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CN111304619A - 宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法及应用 - Google Patents

宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法及应用 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种宽温域自润滑MoN‑VN多层涂层的制备方法及其应用,所述多层涂层由MoN和VN交替叠加组成，该制备方法是在氮气环境中，利用磁控溅射技术，通过调控基底样品的转速，制备出具有不同调制周期的MoN/VN多层涂层，与现有技术相比，通过调整调制周期的不同，制备出的调制周期为22.66nm的MoN/VN多层涂层在宽温域环境下的摩擦系数最低，在700℃时能达到0.28，本发明提供的宽温域自润滑MoN/VN多层涂层在宽温域环境下具有长寿命和良好自润滑性能，可用于宽温域环境下的基体防护，同时其制备工艺简单可控，具有广阔应用前景。

Description

宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法及应用
技术领域
本发明涉及低润滑氮化物涂层技术领域，具体为一种宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法及应用，属于表面处理技术领域。
背景技术
在宽温域环境下，航空发动机涡轮叶片等金属部件极易发生变形，导致部件摩擦表面较为严重的摩擦磨损行为，严重降低了空间装备的可靠性和服役寿命。一般低温工况下，金属机械部件的润滑主要采用润滑油和二硫化钼、碳等固体润滑剂。但是，随着服役温度的增高，润滑油脂易挥发，二硫化钼和碳等发生氧化，形成磨粒，无法发挥优异的润滑作用。硬质氮化物涂层具有良好的化学稳定性和耐磨性，在低温和高温环境下均能发挥良好的润滑作用，越来越多的应用于降低零部件的摩擦磨损性能上。VN和MoN在高温摩擦过程中发生氧化反应，生成易剪切相V2O5和MoO3，能很好的在高温环境下起到润滑作用。但是一般的纯VN涂层由于具有较高的室温摩擦系数，纯MoN涂层的高温摩擦系数也比较高，不能满足宽温域润滑性能的要求，因此，亟待一种改进的技术来解决现有技术中所存在的这一问题
发明内容
一般制备硬质涂层的方法主要有磁控溅射和电弧离子镀，但是由于电弧离子镀制备出的涂层表面比较粗糙，所以采用磁控溅射法制备宽温域自润滑MoN/VN多层涂层。该方法要求较低，在较低温度下就能制备出表面粗糙度小、结合强度较好的涂层。利用非平衡磁控溅射系统制备MoN/VN多层涂层，这种制备方法能够降低涂层粗糙度，在航空发动机涡轮叶片等高精度表面防护领域具有重大的应用前景。
本发明的目的在于提供一种宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法及应用，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法，包括以下步骤：
步骤一：采用磁控溅射技术，选用Mo靶和V靶，以高纯氮气作为工作气体，在经预处理后的基体表面沉积MoN/VN多层涂层；
步骤二：对基体表面进行离子刻蚀；
步骤三：先在经预处理后的基体表面沉积Mo过渡层，之后再沉积多层涂层。
优选的，所述步骤三中多层涂层MoN和VN层交替沉积组成，其中MoN层与VN层的厚度之比约为2:1。
优选的，所述步骤三中多层涂层内MoN层与VN层分别主要由MoN相与VN相以单晶形式存在。
优选的，所述步骤三中多层涂层在室温下的摩擦系数为0.32～0.4，在300℃的高温摩擦系数为0.65～0.73，在500℃的高温摩擦系数为0.55～0.59，在700℃的高温摩擦系数为0.28～0.32。
优选的，所述步骤三中Mo过渡层的参数设置是：Mo靶电流为3A，V靶电流为0A，偏压为-70V,基体转速为5rpm,腔体真空度抽至低于3.0×10-5Pa。
优选的，所述步骤一中沉积形成MoN/VN多层涂层所需的条件包括：设置Mo靶电流为5A，V靶电流为5A，偏压为-50V，基体转速为分别为0.5rpm、1.5rpm和2.5rpm,腔体真空度抽至低于3.0×10-5Pa。
优选的，所述步骤二中基体的材质包括718高温合金钢和GH4169合金钢。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明提供的宽温域自润滑MoN/VN多层涂层在高温环境下具有长寿命和良好自润滑性能，可用于宽温域环境下的基体防护，同时其制备工艺简单可控，只需在磁控溅射过程中控制Mo靶和V靶电流不变，通过调控基底转速，控制所述多层涂层中调制周期，即可调控所述多层涂层的宽温域自润滑性能。
附图说明
图1是实施例1的MoN/VN多层涂层的结构示意图。
图2是实施例1的MoN/VN多层涂层的TEM截面形貌图。
图3是实施例1的MoN/VN多层涂层的XRD衍射图谱。
图4是实施例1的MoN/VN多层涂层在不同温度下的摩擦系数曲线图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供一种技术方案：一种宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法，包括以下步骤：
步骤一：采用磁控溅射技术，选用Mo靶和V靶，以高纯氮气作为工作气体，在经预处理后的基体表面沉积MoN/VN多层涂层；
步骤二：对基体表面进行离子刻蚀；
步骤三：先在经预处理后的基体表面沉积Mo过渡层，之后再沉积多层涂层。
进一步的，多层涂层MoN和VN层交替沉积组成，其中MoN层与VN层的厚度之比约为2:1。
进一步的，在所述多层涂层中，通过调整基底转速，制备出不同的调制周期的MoN/VN多层涂层。
