CN117560867A - 一种装饰基板及其制备方法和应用 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种装饰基板及其制备方法和应用。装饰基板包括基材和设置在基材表面的纹理层，纹理层表面具有多个呈阵列排布的凸起，第一方向为纹理层表面所在的平面内的任一方向；凸起包括凸起底面和顶点，在第一方向上，多个凸起的顶点在凸起底面的投影相对凸起底面的中心点的距离逐渐变化；和/或在第一方向上，多个凸起的顶点相对凸起底面的高度逐渐变化。该装饰基板在不同的观察视角下具有不同的颜色渐变，从而呈现出良好的装饰效果。

Description

一种装饰基板及其制备方法和应用

技术领域

本申请涉及装饰技术领域，具体涉及一种装饰基板及其制备方法和应用。

背景技术

渐变色装饰膜作为一种新型装饰材料，广泛应用于电子设备等领域，然而现有的渐变色装饰膜主要是通过镀膜的方法实现颜色变化，渐变色的色彩变化受限于镀膜的结构，颜色渐变较为固定且单一，而且渐变色装饰膜在不同的角度看，都是相同的渐变色，颜色变化不够立体，无法满足消费者的需求。

发明内容

为解决上述问题，本申请提供了一种装饰基板，该装饰基板在不同的视角下观察都具有不同的颜色渐变，从而呈现出良好的装饰效果。

本申请第一方面提供了一种装饰基板，所述装饰基板包括基材和设置在所述基材表面的纹理层，所述纹理层表面具有多个呈阵列排布的凸起，第一方向为所述纹理层表面所在的平面内的任一方向；

所述凸起包括凸起底面和顶点，在所述第一方向上，多个所述凸起的顶点在所述凸起底面的投影相对所述凸起底面的中心点的距离逐渐变化；

和/或在所述第一方向上，多个所述凸起的顶点相对所述凸起底面的高度逐渐变化。

本申请的纹理层中多个凸起具有规律的变化结构，使得光线能够在不同结构的凸起中发生反射、散射、折射等作用，进而反射出不同强度的光，呈现出明暗的变化，且散射出不同的颜色，呈现出渐变色的效果。该结构的装饰基板在不同的观察视角下能够呈现出动态的颜色变化，即具有实时变化的渐变效果，极大地提升了装饰效果。

可选地，在第一方向上，多个所述凸起的顶点相对所述凸起底面的高度逐渐变化；所述第一方向上每1cm的距离内，多个所述凸起的顶点相对所述凸起底面的高度变化量为0.2μm～6μm。

可选地，所述凸起底面包括多边形或圆形中的任意一种；在第一方向上，多个所述凸起的顶点在所述凸起底面的投影相对所述凸起底面的中心点的距离逐渐变化；所述第一方向上每1cm的距离内，多个所述凸起的顶点在所述凸起底面的投影相对所述凸起底面的中心点的距离变化量为1μm～200μm。

可选地，相邻所述凸起之间的距离为1μm～10mm。

可选地，所述凸起底面的形状为圆形，所述凸起底面的半径为1μm～10mm。

可选地，所述凸起底面的形状为多边形，所述凸起底面的外接圆的半径为1μm～10mm。

可选地，所述凸起底面的形状为圆形，所述凸起底面的半径与相邻所述凸起之间的间距的比值为(2～3):1。

可选地，所述凸起底面的形状为多边形，所述凸起底面的外接圆的半径与相邻所述凸起之间的间距的比值为(2～3):1。

可选地，所述凸起的顶点相对所述凸起底面的高度为0.1μm～20μm。

可选地，所述凸起底面的形状为圆形，多个所述凸起底面的半径在第二方向上逐渐变化，所述第二方向为所述纹理层表面所在的平面内的任一方向。

可选地，所述凸起底面的形状为多边形，多个所述凸起底面的外接圆的半径在第二方向上逐渐变化；所述第二方向为所述纹理层表面所在的平面内的任一方向。

可选地，所述凸起底面为多边形，且多个所述凸起底面具有第一阵列方向和第二阵列方向，第一阵列方向与第二阵列方向垂直，多个所述凸起底面具有相对于第一阵列方向或相对于第二阵列方向渐变的相对旋转角度。

