CN118039720B - 一种绝缘型高反射的光伏反光膜及其制备方法和在光伏中的应用 - Google Patents
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Abstract
本发明属于反光膜领域,具体公开了一种绝缘型高反射的光伏反光膜及其制备方法和在光伏中的应用,反光膜从上而下依次设置保护层、绝缘层、第一反光层、第一结构层、基材层、第二反光层、第二结构层和胶黏层;基材层上表面为平面,下表面为内凹结构表面;第一结构层为微棱镜结构,设置在基材层的平面上方;第一反光层设置在第一结构层上方;在第一反光层上方设置绝缘层,在绝缘层上方设置保护层;在基材层的内凹结构表面下方设置第二反光层,在第二反光层下方设置带光扩散粒子的第二结构层,第二结构层下方设置胶黏层。制备得到的反光膜绝缘效果佳,同时正面保护层硬度高,抗刮性好,各层协同提升反光膜的反射率,反光膜产品反射率达95%以上。
Description
技术领域
本发明属于光伏反光膜制备领域,具体涉及了一种绝缘型高反射的光伏反光膜及其制备方法。
背景技术
太阳能光伏组件,目前是清洁高效能源中占比较重的行业,其能转换太阳能为电能,清洁无污染。而同等条件下直观的区分产品的优劣,可以通过太阳光的照射面积决定。这样组件内电池片间隙的再次利用就显得尤为重要。
目前业务已经开始利用间隙反光贴膜,贴敷于电池片间隙内,但是常规的反光膜,结构单一,不耐紫外老化,产品易黄变,同时反光层不绝缘,影响电池片内的电子收集,影响电流输出,反射率低,使用寿命低。
申请号为CN202311639799.4 一种光伏电池间隙反光膜的制备方法,涉及太阳能光伏技术领域。该反光膜提供一种光伏电池间隙反光膜的高效率制备方法,所述光伏电池间隙反光膜包括基材层、形成在所述基材层任一表面上的粘结层、形成在所述基材层另一表面上的微结构层、形成在所述微结构层外表面的Al反射层以及形成在所述Al反射层外表面的第二反射层。一方面通过将基材层和微结构层通过以共挤流延的方式进行制作,这样能够减少覆膜的步骤而有效提高其生产效率;另外,在Al反射层的外表面还形成对其起到保护作用的第二反射层,该第二反射层还成为电介质反射层,有利于进一步提高光反射的效果。然而,共挤方式形成的微结构层,在组件层压的工序,高温高压下,极易倒塌形变,降低金属反光层的反光效果;而且,第二反射层为单一的二氧化硅材质,虽然有部分二次反射效果,单一的二氧化硅容易对第一反射层产生下方反射效果,损失第一反射层的效果,同时绝缘效果不佳。
发明内容
针对背景技术中的问题,本发明提供了一种绝缘型高反射的光伏反光膜及其制备方法。
为了达到上述技术目的,本发明采用的技术方案为:
一种绝缘型高反射的光伏反光膜,光伏反光膜从上而下依次设置保护层、绝缘层、第一反光层、第一结构层、基材层、第二反光层、第二结构层和胶黏层;
所述基材层上表面为平面,下表面为内凹结构面;所述第一结构层为微棱镜结构,第一结构层设置在基材层平面上方;第一结构层上方设置第一反光层;在第一反光层上方设置绝缘层,在绝缘层上方设置保护层;在基材层的内凹结构表面下方设置第二反光层,在第二反光层下方设置带光扩散粒子的第二结构层,第二结构层下方设置胶黏层。
绝缘型高反射的光伏反光膜的具体制备方法为:
(1)基材层制作,将基材母粒通过高温多层流延共挤,通过带半圆凸状的金属辊轮,得到上表面为平面,下表面为内凹结构的基材层;
(2)制作微棱镜结构金属镀铬模具,通过激光微纳米雕刻,得到带微棱镜结构的圆筒状的模具;
(3)在带微棱镜结构的圆筒状的模具表面通过UV树脂进行转印,在基材层的光滑表面光固化得到相应的微棱镜结构,得到第一结构层;光固化能量在300~400mj/cm2;
(4)使用真空喷镀或真空电镀工艺,在第一结构层上方制备第一反光层,以及在基材层带有内凹结构表面的下方制备第二反光层;
(5)第一反光层的上方通过微凹涂布工艺涂布一层绝缘层,涂布速度为35~40m/min,微凹涂布工艺后进入烘箱,车速35~40m/min,烘箱温度50℃/60℃/80℃/90℃/70℃/50℃;绝缘层涂料配方为绝缘树脂、乙酸乙酯和流平剂按质量比5~6:3~4:0.5称取,配置后的混合涂料的固含在8~10%,固化后得到绝缘层,厚度为0.5~5.0μm。
(6)在绝缘层上方表面,通过UV辊轮转印方式,将抗刮的高折射率树脂通过带内凹的镜面辊涂布,填充绝缘层,得到保护层,厚度为10~15um;
(7)在第二反光层的下方,通过微凹涂布及烘箱热固工艺,涂布带光扩散粒子的涂料,固化得到第二结构层,厚度为15~20um;带光扩散粒子的涂料配方为:光扩散粒子、聚氨酯丙烯酸树脂、固化剂、乙酸乙酯和流平剂按照质量比10~12:4~5:0.4~0.5:3~4:0.4~0.5,配置后的混合涂料的固含在30~35%,微凹涂布工艺,烘箱的车速35~40m/min;
(8)第二结构层的下方通过流延共挤处理得到胶黏层,胶黏材料熔融温度65~80℃,胶黏层厚度为50~100um。
(9)通过分切卷绕设备,得到所需宽度的反光膜,使用时通过80~90℃高温贴敷在背板或玻璃表面。
进一步,基材层为聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、PVC薄膜或聚酰亚胺薄膜;基材层厚度为10~75um。作为优选,基材的表面带内凹型结构,内凹直径10~25um,高度5~10um,相邻两个内凹接触设置。
进一步,第一结构层为微棱镜结构,微棱镜结构由若干个等高或一高多低的微棱镜组成,棱镜顶角100~140°,优选120°,截面为等腰三角形。微棱镜结构的棱镜层Pitch值为25~55um。
进一步,第一反光层、第二反光层为反光金属镀层,金属优选铝、银中一种或两者混合金属组成,纯度99.99%。还可以加入氧化硅,得到反光金属-氧化硅镀层;氧化硅加入量为金属质量的8~10%;反光金属镀层使用真空喷镀或真空电镀工艺制备得到。
作为优选,第一反光层的光密度为2.5~3.0,反射率为90%~95%,第一反光层厚度为500~600埃(A);第二反光层的光密度为2.0~2.5,反射率为85~90%,第二反光层厚度为400~500埃(A)。
反光层制备方法通过化学镀、蒸镀、喷镀方法获得。具体为将正面完成第一结构层后的产品转移至镀膜机的真空室,真空度1.5~3.5×10-3Pa、250~350sccm流量的Ar气氛下,以20~25A的电流进行磁控溅射以在第一结构层上形成厚度为500~600A的第一反光层;同时在基材层的下方,同样通过以15~20A的电流进行磁控溅射,得到400~500A的第二反光层;车速控制在100~200m/min。
进一步,保护层是通过金属镜面辊涂布工艺,使用1.55以上折射率的丙烯酸树脂,将绝缘层结构填充,表面硬度达到H,抗刮达到2000g。如:杭州昊美成新材料科技有限公司,HHQ-551等符合折射率要求的树脂,具体来源不作特定限定。
进一步,绝缘层表面的电阻为1013.5Ω以上;绝缘层是采用绝缘涂料、乙酸乙酯和流平剂按质量比5~6:3~4:0.5配置后的混合涂料制备得到;绝缘涂料优选UV型涂料;如广州鼎立森新材料UV型DSU-9190。
进一步,第二结构层是通过微凹烘箱涂布工艺,将含有光扩散粒子的树脂浆料涂布在第二反光层下方,固化得到第二结构层。带光扩散粒子的涂料配方为光扩散粒子、聚氨酯丙烯酸树脂、固化剂、乙酸乙酯和流平剂按照质量比10~12:0.4~0.5:4~5:3~4:0.4~0.5,配置后的混合涂料的固含在30~35%,微凹涂布工艺,烘箱的车速35~40m/min,烘箱热固优选6节烘箱温度50℃/60℃/80℃/90℃/70℃/50℃;50~60℃为溶剂挥发温度,80~90℃为热固化温度,70~50℃为冷却下降温度;
作为优选:光扩散粒子是由粒径3um/5um/10um/15um/20um按质量比例为5:3:2:1:1混合得到,光扩散粒子为聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚甲基丙烯酸正丁酯(PBMA)和聚氨酯(PU)中的一种或多种。本发明的光扩散粒子起到雾化光线的作用时,兼顾光线透过率,减少光路损失,同时具备1.40以上高折射率,还能提高整体的耐压与韧性效果。
进一步,胶黏层为将EVA胶黏层。
与现有技术相比,本发明的有益效果为:
本发明通过在绝缘层上方使用高折射率树脂形成保护层技术方案,解决了产品抗压抗形变问题技术问题,达到了产品稳定性的技术效果。通过背面设置反光层,对背面进行反射与阻隔作用,提升了整体反射率,对聚合物基层进行保护,整体产品耐紫外老化,不会黄变,提升了产品使用寿命。使制备的反光膜的正面背面电阻在1013.5Ω以上,绝缘效果佳,上下多层协同反射,最终产品反射率达95%以上,光伏组件贴敷后,较空白玻璃功率增加5%以上,单晶N型TOPCon双玻组件常规560~650W,增加10~12W,大幅优于目前市面上的7~8W,同时正面硬度高,抗刮。
本发明正面的反光物质为金属或混合金属反光层,再设置高折射率树脂的保护层,这样反射光线可以通过折射进行聚拢,增加反射率。同时增加了反面的内凹反射结构,提升反射率,正面反射率可以达到95~98%。
本发明背面增加了反面的内凹反射,同时使用高折射率树脂混合扩散粒子进行提升反射率,背面反射率可以超过80~85%,提高光伏反光膜的应用领域,不受光线路径影响,可以实现光线回归原路全反射。同时特定不同粒径扩散粒子混合而成,为正面也起到反射光线作用,整体反射率可以极大的提升。
附图说明
图1为实施例1绝缘型高反射的光伏反光膜的结构图。
图2为实施例2绝缘型高反射的光伏反光膜的结构图。
图中:1、保护层,2、绝缘层,3、第一反光层,4、第一结构层,5、基材层,6、第二反光层,7、第二结构层,8、胶黏层。
具体实施方式
结合以下具体实施例,对本发明作进一步的详细说明,本发明的保护范围不局限于以下实施例。实施本发明的过程、条件、试剂、实验方法等,除以下专门提及的内容之外,均为本领域的普遍知识和公知常识,本发明没有特别限制内容。
实施例1,一种绝缘型高反射的光伏反光膜,从上而下依次设置的保护层1、绝缘层2、第一反光层3、第一结构层4、基材层5、第二反光层6、第二结构层7和胶黏层8。具体制备方法为:
步骤一:基材层制作,将聚酰亚胺薄膜基材母粒通过高温流延共挤,同时通过带半圆凸状的金属辊轮,得到上表面为平面,下表面为内凹结构的基材;其中内凹结构为:内凹半径25um,高度10um;具体为:高温流延共挤条件高温280℃,挤出后,通过纵向快速拉伸,将厚度2mm的膜拉伸至0.5mm,再通过横向拉伸拉伸至0.05mm,经过上下带凸版结构的钢辊,再经过冷却辊20℃快速冷却定型。
步骤二:制作相应微棱镜结构金属镀铬模具,通过激光微纳米雕刻,得到圆筒状的模具;微棱镜结构具体为棱镜层的pitch值25um,棱镜顶角120°,等腰三角形,三角形为等高结构。
步骤三:使用UV固化,在结构模具表面通过UV聚氨酯丙烯酸树脂进行转印,将树脂加入在PET基材上,通过模具与橡胶辊中间,底部为UV灯,瞬间固化与脱模,在基材层光滑表面固化得到相应的微棱镜结构,为第一结构层,光固化能量在300mj/cm2。
步骤四:在第一结构层正面采用真空蒸镀的方法制备得第一反光层,第一反光层的具体成分为铝和氧化硅,氧化硅添加量为铝质量的10%,厚度为600A,制备得到第一反光层的光密度3.0,反射率95%。以及在基材层内采用真空蒸镀方法制备凹背面制备得第二反光层,具体成分为铝和氧化硅,氧化硅添加量为铝质量的10%,厚度为500A,第二反光层的光密度2.5,反射率90%。
步骤五:在第一反光层的表面通过微凹涂布,涂布一层绝缘层,其中绝缘涂料配方为UV型改性烯酸酯聚合物(UV型DSU-9190,广州鼎立森新材料)、乙酸乙酯和流平剂质量比为5:4:0.5,配置后的混合涂料的固含在10%,微凹涂布工艺后进入烘箱,6节烘箱温度50/60/80/90/70/50℃,车速35m/min;绝缘层厚度为5μm。绝缘涂料的固化条件是指UV汞灯固化能量300mj/cm2进行固化。
步骤六:在绝缘层表面,通过UV辊轮转印方式,将抗刮的1.55折射率的丙烯酸树脂(厂家型号为杭州昊美成新材料科技有限公司,HHQ-551)通过带内凹的镜面辊涂布填充绝缘层,固化后得到保护层;保护层的厚度为15um。
步骤七:在基材层背面通过微凹涂布及烘箱热固工艺,涂布一层带PMMA微珠的第二结构层,其中涂料配方为PMMA微珠+聚氨酯丙烯酸树脂+固化剂+乙酸乙酯+流平剂(质量比)=12:5:0.5:4:0.5;其中PMMA微珠是将粒径3um、5um、10um、15um和20umPMMA微珠按质量比5:3:2:1:1混合得到,配置后的混合胶水的固含在35%,微凹涂布工艺,烘箱温度50/60/80/90/70/50℃,车速35m/min;第二结构层的厚度为20um。
步骤八:第二结构层的表面通过流延共挤处理得到EVA胶黏层,材料熔融温度70℃,厚度60um。通过分切卷绕设备,得到光伏反光膜产品。
实施例1制备的绝缘型高反射的光伏反光膜的绝缘性电阻1014Ω、表面硬度2H、抗刮性2000g;整体反射率97.5%,背面反射率90%。
上述绝缘性电阻是按照GB∕T 33398-2016规定的方法进行测试;表面硬度是按照GB∕T 6739 -2006规定的方法进行测试;整体反射率、背面反射率是按照GBT 27583-2011规定的方法进行测试。
实施例2,一种绝缘型高反射的光伏反光膜,从上而下依次设置的保护层1、绝缘层2、第一反光层3、第一结构层4、基材层5、第二反光层6、第二结构层7和胶黏层8。具体制备方法为:
步骤一:基材层制作,将聚酰亚胺薄膜基材母粒通过高温流延共挤,同时通过带半圆凸状的金属辊轮,得到上表面为平面,下表面为内凹结构的基材;其中内凹半径25um,高度10um;具体为:高温流延共挤条件高温280℃,挤出后,通过纵向快速拉伸,将厚度1mm的膜拉伸至0.3mm,再通过横向拉伸拉伸至0.02mm,经过上下带凸版结构的钢辊,再经过冷却辊20℃快速冷却定型。
步骤二:制作相应微棱镜结构金属镀铬模具,通过激光微纳米雕刻,得到圆筒状的模具;微棱镜结构具体为棱镜按1高2低依次排布,高棱镜的pitch值27um,低棱镜的pitch值25um,棱镜顶角120°,等腰三角形。
步骤三:使用UV固化,在结构模具表面通过UV聚氨酯丙烯酸树脂进行转印,将树脂加在PET基材上,通过模具与橡胶辊中间,底部为UV灯,瞬间固化与脱模,在基材层光滑表面固化得到相应的微棱镜结构,即为第一结构层,光固化能量在300mj/cm2。
步骤四:在第一结构层正面采用真空蒸镀的方法制备得第一反光层,第一反光层的具体成分为铝+氧化硅,氧化硅添加质量为10%,厚度为600A,制备得到第一反光层的光密度3.0,反射率95%,在基材层内采用真空蒸镀方法制备凹背面制备得第二反光层,具体成分为铝+氧化硅,氧化硅添加质量为10%,厚度为500A,第二反光层的光密度2.5,反射率90%。
步骤五:在第一反光层的表面通过微凹涂布,涂布一层绝缘层,其中绝缘涂料配方为UV型改性烯酸酯聚合物(UV型DSU-9190,广州鼎立森新材料)、乙酸乙酯和流平剂质量比为5:4:0.5,配置后的混合胶水的固含在10%,微凹涂布工艺后进入烘箱,烘箱温度50/60/80/90/70/50℃,车速35m/min;绝缘层厚度为5μm。绝缘涂料的固化条件是指UV汞灯固化能量300mj/cm2。
步骤六:在绝缘层表面,通过UV辊轮转印方式,将抗刮的1.55折射率的丙烯酸树脂(厂家型号为杭州昊美成新材料有限公司,HHQ-551)通过带内凹的镜面辊涂布填充绝缘层,得到保护层;保护层的厚度为15um。
步骤七:在基材层背面通过微凹涂布及烘箱热固工艺,涂布一层带PMMA微珠的第二结构层,其中涂料配方为PMMA微珠+聚氨酯丙烯酸树脂+固化剂+乙酸乙酯+流平剂(质量比)=12:5:0.5:4:0.5;其中PMMA微珠是按照粒径3um、5um、10um、15um和20umPMMA微珠按质量比5:3:2:1:1混合得到,配置后的混合胶水的固含在35%,微凹涂布工艺,烘箱温度50/60/80/90/70/50℃,车速35m/min;第二结构层的厚度为20um。
步骤八:第二结构层的表面通过流延共挤处理得到EVA胶黏层,材料熔融温度70℃,厚度60um。最终得到此产品。
实施例2制备的绝缘型高反射的光伏反光膜的绝缘性电阻1014Ω、表面硬度2H、抗刮性2000g;整体反射率98%,背面反射率89.5%。
上述绝缘性电阻是按照GB∕T 33398-2016规定的方法进行测试;表面硬度是按照GB∕T 6739 -2006规定的方法进行测试;整体反射率、背面反射率是按照GBT 27583-2011规定的方法进行测试。
对比例1,对比例1主要参考CN202311061652.1结构制备光伏反光膜,具体结构层为第一反光层、第一结构层、基材层(下表面为内凹结构的基材)、第二反光层、和胶黏层,各层的制备方法和条件同实施例1。
对比例1制备的反光膜检测后的各参数为电阻103Ω、表面硬度F、抗刮性500g,实际检测后背面反射率50%。
对比例2,对比例2与实施例1相比,区别在于:步骤一未采用带半圆凸状的金属辊轮制备内凹结构。即基材两面均为平面,其它操作与实施例1相同。
对比例2的整体反射率为85%,背面组件表面反射率10%,平面即未带角度反射。
对比例3,对比例3与实施例1相比,区别在于:未设置保护层,其它操作与实施例1相同。
对比例3的性能为各参数为电阻1014Ω,表面硬度B,抗刮性500g,整体反射率85%,这是由于保护层存在高折射率树脂,可以形成聚光效果进行再反射,避免光线散射损失。
对比例4,对比例4与实施例1相比,区别在于:涂料配方为PMMA微珠+聚氨酯丙烯酸树脂+固化剂+乙酸乙酯+流平剂(质量比)=12:5:0.5:4:0.5;其中PMMA微珠是将粒径3um、5um、10um、15um和20umPMMA微珠按质量比9:1:1:0.5:0.5混合得到。
对比例4中涂料微珠粒径与实施例1不同。对比例4的3um粒子增加后,雾度提升,但是光线透过率下降。
对比例4的整体反射率为88%,背面反射率为65%。
对比例5,对比例5与实施例1相比,区别在于:第二结构层设置位置与本发明不同。
对比例5从上而下依次设置的:保护层、绝缘层、第一反光层、第一结构层、基材层、第二结构层、第二反光层和胶黏层,各层的制备方法同实施例1。
对比例5先制备第二结构层,再制备第二反光层,导致第二结构层的透光与散射光线效果消失;最终对比例5的整体反射率为86%,背面反射率为55%。
从上述实施例和对比例可知,本发明实施例1、实施例2的正面整体反射率达到95%以上。背面增加了反面的内凹反射,同时使用高折射率树脂混合扩散粒子进行提升反射率,不仅使背面反射率可以超过85%以上,而且绝缘性性好,抗抗刮性佳,有利于使用寿命提高。对比例1中正面未设置保护层和绝缘层,绝缘性能和抗刮性变差,背面未使用高折射率树脂混合扩散粒子,背面的反射率明显降低。对比例2中未采用带半圆凸状的金属辊轮制备内凹结构,不仅降低背面组件表面反射率,对整体反射率也有影响。对比例3未设置保护层表面硬度、抗刮性下降,也会导致光线损失,由于保护层存在高折射率树脂,可以形成聚光效果进行再反射,避免光线散射损失。对比例4第二结构层的涂料微珠粒径中3um占比提高,雾度提升,但是光线透过率下降。对比例5先制备第二结构层,再制备第二反光层,导致第二结构层的透光与散射光线效果消失;最终整体反射率和背面反射率均降低。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (12)
1.一种绝缘型高反射的光伏反光膜,其特征在于:光伏反光膜从上而下依次设置保护层、绝缘层、第一反光层、第一结构层、基材层、第二反光层、第二结构层和胶黏层;
所述基材层上表面为平面,下表面为内凹结构表面;所述第一结构层为微棱镜结构,第一结构层设置在基材层平面上方;在基材层的内凹结构表面下方设置第二反光层,在第二反光层下方设置第二结构层,第二结构层中含光扩散粒子;第一反光层、第二反光层为反光金属镀层或反光金属-氧化硅镀层。
2.根据权利要求1所述绝缘型高反射的光伏反光膜,其特征在于:所述微棱镜结构是由若干个等高或一高多低的微棱镜组成,棱镜顶角100~140°,等腰三角形,单个微棱镜结构的Pitch值为25~55um。
3.根据权利要求1所述绝缘型高反射的光伏反光膜,其特征在于:所述第一反光层的光密度为2.5~3.0,反射率为90%~95%,第一反光层厚度为500~600埃;所述第二反光层的光密度为2.0~2.5,反射率为85~90%,第二反光层厚度为400~500埃。
4.根据权利要求3所述绝缘型高反射的光伏反光膜,其特征在于:所述反光金属为铝、银中一种或两者混合组成;反光金属-氧化硅镀层中氧化硅加入量为金属质量的8~10%。
5.根据权利要求1所述绝缘型高反射的光伏反光膜,其特征在于:所述基材层为聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚氯乙烯薄膜或聚酰亚胺薄膜;基材下表面的内凹结构的内凹直径为10~25um,高度为5~10um,相邻两个内凹接触设置。
6.根据权利要求1所述绝缘型高反射的光伏反光膜,其特征在于:所述第二结构层是将含有光扩散粒子的树脂浆料涂布在第二反光层下方;光扩散粒子是由粒径3um/5um/10um/15um/20um微珠按质量比5:3:2:1:1混合得到;光扩散粒子材质为PMMA、PBMA和PU中的一种或多种;第二结构层的厚度为15~20um。
7.根据权利要求1所述绝缘型高反射的光伏反光膜,其特征在于:所述胶黏层为EVA胶黏层,厚度为50~100um。
8.根据权利要求1所述绝缘型高反射的光伏反光膜,其特征在于:所述绝缘层表面的电阻为1013.5Ω以上,绝缘层的厚度为0.5~5.0μm。
9.根据权利要求1所述绝缘型高反射的光伏反光膜,其特征在于:所述保护层是使用折射率1.55以上的丙烯酸树脂制备得到,保护层表面硬度达到2H以上,抗刮达到2000g以上,保护层的厚度为10~15um。
10.根据权利要求1-9任一项所述绝缘型高反射的光伏反光膜的制备方法,其特征在于:制备包括如下步骤:
(1)基材层制作,将基材母粒通过高温多层流延共挤,通过带半圆凸状的金属辊轮,得到上表面为平面,下表面为内凹结构的基材层;
(2)制作微棱镜结构金属镀铬模具,通过激光微纳米雕刻,得到带微棱镜结构的圆筒状的模具;
(3)在带微棱镜结构的圆筒状的模具表面通过UV树脂进行转印,在基材层平面表面光固化得到微棱镜结构,即第一结构层;
(4)使用真空喷镀或真空电镀工艺,在第一结构层上方制备第一反光层,在基材层带有内凹结构表面的下方制备第二反光层;
(5)在第一反光层上方通过微凹涂布工艺涂布绝缘涂料制备绝缘层,微凹涂布工艺后进入烘箱工艺,车速35~40m/min,固化后得到绝缘层;
(6)在绝缘层上方表面,通过UV辊轮转印方式,将抗刮的高折射率树脂通过带内凹的镜面辊涂布填充绝缘层,得到保护层;
(7)在第二反光层的下方通过微凹涂布及烘箱热固工艺,涂布带光扩散粒子的涂料,固化后得到第二结构层;带光扩散粒子的涂料配方为光扩散粒子、聚氨酯丙烯酸树脂、固化剂、乙酸乙酯和流平剂按照质量比10~12:4~5:0.4~0.5:3~4:0.4~0.5称取,配置后的混合涂料的固含在30~35%,微凹涂布工艺,烘箱的车速35~40m/min,热固温度为80~90℃;
(8)第二结构层的下方通过流延共挤处理得到胶黏层,胶黏材料熔融温度65~80℃;
(9)通过分切卷绕设备,得到反光膜。
11.根据权利要求10所述绝缘型高反射的光伏反光膜的制备方法,其特征在于:其中绝缘层涂料配方为绝缘树脂、乙酸乙酯和流平剂按质量比5~6:3~4:0.5配置后的混合涂料。
12.根据权利要求10所述方法制备的绝缘型高反射的光伏反光膜在光伏组件中的应用。
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