进一步的，所述多层涂层内MoN层与VN层分别主要由MoN相与VN相以单晶形式存在。
本发明实施例中，通过采用MoN层与VN层构成具有不同调制周期的多层结构，其中合适的调制周期在MoN/VN多层涂层中的引入明显降低了涂层在宽温域环境下的摩擦系数，例如，在室温，300℃，500℃和700℃的条件下，调制周期为22.66nm的MoN/VN多层涂层的摩擦系数比调制周期为4.77nm的MoN/VN多层涂层的摩擦系数分别低20.2％，10.9％，6.79％和9.36％。
本发明实施例中，在所述多层涂层内调制周期为22.66nm(MoN层厚度为15.11nm、VN层厚度为7.55nm)的MoN/VN多层涂层的摩擦系数在四种不同温度环境下尤佳。
本发明实施例提供的前述多层涂层在保证硬度的同时具有良好宽温域自润滑性能，可用于宽温域环境下的基体防护。
本发明实施例的一个方面提供的一种制备所述宽温域自润滑MoN/VN多层涂层的方法包括：采用磁控溅射技术，选用Mo靶和V靶，以高纯氮气作为工作气体，在经预处理后的基体表面沉积所述MoN/VN多层涂层。
进一步的，所述的制备方法还可包括：先在经预处理后的基体表面沉积Mo过渡层，之后再沉积所述多层涂层。其中，籍由所述Mo过渡层与MoN/VN多层涂层的结合，可以提高多层涂层与基体之间的结合力。
在一些较为具体的实施方案中，所述的制备方法包括：采用磁控溅射技术，分别选用两块相邻Mo靶和两块相邻的V靶，以高纯氮气作为工作气体，在清洗后的基体表面沉积该MoN/VN多层涂层，控制Mo靶和V靶电流不变，通过调控基底转速控制所述多层涂层中的调制，进而研究所述多层涂层的宽温域自润滑性能。
进一步的，所述的预处理可以包括：对基体表面进行离子刻蚀。
作为一种实现方式，所述的预处理还可以包括：清洗除去基体表面的油污、水分等杂质成分，清洗方法不限，例如可以包括超声清洗；进而，在清洗完成之后，可以用流动的氮气吹干基体表面。
作为一种实现方式，所述的预处理还可以包括：在沉积Mo过渡层、MoN/VN多层涂层之前利用辉光放电原理刻蚀清洗基底表面，以除去基体表面的氧化层或污染物。
作为一种实现方式，所述的预处理还可以包括：在沉积Mo过渡层、MoN/VN多层涂层之前对磁控溅射腔体抽真空至真空度低于3.0×10-5Pa。
进一步的，在所述的制备方法中，沉积形成所述Mo过渡层所需的条件包括：设置Mo靶电流为3A，V靶电流为0A，偏压为-70V,基体转速为5rpm。
进一步的，在所述的制备方法中，沉积形成所述MoN/VN多层涂层所需的条件包括：设置Mo靶电流为5A，V靶电流为5A，偏压为-50V，基体转速分别为0.5rpm、1.5rpm和2.5rpm。
本发明实施例的另一个方面还提供了一种装置，包括覆设在基体上的涂层，所述涂层包括前述的任一种宽温域自润滑MoN/VN多层涂层。
进一步的，所述涂层包括依次在基体上的Mo过渡层和宽温域自润滑MoN/VN多层涂层。
进一步的，前述基体的材质包括高温合金，例如718高温合金钢和GH4169合金钢等，且不限于此。
所述的装置可以是飞机零部件等，例如航空发动机，但不限于此。
以下将结合若干实施例对本发明的技术方案作更为具体的解释说明。
实施例1：
本实施例中，基体材料为718高温合金钢。采用磁控溅射技术，在基体表面制备MoN/VN多层涂层，主要包括如下步骤：
(1)对基体表面进行机械磨抛处理，分别用石油醚、丙酮和酒精进行超声清洗3次，然后用流动的氮气吹干。
(2)将清洗处理后的基体放入磁控溅射腔体，抽真空至真空度为3.0×10–5Pa；然后，溅射清洗靶材120s，对基体样品进行离子刻蚀1800s。
(3)溅射Mo靶(纯度为99.99at.％)600s，在基体表面沉积Mo过渡层。过渡层的沉积参数为：Mo靶电流为3A，V靶电流为0A，偏压为-70V,基体转速为5rpm。
(4)制备沉积MoN/VN多层涂层。
在磁控溅射腔体中充入高纯氮气(纯度为99.99at.％)，流量设定为30sccm，采用Mo靶(纯度为99.99at.％)和V靶(纯度为99.99at.％)在基体表面沉积MoN/VN多层涂层，沉积参数为：Mo靶和V靶电流为5A，调控Ag靶电流分别为1A、1.5A及2A，偏压为-50V，基体转速分别为0.5rpm、1.5rpm和2.5rpm,沉积时间为12000s，制得3组不同调制周期的MoN/VN多层涂层样品，具体参数如表1所示：
表1：基体转速分别为0.5rpm、1.5rpm和2.5rpm时MoN/VN多层涂层样品的制备参数表
Figure BDA0002457571620000071
Figure BDA0002457571620000081
图1为制得的MoN/VN多层涂层的结构示意图，从图中可以看到，多层涂层是由两种不同相结构的MoN和VN相交替沉积而组成。
图2为制得的MoN/VN多层涂层的TEM截面形貌图，从图中可以看到三种不同调制周期的多层薄膜的MoN和VN层的厚度，图2.(a)中为转速为0.5rpm的多层涂层，从图中可以看出MoN和VN层的厚度比约为2:1。随着转速的增加，多层薄膜的调制周期逐渐降低。
图3为制得的MoN/VN多层涂层样品的室温下的XRD图，从图中可以看出来，三种不同调制周期的MoN/VN多层涂层的相结构没有太大区别。
图4为制得的MoN/VN多层涂层在不同温度下的摩擦系数图，从图中可以看出，调制周期为22.66nm时，MoN/VN多层涂层在四种不同温度下均表现出较低的摩擦系数。此时MoN/VN多层涂层在室温、300℃、500℃和700℃测试温度下的摩擦系数分别为0.32、0.65、0.55和0.28。均表现出较低的摩擦系数。
此外，本案发明人还参照前述实施例，以本说明书述及的其它原料、工艺操作、工艺条件进行了试验，并均获得了较为理想的结果。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤一：采用磁控溅射技术，选用Mo靶和V靶，以高纯氮气作为工作气体，在经预处理后的基体表面沉积MoN/VN多层涂层；
步骤二：对基体表面进行离子刻蚀；