可选地，所述凸起的侧面为平面、直线面或曲线面中的任意一种。

可选地，所述装饰基板还包括修饰层，所述修饰层包括显色层、磨砂层和闪光层中的一种或多种，所述修饰层设置在所述纹理层和/或所述基材的表面。

本申请第二方面提供了一种装饰基板的制备方法，包括以下步骤：

在基材表面形成纹理层，得到所述装饰基板，所述纹理层的制备方法包括转印、刻蚀和热压成型中的一种或多种；所述纹理层表面具有多个呈阵列排布的凸起；第一方向为所述纹理层表面所在的平面内的任一方向；

所述凸起包括凸起底面和顶点，在所述第一方向上，多个所述凸起的顶点在所述凸起底面的投影相对所述凸起底面的中心点的距离逐渐变化；

和/或在所述第一方向上，多个所述凸起的顶点相对所述凸起底面的高度逐渐变化。

本申请提供的制备方法简单易操作，工艺成熟，便于工业化生产。

本申请第三方面提供了一种盖板，所述盖板包括如第一方面所述的装饰基板和基体，所述装饰基板设置在所述基体表面。

本申请第四方面提供了一种电子设备，所述电子设备包括如第三方面所述的盖板。

附图说明

图1为本申请一实施例提供的装饰基板的结构示意图；

图2为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图3为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图4为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图5为本申请一实施例提供的不同形状凸起的结构示意图，其中，图5中(a)为直棱状凸起的结构示意图，图5中(b)和(c)为曲棱状凸起的结构示意图；

图6为本申请一实施例提供的曲线阵列的结构示意图，其中，图6中(a)为凸起沿S形方向上阵列排布的结构示意图，图6中(b)为凸起沿M形方向上阵列排布的结构示意图；

图7为本申请一实施例提供的环形阵列的结构示意图；

图8为本申请一实施例提供的凸起的立体结构示意图；

图9为本申请一实施例提供的凸起的底面结构示意图；

图10为本申请一实施例提供的凸起结构变化示意图；

图11为本申请一实施例提供的凸起结构变化示意图；

图12为本申请一实施例提供的凸起结构变化示意图；

图13为本申请一实施例提供的凸起顶点位置变化示意图，其中，图13中(a)为多个凸起的排布示意图，图13中(b)为多个凸起的结构示意图；

图14为本申请一实施例提供的凸起顶点位置变化示意图，其中，图14中(a)为多个凸起的排布示意图，图14中(b)为多个凸起的结构示意图；

图15为本申请一实施例提供的凸起顶点高度变化示意图，其中，图15中(a)为多个凸起的排布示意图，图15中(b)为多个凸起的结构示意图；

图16为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图17为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图18为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图19为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图20为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图21为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图22为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图23为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图24为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图25为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图；

图26为本申请一实施例提供的电子设备的结构示意图；

图27为本申请实施例1提供的装饰基板的俯视图；

图28为本申请实施例1提供的装饰基板的效果示意图；

图29为本申请实施例2提供的装饰基板的俯视图；

图30为本申请实施例2提供的装饰基板的效果示意图；

图31为本申请实施例3提供的装饰基板的俯视图；

图32为本申请实施例4提供的装饰基板的俯视图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

请参阅图1，图1为本申请一实施例提供的装饰基板的结构示意图，装饰基板包括基材20和设置在基材20表面的纹理层10，其中，基材包括塑胶、金属、陶瓷、玻璃中的一种或多种。请参阅图2，图2为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，纹理层10表面具有多个呈阵列排布的凸起11，其中，阵列方向包括第一阵列方向和第二阵列方向。本申请中，凸起的底面指的是凸起靠近纹理层的一侧表面，凸起的顶点指的是凸起在远离纹理层的表面上到纹理层距离最大的点，请参阅图8，图8为本申请一实施例提供的凸起的立体结构示意图，其中，凸起的顶点为凸起相对凸起底面的最高点。本申请实施方式中，凸起底面的形状包括多边形或圆形中的任意一种，多边形可以是正多边形也可以是不规则的多边形，如图2所示的凸起，其底面为四边形。请参阅图3，图3为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，图3中，凸起的底面为五边形。请参阅图4，图4为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，图4中，凸起的底面为六边形。

