[go: up one dir, main page]

CN111163402B - 一种振膜及其制备方法 - Google Patents

一种振膜及其制备方法

Info

Publication number
CN111163402B
CN111163402B CN202010030527.4A CN202010030527A CN111163402B CN 111163402 B CN111163402 B CN 111163402B CN 202010030527 A CN202010030527 A CN 202010030527A CN 111163402 B CN111163402 B CN 111163402B
Authority
CN
China
Prior art keywords
carbon
diaphragm
coating
diamond
graphite
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202010030527.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111163402A (zh
Inventor
陈君
乐务时
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzhou Champion Coating Technology Co ltd
Original Assignee
Suzhou Champion Coating Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suzhou Champion Coating Technology Co ltd filed Critical Suzhou Champion Coating Technology Co ltd
Priority to CN202010030527.4A priority Critical patent/CN111163402B/zh
Publication of CN111163402A publication Critical patent/CN111163402A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111163402B publication Critical patent/CN111163402B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04R—LOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R7/00—Diaphragms for electromechanical transducers; Cones
    • H04R7/02—Diaphragms for electromechanical transducers; Cones characterised by the construction
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0605—Carbon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)
  • Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)

Abstract

本发明涉及的振膜，包括中间层以及涂覆在中间层两表面的涂层，中间层为碳石墨/碳纳米管层，涂层为类金刚石涂层，碳纳米管相互交织形成宏观形态为膜状、微观为网络结构的多孔膜，碳石墨穿插于碳纳米管多孔膜的内部间隙中，碳石墨和碳纳米管共同形成内部结构相对致密碳石墨/碳纳米管层，类金刚石涂层比弹性率高、弯曲刚性高和内阻尼高，获得的振膜具有良好声学效果、良好防潮性能、良好抗霉变性能、生产成本较低且制备方法简单。