步骤三：先在经预处理后的基体表面沉积Mo过渡层，之后再沉积多层涂层。
2.根据权利要求1所述的一种宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤三中多层涂层MoN和VN层交替沉积组成，其中MoN层与VN层的厚度之比约为2:1。
3.根据权利要求1所述的一种宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤三中多层涂层内MoN层与VN层分别主要由MoN相与VN相以单晶形式存在。
4.根据权利要求1所述的一种宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤三中多层涂层在室温下的摩擦系数为0.32～0.4，在300℃的高温摩擦系数为0.65～0.73，在500℃的高温摩擦系数为0.55～0.59，在700℃的高温摩擦系数为0.28～0.32。
5.根据权利要求1所述的一种宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤三中Mo过渡层的参数设置是：Mo靶电流为3A，V靶电流为0A，偏压为-70V,基体转速为5rpm,腔体真空度抽至低于3.0×10-5Pa。
6.根据权利要求1所述的一种宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤一中沉积形成MoN/VN多层涂层所需的条件包括：设置Mo靶电流为5A，V靶电流为5A，偏压为-50V，基体转速为分别为0.5rpm、1.5rpm和2.5rpm,腔体真空度抽至低于3.0×10-5Pa。
7.根据权利要求1所述的一种宽温域自润滑MoN-VN多层涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤二中基体的材质包括718高温合金钢和GH4169合金钢。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116254505A (zh) * 2023-05-16 2023-06-13 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 金属掺杂的宽温域润滑多层复合薄膜及其制备方法与应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102644076A (zh) * 2012-04-28 2012-08-22 东南大学 用于宽温域自适应的润滑涂层及其制备方法
US20160040280A1 (en) * 2006-05-17 2016-02-11 G & H Technologies, Llc Wear Resistant Vapor Deposited Coating, Method of Coating Deposition and Applications Therefor
CN106811725A (zh) * 2015-11-27 2017-06-09 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 宽温域自适应润滑涂层及其制备方法与应用
CN108866480A (zh) * 2018-06-06 2018-11-23 广东工业大学 一种多层多元纳米复合自润滑硬质涂层及其制备方法和应用
CN110318020A (zh) * 2019-08-12 2019-10-11 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 高温自润滑Mo-V-N复合涂层、其制备方法及应用

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160040280A1 (en) * 2006-05-17 2016-02-11 G & H Technologies, Llc Wear Resistant Vapor Deposited Coating, Method of Coating Deposition and Applications Therefor
CN102644076A (zh) * 2012-04-28 2012-08-22 东南大学 用于宽温域自适应的润滑涂层及其制备方法
CN106811725A (zh) * 2015-11-27 2017-06-09 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 宽温域自适应润滑涂层及其制备方法与应用
CN108866480A (zh) * 2018-06-06 2018-11-23 广东工业大学 一种多层多元纳米复合自润滑硬质涂层及其制备方法和应用
CN110318020A (zh) * 2019-08-12 2019-10-11 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 高温自润滑Mo-V-N复合涂层、其制备方法及应用

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116254505A (zh) * 2023-05-16 2023-06-13 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 金属掺杂的宽温域润滑多层复合薄膜及其制备方法与应用
CN116254505B (zh) * 2023-05-16 2023-10-10 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 金属掺杂的宽温域润滑多层复合薄膜及其制备方法与应用

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