本申请实施方式中，凸起的侧面可以是平面、直线面或曲线面中的任意一种。请参阅图5，图5为本申请一实施例提供的不同形状凸起的结构示意图，图5中(a)为直棱状凸起的结构示意图，图5中(b)和(c)为曲棱状凸起的结构示意图，具体的，(a)、(b)、(c)中凸起的底面均为四边形，凸起的结构均为四棱锥，其区别在于，(a)中四棱锥的棱线为直线，棱锥的侧面为平面，(b)中四棱锥的棱线为上凸的弧线，棱锥的侧面为曲线面，(c)中四棱锥的棱线为下凸的弧线，棱锥的侧面为曲线面。

本申请一些实施方式中，多个凸起形成的阵列结构可以是环形阵列、矩形阵列或曲线阵列中的任意一种，相对的，阵列方向包括直线方向、曲线方向或圆周方向中的任意一种。矩形阵列的示意图如图2所示。请参阅图6，图6为本申请一实施例提供的曲线阵列的结构示意图，其中，图6中(a)为凸起沿S形方向上阵列排布的结构示意图，即凸起的阵列方向为S形曲线，图6中(b)为凸起沿M形方向上阵列排布的结构示意图，即凸起的阵列方向为M形曲线。请参阅图7，图7为本申请一实施例提供的环形阵列的结构示意图。

为清楚地表述本申请的方案，对本申请一些名词解释如下：

凸起底面的中心点：当凸起的底面为圆形时，凸起底面的中心点为圆形的圆心；当凸起的底面为多边形时，凸起底面的中心点为多边形外接圆的圆心。

凸起底面的尺寸：当凸起的底面为圆形时，凸起底面的尺寸为圆形的半径；当凸起的底面为多边形时，凸起底面的尺寸为多边形外接圆的半径。

本申请中，在第一方向上，多个凸起的顶点位置逐渐发生变化，该变化可以是凸起顶点高度的变化，也可以是凸起顶点在凸起底面投影的位置变化，第一方向可以是多个凸起的阵列方向，也可以是为纹理层平面内的任一方向。具体的，请参阅图8，图8为本申请一实施例提供的凸起的立体结构示意图，其中，顶点高度指的是凸起顶点到凸起底面的距离h，凸起顶点高度的变化指的是多个凸起在第一方向上顶点高度的逐渐变化，逐渐变化可以是逐渐增大或逐渐减小，或是先增大再减小、或是先减小再增大。请参阅图9，图9为本申请一实施例提供的凸起的底面结构示意图，图9中，凸起底面中心点O为凸起底面外接圆的圆心，凸起顶点在凸起底面的投影为点H，凸起顶点在凸起底面投影相对凸起底面中心点的距离为d，凸起顶点在凸起底面投影相对凸起底面中心点的位置变化指的是凸起顶点在凸起底面的投影与凸起底面的中心点的距离逐渐变化，该逐渐变化可以是逐渐增大或逐渐减小，或是先增大再减小、或是先减小再增大。本申请通过设定凸起阵列中凸起结构的变化可以实现纹理层在不同角度下的多层次变化，定向排布的凸起使得颜色渐变更加自然，从而实现装饰基板立体的渐变效果。

本申请一些实施方式中，在第一方向上，多个凸起的顶点在凸起底面的投影相对凸起底面的中心点的距离逐渐变化。需要注意的是，本申请中，纹理层中多个凸起的底面图形相同或相似，故不同的凸起中，凸起底面的中心点位置是相同的。请参阅图10，图10为本申请一实施例提供的凸起结构变化示意图，图10中，凸起的底面为四边形，凸起的结构为四棱锥，四棱锥顶点在底面的投影位置发生变化，使得四棱锥的结构也相应变化。请参阅图11，图11为本申请一实施例提供的凸起结构变化示意图，图11中，凸起的底面为五边形，凸起的结构为五棱锥，五棱锥顶点在底面的投影位置发生变化，使得五棱锥的结构也相应变化。请参阅图12，图12为本申请一实施例提供的凸起结构变化示意图，图12中，凸起的底面为六边形，凸起的结构为六棱锥，六棱锥顶点在底面的投影位置发生变化，使得六棱锥的结构也相应变化。凸起顶点相对凸起底面中心点的位置变化可以改变凸起侧面的角度和尺寸，使得光线在纹理层中不同位置反射出不同强度的光，呈现出明暗的变化，且散射出不同的颜色，呈现出渐变色的效果。