Description

一种振膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种振膜及其制备方法。
背景技术
随着人们生活水平和科技水平的不断提升，数字音频技术发展迅速，对扬声器音质的要求也越来越高。振膜是扬声器发声的最重要部件之一，振膜的往复振动使周围空气介质形成疏密波引起人耳鼓膜振动，从而使人耳感受到声音，因此，振膜材料自身的物理性质将对音质质量产生决定性影响。从声学效果角度，即稳态振动方面考虑，对振膜材料的物理性质存在三方面要求：1、为使扬声器重放频带尽可能宽，要求振膜材料比弹性率尽量大；2、为了防止扬声器发出的声音失真，抑制振膜在工作中产生分割振动，要求振膜材料的弯曲刚性大；3、为了进一步改善扬声器的音质，使振膜的频率响应曲线更为平滑，要求振膜材料具有适当的内阻尼(内阻尼可由损耗因子表征)。此外，从工作寿命角度出发，为了使扬声器能够长期稳定工作，还要求振膜材料具有良好的防潮性能和抗霉变性能。对现有材料进行的研究发现，利用碳质材料作为扬声器振膜具有良好的发展前景，但也存在较多技术瓶颈。与市场常见的纸系振膜材料相比，金刚石拥有很高的比弹性率和弯曲刚性，但是这种材料的内阻尼很低，同时价格昂贵、制造成本高。此外，金刚石薄膜在制备过程中需要衬底，制备完成后薄膜与衬底往往结合紧密、难以从衬底表面剥离。碳石墨的比弹性率虽然比金刚石低一些，然而其内阻尼较高、且价格低廉，是一种比较理想的振膜材料，但是碳石墨的成膜性能差、难以独立成膜。类金刚石的比弹性率、弯曲刚性和内阻尼均介于金刚石和碳石墨之间，制备成本低、成膜性好。然而类金刚石薄膜在制备过程中也需要衬底，同样存在薄膜与衬底结合紧密、难以剥离的问题。从声学效果、经济成本两方面综合考量，碳石墨和类金刚石两种材料更适合于实际的振膜生产，其面临的技术挑战主要是如何使之成为一种独立、稳定的碳质膜体。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具有良好声学效果、良好防潮性能、良好抗霉变性能、生产成本较低且制备方法简单的振膜。
为达到上述目的，本发明提供如下技术方案：一种振膜，包括中间层以及涂覆在所述中间层两表面的涂层，所述中间层为碳石墨/碳纳米管层，所述涂层为类金刚石涂层。
进一步地，所述振膜的厚度为54μm-216μm。
进一步地，所述碳石墨/碳纳米管层包括碳石墨和碳纳米管，所述碳纳米管为相互交织的结构，所述碳石墨存在于相互交织的所述碳纳米管的间隙中，所述碳石墨/碳纳米管层的厚度为50μm-200μm。
进一步地，所述类金刚石涂层的厚度为2μm-8μm。
本发明还提供了一种用以制备所述振膜的制备方法，所述制备方法如下：
S1、制备碳石墨/碳纳米管层，所述碳石墨/碳纳米管层的厚度为50μm-200μm；
S2、在所述碳石墨/碳纳米管层两表面沉积类金刚石涂层，所述类金刚石涂层的厚度为2μm-8μm。
进一步地，所述碳石墨/碳纳米管层由高温碳化-原位生长方法制备形成。
进一步地，所述类金刚石涂层由高能脉冲磁控溅射方法制备形成。
进一步地，所述高能脉冲磁控溅射的条件为：电源电流为1A-8A，电源占空比为40％-80％，电源频率为40kHz-100kHz，脉冲负偏压为200V-1000V，脉冲负偏压占空比为30％-60％，溅射时间为0.5h-5h。
本发明的有益效果在于：本发明获得的振膜包括碳石墨/碳纳米管层和类金刚石涂层，碳纳米管相互交织形成宏观形态为膜状、微观为网络结构的多孔膜，碳石墨穿插于碳纳米管多孔膜的内部间隙中，碳石墨和碳纳米管共同形成内部结构相对致密碳石墨/碳纳米管层，并在其表面沉积比弹性率高、弯曲刚性高和内阻尼高的类金刚石涂层，获得综合性能优异的振膜，该振膜具有良好声学效果、良好防潮性能、良好抗霉变性能、生产成本较低且制备方法简单。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
图1为本发明所示的振膜的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的机构或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
此外，下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
请参见图1，本发明所示的一种振膜1，包括中间层11以及涂覆在中间层两表面的涂层12，中间层11为碳石墨/碳纳米管层11，涂层为类金刚石涂层12。碳石墨/碳纳米管层包括碳石墨111和碳纳米管112，碳纳米管112为相互交织的结构，碳石墨111存在于相互交织的碳纳米管112的间隙中。其中，振膜1的厚度为54μm-216μm，碳石墨/碳纳米管层11的厚度为50μm-200μm，类金刚石涂层12的厚度为2μm-8μm。
碳纳米管是由单层或多层石墨态碳分子层卷曲形成的纳米管状物质，是一类重要的一维纳米材料。高长径比的碳纳米管相互交织可形成宏观形态为膜状、微观为空间网络结构的多孔膜。碳纳米管多孔膜可以作为其他不易成膜物质的载体，不易成膜的碳石墨穿插于碳纳米管多孔膜的内部间隙中，碳石墨和碳纳米管共同形成内部结构相对致密碳石墨/碳纳米管层，并在其表面沉积类金刚石涂层，通过合理控制碳石墨、碳纳米管、类金刚石三者的结合形态，可以获得综合性能优异的振膜。该振膜的材料组成为碳质，不存在有机物，故而不易发生霉变，此外，表面的类金刚石涂层具有显著的疏水性，使振膜获得良好的防潮性能。
本发明还提供了一种用以制备上述振膜的制备方法，制备方法如下：
S1、高温碳化-原位生长方法制备碳石墨/碳纳米管层，具体的，
a.将一定规格的基底金属表面打磨光滑平整，置于稀酸中进行酸洗刻蚀使表面毛化，而后再分别放入去离子水、无水乙醇和丙酮中进行超声清洗，真空干燥，备用，其中，基底金属可以为纯金属钴、或纯金属镍、或任意元素比例的镍-钴合金，在此不做限制，基底金属的规格大小在此也不做限制；
b.将0.5-5份的三聚氰胺和0.2-2份的蔗糖溶于50份的甘油中，用来配制喷涂液，备用；
