高低差设为8μm，除此之外利用与实施例1相同的方法制作脱模膜2(样品)。

[实施例3]

代替设置剥离层，向固化性涂覆组合物中进一步添加有机硅改性丙烯酸类聚合物(共荣社化学株式会社制、GL04R)3质量％，除此之外利用与实施例1相同的方法制作脱模膜3(样品)。

[实施例4]

制作固化性涂覆组合物时，使将上述丙烯酸系聚合物A1、上述丙烯酸系聚合物B1和作为光聚合性化合物的二季戊四醇六丙烯酸酯(质均分子量(Mw)：578、SP值：10.4)的混合比以质量份计为60：20：20混合而得到的丙烯酸系聚合物混合物溶解于将作为溶剂X的甲乙酮与作为溶剂Y的甲氧基丙醇以63：37的质量比例混合而得到的混合溶剂Z，除此之外利用与实施例1相同的方法制作脱模膜4(样品)。

[实施例5]

使用如下制备的固化性涂覆组合物来形成凹凸层，除此之外与实施例1同样操作，制作脱模膜5(样品)。

即，作为用于形成凹凸层的涂布液，将包含以聚二甲基硅氧烷作为枝聚合物且以丙烯酸系单体作为干聚合物的作为成分B的接枝共聚物B2(质均分子量(Mw)：16000、SP值：10.9)65质量份、作为成分A的丙烯酸系聚合物B1(质均分子量(Mw)：95000、SP值：9.9)35质量份和光交联引发剂C(IGM Resins Inc.制、Ominirad127)5质量份的丙烯酸系单体混合物溶解于将作为溶剂X的甲基异丁基酮、甲乙酮和作为溶剂Y的甲氧基丙醇以28：26：46的质量比例混合而得到的混合溶剂Z，从而制备前述丙烯酸系聚合物混合物浓度为16质量％的固化性涂覆组合物。

上述以丙烯酸系单体作为干聚合物的接枝共聚物B2是甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸硬脂酯、分子量为5000的具有末端甲基丙烯酰基的硅大分子单体和甲基丙烯酸缩水甘油酯以10：10：20：60的摩尔比率共聚而成的丙烯酸改性物。

作为溶剂X的甲基异丁基酮和甲乙酮是能够溶解接枝共聚物B2和丙烯酸系聚合物A1的溶剂，其沸点是：甲基异丁基酮为116℃、甲乙酮为80℃。

另一方面，作为溶剂Y的甲氧基丙醇是仅能够溶解接枝共聚物B2和丙烯酸系聚合物A1之中的A1的溶剂，其沸点为120℃。

[实施例6]

调整迈尔棒而使凹凸层的厚度变更，将最大高低差设为1μm，除此之外利用与实施例5相同的方法制作脱模膜6(样品)。

[实施例7]

使用如下制备的固化性涂覆组合物，且以50℃使其加热干燥而形成凹凸层，除此之外与实施例2同样地制作脱模膜7(样品)。

即，作为用于形成凹凸层的涂布液，使包含作为成分A的二季戊四醇六丙烯酸酯(质均分子量(Mw)：578、SP值：10.4)50质量份、作为成分B的聚丙烯(出光兴产株式会社制的“S400”、质均分子量(Mw)：45000(目录值)、SP值：8.2、Tg：50℃)50质量份和光交联引发剂(2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮)3质量份的混合物溶解于将作为溶剂X的环己烷、甲苯和作为溶剂Y的正丁醇以49：49：2的质量比例配混而得到的混合溶剂(混合溶剂Z)，制备前述混合物浓度为15质量％的固化性涂覆组合物。

作为溶剂X的环己烷、甲苯是能够溶解成分A和B的溶剂，其沸点分别为81℃、111℃。

另一方面，作为溶剂Y的甲氧基丙醇是仅能够溶解成分A和B之中的成分A的溶剂，其沸点为118℃。

[实施例8]

使用如下制备的固化性涂覆组合物，且以50℃使其加热干燥而形成凹凸层，除此之外与实施例7同样地制作脱模膜8(样品)。

即，作为用于形成凹凸层的涂布液，使包含作为成分A的氨基甲酸酯丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制的“商品名：U-15HA”、质均分子量(Mw)：2205、SP值：11.2)50质量份、作为成分B的聚丙烯(出光兴产株式会社制的“S400”、数均分子量(Mn)：45000(目录值)、SP值：8.2、Tg：50℃)50质量份和光交联引发剂(2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮)3质量份的混合物溶解于将作为溶剂X的环己烷、甲苯和作为溶剂Y的甲氧基丙醇以49：49：2的质量比例配混而得到的混合溶剂(混合溶剂Z)，制备前述混合物浓度为15质量％的固化性涂覆组合物。

[实施例9]

使用如下制备的固化性涂覆组合物，且以50℃使其加热干燥而形成凹凸层，除此之外与实施例7同样地制作脱模膜9(样品)。

即，作为用于形成凹凸层的涂布液，将包含作为成分A的丙烯酸系聚合物A1(质均分子量(Mw)：20000、SP值：12.6、Tg：32℃)50质量份、作为成分B的氢化末端丙烯酸酯聚丁二烯(日本曹达株式会社制的“TEAI-1000”、质均分子量(Mw)：2000(目录值)、SP值：9.9、Tg：-14℃(目录值))25质量份、二季戊四醇六丙烯酸酯(质均分子量(Mw)：578、SP值：10.4)25质量份和光交联引发剂(2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮)5质量份的混合物溶解于将作为溶剂X的环己烷、甲苯和甲乙酮、作为溶剂Y的甲氧基丙醇和正丁醇以6：25：32：31：6的质量比例配混而得到的混合溶剂，制备前述混合物浓度为15质量％的固化性涂覆组合物。

[实施例10]

使用如下制备的固化性涂覆组合物，变更迈尔棒的线数而使凹凸层的厚度变更，将凸部的最大高低差设为10.6μm，除此之外利用与实施例1相同的方法制作脱模膜10(样品)。

作为用于形成凹凸层的涂布液，使包含作为成分A的丙烯酸系聚合物A1 70质量份、作为成分B的丙烯酸系聚合物B1 15质量份、作为光聚合性化合物的二季戊四醇六丙烯酸酯15质量份和光交联引发剂C1 5质量份的丙烯酸系聚合物混合物溶解于将作为溶剂X的甲乙酮与作为溶剂Y的甲氧基丙醇以57：43的质量比例混合而得到的混合溶剂Z，制备丙烯酸系聚合物混合物浓度为30质量％的固化性涂覆组合物。

[实施例11]

使用如下制备的固化性涂覆组合物，且以50℃使其加热干燥而形成凹凸层，除此之外与实施例7同样地制作脱模膜11(样品)。

即，作为用于形成凹凸层的涂布液，使包含作为成分A的氨基甲酸酯丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制的“商品名：U-15HA”、质均分子量(Mw)：2205、SP值：11.2)50质量份、作为成分B的聚丙烯(出光兴产株式会社制的“S400”、数均分子量(Mn)：45000(目录值)、SP值：8.2、Tg：50℃)50质量份和光交联引发剂(2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮)3质量份的混合物溶解于将作为溶剂X的庚烷、甲苯和作为溶剂Y的乙酸丁酯以56：24：20的质量比例配混而得到的混合溶剂(混合溶剂Z)，制备前述混合物浓度为32质量％的固化性涂覆组合物。

[实施例12]

使用如下制备的固化性涂覆组合物，且以50℃使其加热干燥而形成凹凸层，除此之外与实施例7同样地制作脱模膜12(样品)。

即，作为用于形成凹凸层的涂布液，使包含作为成分A的树状高分子丙烯酸酯(大阪有机化学工业株式会社制的“商品名：V#1000”、质均分子量(Mw)：1900、SP值：14.3(浊度法))50质量份、作为成分B的聚丙烯(出光兴产株式会社制的“S400”、数均分子量(Mn)：45000(目录值)、SP值：8.2、Tg：50℃)50质量份和光交联引发剂(2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮)3质量份的混合物溶解于将作为溶剂X的庚烷、甲苯和作为溶剂Y的乙酸丁酯以56：24：20的质量比例配混而得到的混合溶剂(混合溶剂Z)，制备前述混合物浓度为32质量％的固化性涂覆组合物。

[比较例1]

不在实施例1中使用的作为前述基材的聚酯膜的表面形成凹凸层，而是与实施例1同样地设置剥离层，除此之外与实施例1同样操作，制作脱模膜13(样品)。

[比较例2]

将在纸表面层压有聚乙烯且在该聚乙烯层表面设置有有机硅剥离层的脱模纸作为脱模膜14(样品)，所述脱模纸在该有机硅剥离层侧表面具有最大高低差为8.2μm、凸部宽度为40μm、间距为310μm周期的由直线构成的格子形状的凸部。

[比较例3]

将在纸表面层压有聚乙烯且在该聚乙烯层表面设置有有机硅剥离层的脱模纸作为脱模膜15(样品)，所述脱模纸在该有机硅剥离层侧表面具有最大高低差为30.2μm、凸部宽度为60μm、间距为335μm周期的由直线构成的格子形状的凸部。

[比较例4]

在凹凸层的形成方法中，向固化性涂覆组合物中进一步添加有机硅改性丙烯酸类聚合物(共荣社化学株式会社制、GL04R)5质量份，制备丙烯酸系聚合物混合物浓度为15质量％的固化性涂覆组合物，变更迈尔棒的线数而使凹凸层的厚度发生变化，将凸部的最大高低差设为0.4μm，除此之外与实施例1同样地制作脱模膜16(样品)。

[比较例5]

在向对甲苯磺酸(酸催化剂)55质量份中混合三乙二胺15质量份和异丙醇30质量份而得到的物质中，以酸催化剂的配混量达到0.9质量份的方式、混合至丁基化三聚氰胺树脂100质量份(不挥发成分基准)中，进而用甲苯/甲乙酮＝6/4(质量比)的混合溶剂进行稀释，制备不挥发成分浓度为30质量％的固化性涂覆组合物。将所制备的固化性涂覆组合物利用迈尔棒以干燥后的膜厚达到7μm的方式涂布至参考例1中制作的作为基材的聚酯膜的一个面上，以150℃干燥5分钟，形成树脂层。所得树脂层的表面未经粗糙化，未形成凹凸。

并且，与实施例1同样地设置剥离层，制作包含剥离层/树脂层/基材的脱模膜17(样品)。

[表1]

(考察)

根据上述实施例、比较例的结果和本发明人至今为止进行的试验结果等可知：对于在基材的至少一个表面侧具备凹凸层且该凹凸层在表面具有凹凸结构的脱模膜，在俯视时，如果凸部在前述凹凸结构的表面所占的面积比例为10～90％，且前述凹凸结构的最大高低差为0.5μm以上，则能够使转印有该凹凸结构的粘合膜在粘贴该粘合膜时的脱气性良好。

此外还可知：如果将前述凹凸结构的凸部在俯视时形成为不规则形状，则将转印有该凹凸结构的粘合膜进行粘合后，不易观察到该凹凸结构。

实施例11、12在要求高脱气性的情况下是良好的实施例，但对于要求良好外观的用途而言，比其它实施例差。需要说明的是，该外观评价相当于使用透明聚酯膜作为基材的粘合膜时的外观评价，在使用不透明膜作为基材的粘贴片时的外观评价中，实施例11、12也为良好的水平。

上述实施例中，作为在脱模膜的一个表面层叠粘合片的方法，采用在脱模膜的凹凸层表面涂布粘合剂组合物，使该粘合剂组合物发生固化，在脱模膜的凹凸层表面层叠包含粘合层的粘合片的方法来制作本层叠体。

根据本申请时的技术常识，在支撑体的表面涂布粘合剂组合物并使该粘合剂组合物发生固化，以由该粘合剂组合物形成的粘合层的涂布面接触脱模膜的凹凸层表面的方式粘贴并层叠脱模膜，也能够制作与上述相同的本层叠体。

此外，同样地根据本申请时的技术常识，在支撑体与脱模膜之间以脱模膜的凹凸层表面与粘合片接触的方式层压粘合片，也能够制作与上述相同的本层叠体。

[实施例13]

<基材的原料>

聚酯B：含有平均粒径为2μm的非晶质二氧化硅1000ppm的聚对苯二甲酸乙二醇酯均聚物的碎片(特性粘度：0.62dl/g)

<抗静电层用涂布液的原料>

将具有羧基的水分散型聚碳酸酯聚氨基甲酸酯树脂(Tg：35℃)60质量份、在丙烯酸系树脂中掺混有噁唑啉基的聚合物型交联剂30质量份、作为抗静电剂的季铵盐64质量份和硅溶胶水分散体(平均粒径：0.07μm)6质量份进行混合，制成抗静电层用涂布液。

<固化性涂覆组合物的原料>

将丙烯酸系聚合物A1：甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸甲酯和丙烯酸乙酯以98：1：1的摩尔比率共聚而成的丙烯酸改性物(质均分子量(Mw)：20000、SP值：12.6、Tg：32℃)

丙烯酸系聚合物B1：将甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸酯以99：1的摩尔比率共聚而成的共聚物(质均分子量(Mw)：95000、SP值：9.9、Tg：105℃)

光交联引发剂C1：IGM Resins Inc.制、Omnirad127

(基材的制作)

接着，沿着机械方向(纵向)以90℃拉伸至3.5倍。其后，在片的一面上以干燥后的厚度达到0.05μm的方式涂布前述抗静电层用涂布液后，导入至拉幅机中，进而在拉幅机内历经预热工序，以120℃沿着横向拉伸至4.3倍，以230℃进行2秒钟的热处理，得到作为带抗静电层的基材的聚酯膜。

作为所得基材的聚酯膜的厚度为50μm，抗静电层/表层/中间层/表层的厚度构成为0.05μm/5μm/40μm/5μm。

(凹凸层的形成)

作为用于形成凹凸层的涂布液，使包含作为成分A的丙烯酸系聚合物A1 45质量份、作为成分B的丙烯酸系聚合物B1 27.5质量份、作为光聚合性化合物的二季戊四醇六丙烯酸酯27.5质量份和光交联引发剂C1 5质量份的丙烯酸系聚合物混合物溶解于将作为溶剂X的甲乙酮与作为溶剂Y的甲氧基丙醇以72：28的质量比例混合而得到的混合溶剂Z，制备丙烯酸系聚合物混合物浓度为30质量％的固化性涂覆组合物。

利用迈尔棒在作为前述基材的前述聚酯膜的抗静电层表面涂布前述固化性涂覆组合物，在70℃下使溶剂X和溶剂Y挥发后，利用紫外线照射装置照射紫外线而使其光固化，在基材的一个表面侧形成表面具有凹凸结构的凹凸层，制作包含凹凸层/抗静电层/基材的带凹凸层的膜。

(剥离层的形成)

利用迈尔棒在前述带凹凸层的膜的凹凸层的表面涂布前述剥离层用涂布液，加热至120℃而使其干燥和固化，由此设置剥离层，制作包含剥离层/凹凸层/抗静电层/基材的脱模膜18(样品)。

[实施例14]

如下所示地制作基材，利用迈尔棒在聚酯膜的功能层表面涂布前述固化性涂覆组合物，除此之外与实施例13同样地形成凹凸层，制作包含凹凸层/功能层/基材/抗静电层的带凹凸层的膜。

并且，与实施例13同样地在前述带凹凸层的膜的凹凸层的表面上设置剥离层，制作脱模膜19(样品)。

(功能层用涂布液的制作)

(基材的制作)

接着，沿着机械方向(纵向)以90℃拉伸至3.5倍。其后，在片的一面上以干燥后的厚度达到0.05μm的方式涂布前述抗静电层用涂布液，另一方面，在片的另一面上以干燥后的厚度达到0.05μm的方式涂布前述功能层用涂布液后，导入至拉幅机中，进而在拉幅机内历经预热工序，以120℃沿着横向拉伸至4.3倍，以230℃进行2秒钟的热处理，得到作为基材的聚酯膜。

作为所得基材的聚酯膜的厚度为50μm，抗静电层/表层/中间层/表层/功能层的厚度构成为0.05μm/5μm/40μm/5μm/0.05μm。

[表2]

观察表2时，未进行实施例13、14的脱气性、透明基材外观和不透明基材外观的评价、以及最大高低差、凸部个数和凸部面积的相关测定。然而，实施例1与实施例13相比，差异仅为实施例13的抗静电层用涂布液是否配混有抗静电剂，实施例1与实施例14相比，差异仅为是否使用实施例14的抗静电层用涂布液在基材的非凹凸层侧表面设置抗静电层。因而，不用实际测定即可理解实施例13和14的脱气性、透明基材外观和不透明基材外观的评价、以及最大高低差、凸部个数和凸部面积的数值分别与实施例1的评价和测定值相同。

(考察)

根据上述实施例和比较例的结果以及本发明人至今为止进行的试验结果等可知：如果脱模膜含有抗静电层，则能够有效地降低膜表面的表面电阻值，能够使脱模膜不易带电。

需要说明的是，可确认：在上述实施例中，通过在基材的任一面设置抗静电层，从而使膜表面的表面电阻值有效下降。同样地可推测出：即使使至少基材或凹凸层或这两者含有抗静电剂，也能够与上述实施例同样地降低膜表面的表面电阻值，由此能够使脱模膜不易带电。

Claims

1.一种脱模膜，其特征在于，其是在基材的至少一个表面侧具备凹凸层的脱模膜，所述凹凸层在表面具有凹凸结构，

所述凹凸结构具备在俯视时该凹凸结构的凸部形成不规则形状而成的构成，且凸部在所述凹凸结构的表面所占的面积比例为10～90％，且所述凹凸结构的最大高低差为0.5μm以上，

所述凹凸结构中的凸部在俯视时是连续的。

2.根据权利要求1所述的脱模膜，其中，所述凹凸层含有两种以上的聚合物。

3.根据权利要求2所述的脱模膜，其特征在于，所述两种以上的聚合物形成了相分离结构。

4.根据权利要求2或3所述的脱模膜，其中，所述两种以上的聚合物之中的至少任一者为具有交联性结构的热塑性树脂和/或固化性树脂组合物。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的脱模膜，其特征在于，所述凹凸结构中的形成凹部的组成与形成凸部的组成不同。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的脱模膜，其特征在于，在所述凹凸层中，在形成凹部的成分之中含量最多的成分A的SP值(A)为8～21，在形成凸部的成分之中含量最多的成分B的SP值(B)为7～20，且所述SP值(A)-所述SP值(B)＝0.01～10。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的脱模膜，其特征在于，在所述凹凸层中，在形成凹部的成分之中含量最多的成分A的质均分子量(Mw)为300～300000，在形成凸部的成分之中含量最多的成分B的质均分子量(Mw)为500～400000。

8.根据权利要求1～6中任一项所述的脱模膜，其特征在于，所述凹凸层由含有两种以上的聚合物、低聚物或单体的涂覆组合物形成，该涂覆组合物中，在形成凹部的成分之中含量最多的成分A的SP值(A)为8～21，在形成凸部的成分之中含量最多的成分B的SP值(B)为7～20，且所述SP值(A)-所述SP值(B)＝0.01～10。

9.根据权利要求1～6中任一项所述的脱模膜，其特征在于，所述凹凸层由含有两种以上的聚合物、低聚物或单体的涂覆组合物形成，该涂覆组合物中，在形成凹部的成分之中含量最多的成分A的质均分子量(Mw)为300～300000，在形成凸部的成分之中含量最多的成分B的质均分子量(Mw)为500～400000。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的剥离膜，其特征在于，所述凹凸层包含具有剥离性的剥离成分。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的脱模膜，其特征在于，在所述凹凸层的表面侧具备剥离层。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的脱模膜，其特征在于，在所述基材与所述凹凸层之间具备功能层。

13.根据权利要求1～12中任一项所述的脱模膜，其特征在于，含有抗静电剂。

14.根据权利要求13所述的脱模膜，其中，所述基材或所述凹凸层或这两者含有抗静电剂、和/或、具备含有抗静电剂的层。

15.一种层叠体，其具备：权利要求1～14中任一项所述的脱模膜与粘合膜层叠而成的构成。

16.根据权利要求15所述的层叠体，其是向所述粘合膜的表面转印在所述脱模膜的表面形成的凹凸结构而成的。

17.一种卷状层叠体，其具备：支撑体、包含粘合层的粘合片和脱模膜依次层叠而成的构成，

所述脱模膜在基材的至少一个表面侧具备凹凸层，所述凹凸层在表面具有凹凸结构，且该凹凸结构具备在俯视时该凹凸结构的凸部形成不规则且连续的形状而成的构成，

通过使粘合层层叠至所述凹凸层的表面，从而向与该脱模膜层叠的粘合层的一个表面转印所述凹凸结构，且向该粘合片的另一个表面层叠支撑体。

18.一种层叠体的制造方法，其特征在于，所述层叠体具备：支撑体、包含粘合层的粘合片和脱模膜依次层叠而成的构成，

通过使粘合层层叠至脱模膜的所述凹凸层的表面即“凹凸层表面”，从而向与该脱模膜层叠的粘合层的一个表面转印所述凹凸结构，且向该粘合片的另一个表面层叠支撑体。

19.根据权利要求18所述的层叠体的制造方法，其特征在于，通过在所述凹凸层表面涂布粘合剂组合物，并粘贴所述支撑体，从而使粘合片层叠至该凹凸层表面，所述粘合片具有由所述粘合剂组合物形成的粘合层。

20.根据权利要求18所述的层叠体的制造方法，其特征在于，在所述支撑体的表面涂布粘合剂组合物，以该粘合剂组合物的涂布面与所述脱模膜的凹凸层表面接触的方式粘贴脱模膜而进行层叠。

21.根据权利要求18所述的层叠体的制造方法，其特征在于，以所述脱模膜的凹凸层表面与粘合片接触的方式、在所述支撑体与脱模膜之间层压粘合片。

22.根据权利要求18～21中任一项所述的层叠体的制造方法，其特征在于，所述脱模膜的所述凹凸结构中，凸部在表面所占的面积比例为10～90％，且最大高低差为0.5μm以上。