本申请中，多个凸起的顶点在凸起底面的投影相对凸起底面的中心点的距离逐渐变化可以理解为，多个凸起的顶点在凸起底面的投影逐渐靠近或逐渐远离凸起底面的中心点，在多个凸起顶点位置变化的方向上(即第一方向)，将多个凸起的顶点在凸起底面的投影点连接后得到凸起顶点的运动路径，该路径可以是直线也可以是曲线。请参阅图13，图13为本申请一实施例提供的凸起顶点位置变化示意图，图13中(a)为多个凸起的排布示意图，图13中(b)为多个凸起的结构示意图，其中，凸起的底面为四边形，第一方向为凸起的阵列方向，在第一阵列方向上，多个凸起的顶点沿四边形的对角线移动。请参阅图14，图14为本申请一实施例提供的凸起顶点位置变化示意图，图14中(a)为多个凸起的排布示意图，图14中(b)为多个凸起的结构示意图，其中，凸起的底面为四边形，l₁为平行于四边形边长的线段，在第一阵列方向上，多个凸起的顶点沿l₁移动。

本申请一些实施方式中，在第一方向上，多个凸起的顶点在凸起底面的投影都落在凸起底面的过凸起底面中心点的同一条轴上，过凸起底面中心点的轴例如可以是凸起底面的对称轴，也可以是任意过凸起底面中心点的线段(该线段为凸起底面周长两点的连线)。也就是说，在第一方向上，将多个凸起的顶点在凸起底面的投影点连接后得到凸起顶点的运动路径，该运动路径与凸起底面的对称轴或过凸起底面中心点的线段相重合。本申请一些实施方式中，凸起的底面为多边形，在第一方向上，多个凸起的顶点在凸起底面的投影都落在平行于凸起底面多边形的任一边长的同一条线段上(该线段为凸起底面周长两点的连线)。具有上述结构的凸起阵列排布形成的纹理层可以使装饰基板的颜色过渡较为自然。

本申请一些实施方式中，在第一方向上，多个凸起的顶点在凸起底面的投影相对凸起底面的中心点的距离逐渐变化，在第一方向上，每1cm的距离内，多个凸起的顶点在凸起底面的投影相对凸起底面的中心点的距离变化量为1μm～200μm。以图13为例，在第一阵列方向上有多个凸起，多个凸起顶点在底面上的投影与底面中心点的距离在第一阵列方向上逐渐减小，凸起A1到凸起A3的距离为1cm(中间省略了若干凸起)，则凸起的顶点在底面的投影相对凸起底面中心点的距离变化量为d1-d3。本申请一些实施例中，第一方向为曲线方向，则1cm的距离指的是弧线段的长度为1cm。

本申请一些实施方式中，在第一方向上，多个凸起的顶点相对凸起底面的高度逐渐变化。请参阅图15，图15为本申请一实施例提供的凸起顶点高度变化示意图，图15中(a)为多个凸起的排布示意图，图15中(b)为多个凸起的结构示意图，其中，凸起的底面为四边形，第一方向为多个凸起的阵列方向，在第一阵列方向上，多个凸起的顶点相对凸起底面的高度逐渐减小。凸起顶点相对凸起底面高度的变化也可以改变凸起侧面的角度和尺寸，使得光线在纹理层中不同位置反射出不同强度的光，呈现出明暗的变化，且散射出不同的颜色，呈现出渐变色的效果。

本申请一些实施方式中，在第一方向上，多个凸起的顶点相对凸起底面的高度逐渐变化，在第一方向上，每1cm的距离内，凸起的顶点相对凸起底面的高度变化量为0.2μm～6μm，凸起的顶点相对凸起底面的高度变化量具体可以但不限于为0.2μm、0.3μm、0.4μm、0.5μm或0.6μm。以图15为例，在第一阵列方向上有多个凸起，多个凸起的高度在第一阵列方向上逐渐减小，凸起A1到凸起A3的距离为1cm(中间省略了若干凸起)，则凸起的顶点相对凸起底面的高度变化量为h1-h3。

本申请一些实施方式中，凸起底面的尺寸为1μm～10mm，凸起底面的尺寸具体可以但不限于为1μm、20μm、50μm、80μm、100μm、200μm、500μm、800μm、1mm、1.5mm、2mm、3mm、5mm、7mm或10mm。当凸起底面为圆形时，凸起底面的尺寸为圆形的半径，即圆形的半径为1μm～10mm；当凸起底面为多边形时，凸起底面的尺寸为多边形外接圆的半径，即多边形外接圆的半径为1μm～10mm。本申请中，相邻凸起之间的距离指的是相邻凸起底面中心点连线长度与两个凸起底面尺寸的差值，请参阅图16，图16为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，相邻凸起之间的距离d_间为凸起底面之间平面区域的长度。本申请一些实施方式中，相邻凸起之间的距离为1μm～10mm，相邻凸起之间的距离具体可以但不限于为1μm、20μm、50μm、80μm、100μm、200μm、500μm、800μm、1mm、1.5mm、2mm、3mm、5mm、7mm或10mm。本申请一些实施方式中，凸起底面的尺寸与相邻凸起之间的间距的比值为(2～3):1，凸起底面的尺寸与相邻所述凸起之间的间距的比值具体可以但不限于为2:1、2.5:1、2.7:1或3:1。控制凸起底面的尺寸与相邻凸起之间的间距有利于提升颜色渐变的流畅度，使颜色变化更加细腻。

本申请一些实施方式中，凸起的顶点相对凸起底面的高度为0.1μm～20μm，凸起的顶点相对凸起底面的高度具体可以但不限于为0.1μm～20μm。本申请一些实施方式中，凸起底面的尺寸与凸起的顶点相对凸起底面的高度的比值大于或等于2。凸起底面的尺寸与凸起的顶点相对凸起底面的高度的比值具体可以但不限于为2、4、6、8、10或15。控制凸起底面的尺寸与凸起的顶点相对凸起底面的高度可以使颜色变化效果更为显著。

本申请一些实施方式中，凸起的底面为多边形，在至少一个阵列方向上，多个凸起底面具有相对阵列方向渐变的相对旋转角度。请参阅图17，图17为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，图17中，凸起的底面为四边形，在第一阵列方向上，多个凸起的底面在相对第一阵列的方向上发生旋转，且旋转角度逐渐增大。请参阅图18，图18为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，图18中，凸起的底面为五边形，在第一阵列方向上，多个凸起的底面在相对第一阵列的方向上发生旋转，且旋转角度逐渐增大。请参阅图19，图19为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，图19中，凸起的底面为六边形，在第一阵列方向上，多个凸起的底面在相对第一阵列的方向上发生旋转，且旋转角度逐渐增大。

本申请一些实施方式中，在至少一个阵列方向上，多个凸起的底面的尺寸逐渐减小。请参阅图20，图20为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，图20中，凸起的底面为四边形，在第一阵列方向上，多个凸起的底面尺寸逐渐减小。请参阅图21，图21为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，图21中，凸起的底面为五边形，在第一阵列方向上，多个凸起的底面尺寸逐渐减小。请参阅图22，图22为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，图22中，凸起的底面为六边形，在第一阵列方向上，多个凸起的底面尺寸逐渐减小。

在一些实施例中，多个凸起的底面的尺寸在阵列方向上逐渐减小，且相邻凸起之间的间距逐渐增大。请参阅图23，图23为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，图23中，凸起的底面为四边形，多个凸起底面的尺寸在第一阵列方向上逐渐减小，且相邻凸起之间的间距逐渐增大。请参阅图24，图24为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，图24中，凸起的底面为五边形，多个凸起底面的尺寸在第一阵列方向上逐渐减小，且相邻凸起之间的间距逐渐增大。请参阅图25，图25为本申请一实施例提供的纹理层的结构示意图，图24中，凸起的底面为六边形，多个凸起底面的尺寸在第一阵列方向上逐渐减小，且相邻凸起之间的间距逐渐增大。本申请一些实施方式中，在第一方向上，多个凸起的底面的尺寸逐渐减小，且在阵列方向上每1cm的距离内，多个凸起的底面的尺寸变化量为0.1μm～100μm。

本申请一些实施方式中，装饰基板还包括修饰层，修饰层包括显色层、磨砂层和闪光层中的一种或多种。本申请实施方式中，显色层可以是镀膜层，也可以是油墨层，只要具有一定颜色即可。本申请中，装饰膜片中的纹理层自身即具有一定的颜色效果，设置显色层可以进一步提高丰富颜色变化，该显色层与纹理层的结合可以实现单一颜色镀膜的颜色变化。磨砂层具有一定的防滑功能，并且视觉效果更加柔和，可以丰富产品的外观。闪光层指的是能够呈现闪点效果的修饰层，一些实施例中，闪光层包括掺杂有闪光颗粒的涂层，设置闪光层可以使装饰基板具有一定的炫彩效果。在一些实施例中，修饰层设置在纹理层的表面。在一些实施例中，修饰层设置在基材的表面。在一些实施例中，修饰层设置在基材和纹理层的表面。

本申请提供的装饰基板中，纹理层具有连续变化的特征结构，该结构可以实现装饰基板在不同角度下的颜色变化，例如在正面观察为浅紫到浅黄的渐变，在侧面观察为浅紫到浅蓝的渐变，呈现出动态立体的颜色渐变效果，从而大大提升产品的美观性。

本申请还提供了该装饰基板的制备方法，本申请实施方式中，纹理层的制备方法包括刻蚀、UV转印和热压成型中的一种或多种。在一些实施例中，基材包括透明膜片，例如基材可以是聚酯基片(PET膜)、聚碳酸酯基片(PC膜)、聚甲基丙烯酸甲酯基片(PMMA膜)，装饰基板的制备方法包括：根据纹理层的图案在模具上制作出具有纹理图案的纹理母版，将纹理母版转印基材表面，得到装饰基板，所得的装饰基板为纹理膜片。在一些实施例中，基材包括塑胶板材，装饰基板的制备方法包括：将纹理母版转印至基材表面，经热压成型得到装饰基板，所得的装饰基板为带纹理的塑胶板材。在一些实施例中，基材包括玻璃，装饰基板的制备方法包括：根据纹理层的图案在基材表面制备掩膜板，对基材进行刻蚀，掩膜板较薄处刻蚀作用较强，掩膜板较厚处刻蚀作用较弱，从而在基材表面形成纹理图案，得到装饰基板，所得的装饰基板为带纹理的玻璃。本申请提供的装饰基板的制备方法技术成熟、流程简单，生产的产品稳定性高，从而可以提高产品的良品率，适用于批量生产。

本申请还提供了一种盖板，该盖板包括本申请的装饰基板和基体，其中，基体用于提升盖板的结构强度，基体可以是塑胶、金属、陶瓷、玻璃中的一种或多种。该盖板在不同视角下能够呈现出颜色动态变化的渐变效果，从而大大提高美观性，具有良好的市场前景。本申请一些实施方式中，盖板可用于通信设备的外壳，该盖板外观独特，可以提高产品的辨识度。

本申请还提供了一种电子设备，该电子设备包括上述盖板。请参阅图26，图26为本申请一实施例提供的电子设备的结构示意图，电子设备200包括显示组件201和壳体202，其中，壳体202包括本申请的盖板。本申请实施方式中，电子设备具体可以是手机、电脑、手表、U盘、电子烟、可穿戴设备、数码相机等。

下面通过具体实施例对本申请实施方式进行进一步地说明。

实施例1

一种装饰基板，其制备方法包括：将纹理层的图案数据传入电脑，在匀有光刻胶的玻璃板上进行光刻曝光，经过显影、烘干、等离子清洗后，进行UV转印将纹理转印到PC片材上得到装饰基板。将装饰基板经过镀膜，印刷，切割，贴合等工序使装饰基板贴合到玻璃板表面，得到带有纹理图案的玻璃盖板。

请参阅图27，图27为本申请实施例1提供的装饰基板的俯视图，图27中，装饰基板表面的纹理层具有多个凸起，凸起的底面为四边形，多个凸起沿第一阵列方向和第二阵列方向阵列排布，多个凸起的顶点相对凸起底面的高度相同，其中，凸起A1的顶点在凸起底面的投影与凸起底面的中心点重叠，凸起A2的顶点在凸起底面的投影与凸起底面四边形右上角的顶点重叠，凸起A3的顶点在凸起底面的投影与凸起底面四边形右上角的的顶点重叠。以凸起A1为起点，在第一阵列方向上，多个凸起的顶点在凸起底面的投影逐渐偏离凸起底面的中心点，即多个凸起的顶点在凸起底面的投影相对凸起底面的中心点的距离逐渐增大；同样地，以凸起A1为起点，在第二阵列方向上，多个凸起的顶点在凸起底面的投影逐渐偏离凸起底面的中心点，即多个凸起的顶点在凸起底面的投影相对凸起底面的中心点的距离逐渐增大。

请参阅图28，图28为本申请实施例1提供的装饰基板的效果示意图，由图28可以看出，纹理单元的外表面具有多层次的结构变化，从而使颜色渐变更加丰富。

实施例2

一种装饰基板，其制备方法包括：将纹理层的图案数据传入电脑，在匀有光刻胶的玻璃板上进行光刻曝光显影、在光刻胶表面形成纹理图案，将具有光刻胶的玻璃板置于化学药水蚀刻槽中，由于光刻胶对玻璃的保护作用，胶厚的地方抗蚀刻时间久，薄胶部分抗蚀刻时间短，先于厚胶部分漏出玻璃层，从而形成凹凸不平的纹理结构，使纹理完整地复制到玻璃表面，形成装饰基板。

请参阅图29，图29为本申请实施例2提供的装饰基板的俯视图，图29中，装饰基板表面的纹理层具有多个凸起，凸起的底面为四边形，多个凸起沿第一阵列方向和第二阵列方向阵列排布，其中，凸起A1的顶点在凸起底面的投影落在凸起底面四边形左侧的边长上，凸起A2的顶点在凸起底面的投影落在凸起底面四边形右侧的边长上。以凸起A1为起点，在第一阵列方向上，多个凸起的顶点在凸起底面的投影先逐渐靠近凸起底面的中心点再逐渐偏离凸起底面的中心点，即多个凸起的顶点在凸起底面的投影相对凸起底面的中心点的距离先逐渐减小再逐渐增大；在第二阵列方向上，多个凸起的结构相同。

请参阅图30，图30为本申请实施例2提供的装饰基板的效果示意图，由图30可以看出，纹理单元的外表面具有多层次的结构变化，从而使颜色渐变更加丰富。

实施例3

一种装饰基板，请参阅图31，图31为本申请实施例3提供的装饰基板的俯视图，图31中，装饰基板表面的纹理层具有多个凸起，凸起的底面为四边形，多个凸起沿第一阵列方向和第二阵列方向阵列排布，多个凸起的顶点在凸起底面的投影位置相同。其中，凸起A1的顶点相对凸起底面的高度为h1，凸起A2的顶点相对凸起底面的高度为h2，凸起A3的顶点相对凸起底面的高度为h3，h1＞h2，h1＞h3。以凸起A1为起点，在第一阵列方向上，多个凸起的顶点相对凸起底面的高度逐渐减小；在第二阵列方向上，以凸起A1为起点，多个凸起的顶点相对凸起底面的高度逐渐减小。

请参阅图28，图28为本申请实施例3提供的装饰基板的效果示意图，由图28可以看出，纹理单元的外表面具有多层次的结构变化，从而使颜色渐变更加丰富。

实施例4

一种装饰基板，请参阅图32，图32为本申请实施例4提供的装饰基板的俯视图，图32中，装饰基板表面的纹理层具有多个凸起，凸起的底面为四边形，多个凸起沿第一阵列方向和第二阵列方向阵列排布，多个凸起的顶点在凸起底面的投影位置相同。其中，凸起A1的顶点相对凸起底面的高度为h1，凸起A2的顶点相对凸起底面的高度为h2，凸起A3的顶点相对凸起底面的高度为h3，h2＞h1，h2＞h3。以凸起A1为起点，在第一阵列方向上，多个凸起的顶点相对凸起底面的高度先逐渐增加再逐渐减小；在第二阵列方向上，多个凸起的结构相同。

请参阅图30，图30为本申请实施例4提供的装饰基板的效果示意图，由图30可以看出，纹理单元的外表面具有多层次的结构变化，从而使颜色渐变更加丰富。

以上所述实施例仅表达了本发明的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请设计构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本申请的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (13)

1.一种装饰基板，其特征在于，所述装饰基板包括基材和设置在所述基材表面的纹理层，所述纹理层表面具有多个呈阵列排布的凸起，第一方向为所述纹理层表面所在的平面内的任一方向；

所述凸起包括凸起底面和顶点，在所述第一方向上，多个所述凸起的顶点在所述凸起底面的投影相对所述凸起底面的中心点的距离逐渐变化；

和/或在所述第一方向上，多个所述凸起的顶点相对所述凸起底面的高度逐渐变化。

2.如权利要求1所述的装饰基板，其特征在于，在第一方向上，多个所述凸起的顶点相对所述凸起底面的高度逐渐变化；所述第一方向上每1cm的距离内，多个所述凸起的顶点相对所述凸起底面的高度变化量为0.2μm～6μm。

3.如权利要求1所述的装饰基板，其特征在于，所述凸起底面包括多边形或圆形中的任意一种；在第一方向上，多个所述凸起的顶点在所述凸起底面的投影相对所述凸起底面的中心点的距离逐渐变化；所述第一方向上每1cm的距离内，多个所述凸起的顶点在所述凸起底面的投影相对所述凸起底面的中心点的距离变化量为1μm～200μm。

4.如权利要求1所述的装饰基板，其特征在于，相邻所述凸起之间的距离为1μm～10mm；所述凸起底面的形状为圆形，所述凸起底面的半径为1μm～10mm，或所述凸起底面的形状为多边形，所述凸起底面的外接圆的半径为1μm～10mm。

5.如权利要求1所述的装饰基板，其特征在于，所述凸起底面的形状为圆形，所述凸起底面的半径与相邻所述凸起之间的间距的比值为(2～3):1；或所述凸起底面的形状为多边形，所述凸起底面的外接圆的半径与相邻所述凸起之间的间距的比值为(2～3):1。

6.如权利要求1所述的装饰基板，其特征在于，所述凸起的顶点相对所述凸起底面的高度为0.1μm～20μm。

7.如权利要求1所述的装饰基板，其特征在于，所述凸起底面的形状为圆形，多个所述凸起底面的半径在第二方向上逐渐变化；或所述凸起底面的形状为多边形，多个所述凸起底面的外接圆的半径在第二方向上逐渐变化；所述第二方向为所述纹理层表面所在的平面内的任一方向。

8.如权利要求1所述的装饰基板，其特征在于，所述凸起底面为多边形，且多个所述凸起底面具有第一阵列方向和第二阵列方向，第一阵列方向与第二阵列方向垂直，多个所述凸起底面具有相对于第一阵列方向或相对于第二阵列方向渐变的相对旋转角度。

9.如权利要求1所述的装饰基板，其特征在于，所述凸起的侧面为平面、直线面或曲线面中的任意一种。

10.如权利要求1所述的装饰基板，其特征在于，所述装饰基板还包括修饰层，所述修饰层包括显色层、磨砂层和闪光层中的一种或多种，所述修饰层设置在所述纹理层和/或所述基材的表面。

11.一种装饰基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在基材表面形成纹理层，得到所述装饰基板，所述纹理层的制备方法包括转印、刻蚀和热压成型中的一种或多种；所述纹理层表面具有多个呈阵列排布的凸起；第一方向为所述纹理层表面所在的平面内的任一方向；

所述凸起包括凸起底面和顶点，在所述第一方向上，多个所述凸起的顶点在所述凸起底面的投影相对所述凸起底面的中心点的距离逐渐变化；

和/或在所述第一方向上，多个所述凸起的顶点相对所述凸起底面的高度逐渐变化。

12.一种盖板，其特征在于，所述盖板包括如权利要求1-10任一项所述的装饰基板和基体，所述装饰基板设置在所述基体表面。

13.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括如权利要求12所述的盖板。