c.将喷涂液喷涂至预处理过的基底金属表面，而后真空干燥使三聚氰胺和蔗糖在基底金属表面析出附着，三聚氰胺和蔗糖在基底金属表面析出附着的质量之和为300mg/cm2-800mg/cm2；
d.将表面析出附着有三聚氰胺和蔗糖的基底金属置于气氛炉中加热处理，热处理气氛为惰性气氛，热处理温度为700℃-1100℃，热处理时间为3h-8h，高温下使三聚氰胺和蔗糖裂解为碳石墨，同时在基底金属的催化作用下原位生长碳纳米管，其中，惰性气氛为纯氩气或纯氮气，热处理采用电磁感应加热方式加热；
e.热处理结束并冷却至室温后，将基底金属表面的黑色膜层直接揭下，获得碳石墨/碳纳米管层，碳石墨/碳纳米管层的厚度为50μm-200μm。
S2、高能脉冲磁控溅射方法在碳石墨/碳纳米管层两表面沉积类金刚石涂层，具体的，
g.将获得的碳石墨/碳纳米管层夹持于磁控溅射仪器的样品台表面，抽真空到1.0×10-3Pa以上真空度；
h.通入氩气，氩气进气流量为40sccm-800sccm，其后通入乙炔气体，乙炔气体进气流量为10sccm-50sccm，设置真空度为1Pa-2Pa；
i.样品台与磁控溅射靶之间的距离为12cm-18cm，样品台公/自转速度均为3r/min-8r/min；
j.打开溅射电源实施溅射，电源电流为1A-8A，电源占空比为40％-80％，电源频率为40kHz-100kHz，脉冲负偏压为200V-1000V，脉冲负偏压占空比为30％-60％，溅射时间为0.5h-5h得到类金刚石涂层，类金刚石涂层的厚度为2μm-8μm；
k.重复上述过程，在碳石墨/碳纳米管层的另一面也沉积相同的类金刚石涂层，类金刚石涂层的厚度为2μm-8μm，得到厚度为54μm-216μm的振膜。
关于振膜的制备方法，下面以具体实施例进行说明，
实施例一
S1、高温碳化-原位生长方法制备碳石墨/碳纳米管层，具体的，
a.将20mm×10mm×0.1mm的纯金属钴片表面用金相砂纸打磨光滑平整，置于5％稀盐酸中进行酸洗刻蚀使表面毛化，而后再分别放入去离子水、无水乙醇和丙酮中进行超声清洗，真空干燥，备用，
b.将2份的三聚氰胺和1份的蔗糖溶于50份的甘油中，用来配制喷涂液，备用；
c.将喷涂液喷涂至预处理过的纯金属钴片表面，而后真空干燥使三聚氰胺和蔗糖在基底金属表面析出附着，三聚氰胺和蔗糖在基底金属表面析出附着的质量之和为350mg/cm2；
d.将表面析出附着有三聚氰胺和蔗糖的纯金属钴片置于气氛炉中加热处理，热处理气氛为纯氩气，热处理温度为700℃，热处理时间为3h，热处理采用电磁感应加热方式加热；
e.热处理结束并冷却至室温后，将基底金属表面的黑色膜层直接揭下，获得碳石墨/碳纳米管层。
S2、高能脉冲磁控溅射方法在碳石墨/碳纳米管层两表面沉积类金刚石涂层，具体的，
g.将获得的碳石墨/碳纳米管层夹持于磁控溅射仪器的样品台表面，抽真空到1.0×10-3Pa以上真空度；
h.通入氩气，氩气进气流量为100sccm，其后通入乙炔气体，乙炔气体进气流量为20sccm，设置真空度为1.5Pa；
i.样品台与磁控溅射靶之间的距离为12cm，样品台公/自转速度均为3r/min；
j.打开溅射电源实施溅射，电源电流为2A，电源占空比为50％，电源频率为60kHz，脉冲负偏压为300V，脉冲负偏压占空比为40％，溅射时间为2h得到类金刚石涂层；
k.重复上述过程，在碳石墨/碳纳米管层的另一面也沉积相同的类金刚石涂层。
对最后得到的振膜样品进行动态弹性模量测试和密度测试，进而计算出振膜的比弹性率和损耗因子，具体结果见表1。
实施例二
与实施例一不同的是，在本实施例中，使用的基底金属为20mm×10mm×0.1mm的纯金属镍片，对最后得到的振膜样品进行动态弹性模量测试和密度测试，进而计算出振膜的比弹性率和损耗因子，具体结果见表1。
实施例三
与实施例一不同的是，在本实施例中，喷涂液的成分为4份的三聚氰胺和1.5份的蔗糖溶于50份的甘油中。将喷涂液喷涂至纯金属钴片表面，三聚氰胺和蔗糖在纯金属钴片表面析出附着的质量之和为600mg/cm2。热处理的温度为1000℃，热处理时间为6h。
高能脉冲磁控溅射制备类金刚石涂层时，氩气进气流量为400sccm，乙炔气体进气流量为40sccm，样品台与磁控溅射靶之间的距离为15cm，样品台公/自转速度均为5r/min。实施溅射时，电源电流为6A，电源占空比为60％，电源频率为80kHz，脉冲负偏压为500V，脉冲负偏压占空比为50％，溅射时间为4h。
对最后得到的振膜样品进行动态弹性模量测试和密度测试，进而计算出振膜的比弹性率和损耗因子，具体结果见表1。
实施例四
与实施例一不同的是，在本实施例中，高能脉冲磁控溅射制备类金刚石涂层时，氩气进气流量为400sccm，乙炔气体进气流量为40sccm，样品台与磁控溅射靶之间的距离为15cm，样品台公/自转速度均为5r/min。实施溅射时，电源电流为6A，电源占空比为60％，电源频率为80kHz，脉冲负偏压为500V，脉冲负偏压占空比为50％，溅射时间为4h。
对最后得到的振膜样品进行动态弹性模量测试和密度测试，进而计算出振膜的比弹性率和损耗因子，具体结果见表1。
表1.不同条件下获得的振膜样品的比弹性率和损耗因子
振膜样品 比弹性率×106(m2/s2) 损耗因子×10-2(tanθ)
实施例1 32.62 6.07
实施例2 28.41 5.45
实施例3 38.27 6.74
实施例4 42.52 5.11
综上，本发明获得的振膜包括碳石墨/碳纳米管层和类金刚石涂层，碳纳米管相互交织形成宏观形态为膜状、微观为网络结构的多孔膜，碳石墨穿插于碳纳米管多孔膜的内部间隙中，碳石墨和碳纳米管共同形成内部结构相对致密碳石墨/碳纳米管层，并在其表面沉积比弹性率高、弯曲刚性高和内阻尼高的类金刚石涂层，获得综合性能优异的振膜，该振膜具有良好声学效果、良好防潮性能、良好抗霉变性能、生产成本较低且制备方法简单。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (7)

1.一种振膜，其特征在于，所述振膜包括中间层以及涂覆在所述中间层两表面的涂层，所述中间层为碳石墨/碳纳米管层，所述碳石墨/碳纳米管层包括碳石墨和碳纳米管，所述碳纳米管为相互交织的结构，所述碳石墨存在于相互交织的所述碳纳米管的间隙中，所述碳石墨/碳纳米管层由高温碳化-原位生长方法制备形成，所述涂层为类金刚石涂层。
2.如权利要求1所述的振膜，其特征在于，所述振膜的厚度为54μm-216μm。
3.如权利要求1所述的振膜，其特征在于，所述碳石墨/碳纳米管层的厚度为50μm-200μm。
4.如权利要求1所述的振膜，其特征在于，所述类金刚石涂层的厚度为2μm-8μm。
5.一种用以制备权利要求1至4项中任一项所述的振膜的方法，其特征在于，所述方法如下：
S1、制备碳石墨/碳纳米管层，所述碳石墨/碳纳米管层的厚度为50μm-200μm；
S2、在所述碳石墨/碳纳米管层两表面沉积类金刚石涂层，所述类金刚石涂层的厚度为2μm-8μm。
6.如权利要求5所述的用以制备振膜的方法，其特征在于，所述类金刚石涂层由高能脉冲磁控溅射方法制备形成。
7.如权利要求6所述的用以制备振膜的方法，其特征在于，所述高能脉冲磁控溅射的条件为：电源电流为1A-8A，电源占空比为40%-80%，电源频率为40kHz-100kHz，脉冲负偏压为200V-1000V，脉冲负偏压占空比为30%-60%，溅射时间为0.5h-5h。
CN202010030527.4A 2020-01-13 2020-01-13 一种振膜及其制备方法 Active CN111163402B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010030527.4A CN111163402B (zh) 2020-01-13 2020-01-13 一种振膜及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010030527.4A CN111163402B (zh) 2020-01-13 2020-01-13 一种振膜及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111163402A CN111163402A (zh) 2020-05-15
CN111163402B true CN111163402B (zh) 2025-09-09

Family

ID=70562744

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010030527.4A Active CN111163402B (zh) 2020-01-13 2020-01-13 一种振膜及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111163402B (zh)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070041226A (ko) * 2005-10-14 2007-04-18 (주)케이에이치 케미컬 음향 진동판 및 이를 구비하는 스피커
KR20120057971A (ko) * 2010-11-29 2012-06-07 연세대학교 산학협력단 표면 강성 제어를 통한 내마모성 코팅 구조 및 그 제조방법
CN211047202U (zh) * 2020-01-13 2020-07-17 苏州涂冠镀膜科技有限公司 一种振膜

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003168355A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Sony Corp 電子放出体の製造方法、冷陰極電界電子放出素子の製造方法、並びに、冷陰極電界電子放出表示装置の製造方法
US7235912B2 (en) * 2002-03-08 2007-06-26 Chien-Min Sung Diamond-like carbon thermoelectric conversion devices and methods for the use and manufacture thereof
KR100767260B1 (ko) * 2005-10-31 2007-10-17 (주)케이에이치 케미컬 음향 진동판 및 이를 구비하는 스피커
US20100021736A1 (en) * 2008-07-25 2010-01-28 Slinker Keith A Interface-infused nanotube interconnect
CN105338453B (zh) * 2014-08-12 2018-10-30 福建省辉锐材料科技有限公司 一种振膜及其制备方法、球顶式扬声器

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070041226A (ko) * 2005-10-14 2007-04-18 (주)케이에이치 케미컬 음향 진동판 및 이를 구비하는 스피커
KR20120057971A (ko) * 2010-11-29 2012-06-07 연세대학교 산학협력단 표면 강성 제어를 통한 내마모성 코팅 구조 및 그 제조방법
CN211047202U (zh) * 2020-01-13 2020-07-17 苏州涂冠镀膜科技有限公司 一种振膜

Also Published As

Publication number Publication date
CN111163402A (zh) 2020-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI261045B (en) Composite nanofibers and their fabrications
US4772513A (en) Method for forming a hard carbon thin film on article and applications thereof
TWI539836B (zh) 揚聲器振膜結構及其製造方法
CN111883777A (zh) 一种复合集流体及其制备方法、锂电池极片
CN101990152B (zh) 热致发声装置及其制备方法
CN110205603B (zh) 多层石墨烯及其制备方法
CN105047958B (zh) 用于燃料电池金属极板的石墨烯复合涂层及其制备方法
CN102931421A (zh) 带有导电耐腐蚀镀层的燃料电池金属双极板及其制备方法
CN211047202U (zh) 一种振膜
CN111321380A (zh) 超疏水类金刚石复合层结构及其制备方法
CN115928017B (zh) 一种高导电耐蚀防护复合涂层及其制备方法与应用
CN111818425A (zh) 振膜、发声装置、麦克风组件及振膜制作方法
CN111163402B (zh) 一种振膜及其制备方法
CN111155302B (zh) 一种石墨烯复合碳纤维及其pecvd制备方法
CN115207388A (zh) 燃料电池金属极板用高延展预涂层纳米晶梯度薄板及制备
CN111841339A (zh) 一种用于氢气分离的复合膜及其制备方法和应用
CN1402589A (zh) 一种类金刚石复合扬声器振膜的制备方法
KR100592100B1 (ko) 마이크로 스피커의 진동판
CN115000444A (zh) 多层复合碳涂层及其制备方法、应用、燃料电池双极板、燃料电池
CN223428556U (zh) 一种振膜和热声薄膜扬声器
CN112165671A (zh) 一种扬声器使用的振膜及其制备方法
CN103763668B (zh) 一种mems传声器
CN223297700U (zh) 一种扬声器振膜
CN1093213A (zh) 制备类金刚石复合振膜的方法
JPS59143498A (ja) スピ−カ−用振動板およびその製造法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant