CN116603700A - 一种支撑栅板的制备方法 - Google Patents
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Abstract
提供了一种制备支撑栅板的方法，包括以下步骤：提供衬板；在所述衬板上设置图案化金属格栅；将光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上；以紫外光照射所述光敏型高分子材料，以使所述光敏型高分子材料固化形成所述支撑栅板。本申请的方法可以得到厚度均匀的支撑栅板，由此提高了其与显示屏的贴合程度，有利于后续模印工艺；同时，工艺方便简单且环境友好。
Description
技术领域
本申请涉及电子产品配件领域，具体涉及一种支撑栅板的制备方法。
背景技术
随着全面屏技术的日趋成熟，移动终端中的可折叠、可伸缩及可卷曲产品受到广泛的市场关注。对于可折叠产品，铰链结构及屏幕自身材料的粘弹性性质导致屏幕折痕、耐用性差等问题，这大大限制了其市场推广。可伸缩产品可以很好解决上述问题，但相关技术中可伸缩产品膜面不平整，导致组装时膜无法与显示屏紧密贴合，影响后续模印工艺，因而影响了其进一步的推广和使用。
发明内容
本申请旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
为此，本申请的实施例提出一种制备支撑栅板的方法，从而可以得到厚度均匀的支撑栅板，由此提高了支撑栅板与显示屏的贴合程度，有利于后续模印工艺。同时由于本申请实施例提供的制备方法使用金属格栅，其自身就可作为掩膜，因此在固化过程中无需选择性调整对准精度，工艺方便简单。此外，本申请实施例提供的制备方法以光敏型高分子涂层为基础，固化后的光敏型材料分子间交联度高，具有耐水、耐酸碱、耐化学溶剂等特性，因此在后续处理中，可以对未固化材料进行彻底清洗而并不影响已固化材料。由此，本制备方法可以生产表面无有机残留、无化学污染的支撑栅板，由此有效降低了化学污染，环境友好，实现了技术工艺的优化。
在本申请的实施方案中，制备支撑栅板的方法包括以下步骤：
提供衬板；
在所述衬板上设置图案化金属格栅；
将光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上；
以紫外光照射所述光敏型高分子材料，以使所述光敏型高分子材料固化形成所述支撑栅板。
本申请实施例的制备支撑栅板的方法提供衬板后，在所述衬板上设置图案化金属格栅，将光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上，之后以紫外光照射所述光敏型高分子材料，以使所述光敏型高分子材料固化形成所述支撑栅板，因而使得光敏型高分子材料以“自对准曝光”方式固化，以此实现了支撑栅板的间隙填充深度的高度可控并提高了其与显示屏的贴合程度，优化了技术工艺。
在一些实施例中，在所述将光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上之前，对所述图案化金属格栅和所述衬板进行表面处理，优选地，所述表面处理是表面等离子处理或表面喷砂处理。
在一些实施例中，所述光敏型高分子材料选自以下至少一种：所述光敏型高分子材料选自以下至少一种：UV固化型聚氨酯、UV固化型聚酯树脂、UV固化型丙烯酸酯、UV固化型改性有机硅树脂及其混合物。
在一些实施例中，以1至5ml/s的喷涂流量将所述光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上，可选地，以200至1000cm/min的喷涂速度将所述光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上。
在一些实施例中，在将光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上之后，使所述光敏型高分子材料流平至少10分钟，优选1至7分钟、优选1至5分钟、优选1至3分钟，更优选2分钟，然后以低于100℃、优选70至90℃，更优选80℃的温度加热所述光敏型高分子材料以使其表面干燥。
在一些实施例中，所述光敏型高分子材料固含量是30％至100％，优选50％至80％，更优选60％。
在一些实施例中，所述衬板是紫外光透过率高的材料，优选地，所述衬板是石英玻璃、铁氟龙和聚丙烯薄膜。
在一些实施例中，采用紫外光从所述衬板远离所述图案化金属格栅的一侧对所述光敏型高分子材料进行照射以使其固化，
可选地，以500至5000mj/cm2、优选850至3500mj/cm2、更优选900至2500mj/cm2、更优选1000至2000mj/cm2的紫外光能量对所述光敏型高分子材料进行照射。
在一些实施例中，所述光敏型高分子材料的固化深度与所述紫外光能量呈正相关，优选地，当紫外光能量为500-5000mJ/cm2时，固化深度为15μm-320μm；优选地，紫外光能量为850-3500mJ/cm2时，固化深度为20μm-200μm；优选地，紫外光能量为900-2500mJ/cm2时，固化深度为30μm-180μm；优选地，紫外光能量为1000-2000mJ/cm2时，固化深度为40-150μm。
在一些实施例中，所述紫外光为UVA和UVB中的至少一种，优选UVB。
在一些实施例中，在所述采用紫外光照射所述光敏型高分子材料，以使所述光敏型高分子材料固化之后，还包括：
去除未固化的光敏型高分子材料。
根据本申请实施例的支撑栅板的制备方法，间隙内的高分子材料的固化深度经“自对准曝光”工艺控制固化，由此提高了支撑栅板与显示屏的贴合程度。此外，本申请实施例的支撑栅板制备方法在光敏型高分子涂层的基础上，彻底去除了支撑栅板表面未固化的高分子材料，由此该支撑栅板具有表面无有机残留、无化学污染的优点。
根据本申请实施例中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果和优点：
本申请的实施例的制备支撑栅板的方法通过使用光敏型高分子涂层，利用光敏型高分子材料的光固化特性和格栅板的图案化结构，同时利用紫外光能量控制光敏型高分子材料的固化深度，实现了以“自对准曝光”方式将光敏型高分子材料固化，以此实现了固化深度的高度可控，提高了支撑栅板与显示屏的贴合程度，解决了支撑栅板组装后的模印问题。此外，本申请的实施例的制备方法以光敏型高分子涂层为基础，固化后的光敏型材料分子间交联度高，具有耐水、耐酸碱、耐化学溶剂等特性，因此在后续处理中，可以对未固化材料进行彻底清洗而并不影响已固化材料。由此，实现了表面无有机残留、无化学污染的支撑栅板的生产，环境友好并实现了技术工艺的优化。
附图说明
本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1是本申请实施例的制备支撑栅板的方法的流程图；
图2是本申请实施例的制备支撑栅板的方法的示意图；
图3是本申请实施例的制备支撑栅板的方法的另一示意图；
图4是本申请实施例的制备支撑栅板的方法的再一示意图；
图5是本申请实施例的制备支撑栅板的方法的再一示意图。
附图标记：
11：衬板；
12：图案化金属格栅；
13：光敏型高分子材料；
14：紫外光源。
具体实施方式
下面详细描述本公开的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本公开，而不能理解为对本公开的限制。
本申请是基于发明人对以下事实和问题的发现和认识做出的：在相关技术中，将热固型高分子材料涂覆在金属栅格上并通过加热烘烤进行固化，因此固化过程是从外至内(即从外周向中心)逐步进行的。这样的方式获得的固化膜通常厚度不均匀，因此在组装后无法与显示屏紧密贴合，对后续模印工艺造成不利影响。此外，通过加热烘烤进行的热固化过程通常需要引入有机溶剂，由于固化后形成的固化膜交联程度低，不具备耐水、耐酸碱、耐化学溶剂等特性，因而无法对固化膜表面进行彻底清洗，使得固化膜表面存在严重的有机溶剂残留。
下面结合图1来描述本申请实施例中提供的制备支撑栅板的方法。
图1是本申请实施例的制备支撑栅板的方法的流程图。如图1所示，所述方法包括以下步骤：
步骤101：提供衬板；
步骤102：在衬板上设置图案化金属格栅；
步骤103：将光敏型高分子材料涂布于图案化金属格栅上；
步骤104：以紫外光照射光敏型高分子材料，以使光敏型高分子材料固化形成支撑栅板。
本申请实施例提供的制备支撑栅板的方法，通过使用光敏型高分子涂层，利用光敏型高分子材料的光固化特性和格栅板的图案化结构，同时利用紫外光能量控制光敏型高分子材料的固化深度，实现了以“自对准曝光”方式将光敏型高分子材料固化，以此实现了固化深度的高度可控，提高了支撑栅板与显示屏的贴合程度，解决了支撑栅板组装后的模印问题。此外，本申请的实施例的制备方法以光敏型高分子涂层为基础，固化后的光敏型材料分子间交联度高，具有耐水、耐酸碱、耐化学溶剂等特性，因此在后续处理中，可以对未固化材料进行彻底清洗而并不影响已固化材料。由此，实现了表面无有机残留、无化学污染的支撑栅板的生产，环境友好并实现了技术工艺的优化。
在本申请实施例中，“支撑栅板”为电子产品中显示屏的支撑板，其以图案化金属格栅为基础结构，并使用高分子材料填充金属格栅制备而来。可以理解的是，可以选择任何适合尺寸的金属格栅进行支撑栅板的制作。在一些实施例中，金属格栅尺寸为50*150mm至150*200mm，其中格栅的间隙深度为100μm至200μm。以图案化金属格栅作为基础结构，其自身就可作为掩膜，因此在固化过程中无需选择性调整对准精度，工艺方便简单。
在本申请实施例中，“高分子材料”是以高分子化合物为基础的材料。在一些实施例中，所述“高分子材料”可为聚合物材料，其是以高分子化合物为基体，再配有其他添加剂(助剂)所构成的材料。在一些实施例中，所述“高分子材料”是未添加溶剂的材料。高分子材料按照其固定方法，可分为热固型高分子材料和光敏型高分子材料。在一些实施例中，使用光敏型高分子材料。可以理解的是，该光敏型高分子材料可以为任意光敏固化型材料及其组合物。在一些实施例中，该光敏型高分子材料选自以下至少一种：UV固化型聚氨酯、UV固化型聚酯树脂、UV固化型丙烯酸酯、UV固化型改性有机硅树脂及其混合物。在本申请实施例中的支撑栅板的制备方法中，光敏型高分子材料的光固化特性使其能够根据曝光量调节固化深度，以此调控金属格栅间隙内的固化填充深度，以此提升了所制支撑栅板与显示屏的贴合程度，解决了支撑栅板组装后的模印问题。
在一些实施例中，步骤101中的“衬板”是紫外光透过率高的材料。优选地，衬板是石英玻璃、铁氟龙和聚丙烯薄膜。可以理解的是，通过使用紫外光透过率高的材料作为衬板，使得紫外光高效透过衬板并将紫外光能量传递至待固化的光敏型高分子材料上，由此提高了紫外光的利用率。
在一些实施例中，在步骤103所述将光敏型高分子材料涂布于图案化金属格栅上之前，所述方法还包括：对图案化金属格栅和所述衬板进行表面处理。
具体地，所述表面处理可以为针对表面预处理的任何处理形式。优选地，所述表面处理是表面等离子处理或表面喷砂处理，更优选地，所述表面处理为表面等离子处理。在一些实施例中，处理后的金属格栅表面水滴角为0至5°。由此，经表面处理后的金属格栅有利于后续高分子材料的涂布和固化。
在步骤103中，将光敏型高分子材料涂布于图案化金属格栅上。
具体地，在将光敏型高分子材料涂布于图案化金属格栅上时，根据金属格栅间隙及膜厚调整并确定高分子材料固含量、喷涂流量和喷涂速度。在一些实施例中，以1至5ml/s的喷涂流量将所述光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上，可选地，以200至1000cm/min的喷涂速度将所述光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上，所述光敏型高分子材料固含量是是30％至100％，优选50％至80％，更优选60％。由此，通过调节高分子材料固含量、喷涂流量和喷涂速度，实现了高分子材料涂布的均匀化，有利于后续流平和固化。
在一些实施例中，在步骤103所述将光敏型高分子材料涂布于图案化金属格栅上之后，所述方法还包括：使光敏型高分子材料流平至少10分钟，优选1至7分钟、优选1至5分钟、优选1至3分钟，更优选2分钟，然后以低于100℃、优选70至90℃，更优选80℃的温度加热所述光敏型高分子材料以使其表面干燥。
“流平”是指涂料涂覆后，在其尚未成膜之前，由于表面张力作用逐渐收缩成最小面积的过程。在一些实施例中，在步骤103所述将光敏型高分子材料涂布于图案化金属格栅上后，对光敏型高分子材料进行流平处理。其中根据光敏型高分子材料的性质选择流平时间。在一些实施例中，流平至少10分钟，优选1至3分钟，更优选2分钟。由此，实现了光敏型高分子材料在图案化金属格栅上的展布。以此工艺制备的支撑栅板厚度均匀，与显示屏的贴合程度高。
“表干”也称指触干，是指湿涂膜已达到表面干燥的阶段，涂膜从可流动的液态转变为相对不易流动且表面开始结膜的状态。在本申请的实施例中，在对光敏型高分子材料进行流平处理后，对其进行表干处理。可以理解的是，根据光敏型高分子材料涂层的情况选择相应的表干时间。在一些实施例中，使用隧道炉对光敏型高分子材料进行表干处理，表干温度设置为低于100℃、优选70至90℃，更优选80℃的温度加热所述光敏型高分子材料以使其表面干燥。表面干燥有利于涂膜不再粘附轻小物粒，以此工艺制备的支撑栅板厚度均匀，与显示屏的贴合程度高。
在步骤104中，以紫外光照射光敏型高分子材料，以使光敏型高分子材料固化形成支撑栅板。
在一些实施例中，采用紫外光从衬板远离图案化金属格栅的一侧对光敏型高分子材料进行照射以使其固化。可以理解的是，如图4所示，通过从衬板远离图案化金属格栅的一侧(即背面照射)，以此实现“自对准曝光”。
具体地，“自对准曝光”是指在高分子涂层固化的过程中，不需要刻意对准，由于图案化金属格栅的遮挡，格栅之间的光敏型高分子涂层会被固化，而被格栅遮挡的涂层材料不会固化。也就是说，自对准曝光依据光的远场衍射，利用金属格栅自身的图案，以金属格栅图案自身为“掩膜”，通过紫外曝光实现材料间隙填充的高分子材料固化。可以理解的是，所述“掩膜”是指金属格栅，无格栅处的光敏型高分子材料由于能收到紫外光照射，所以能够固化，而有格栅处的光敏型高分子材料因为金属格栅的遮挡不能被紫外光照射所以不能固化。本申请实施例通过使用自对准曝光工艺将光敏型高分子材料固化，以此实现了支撑栅板的间隙固化深度的高度可控并提高了其与显示屏的贴合程度，解决了支撑栅板组装后的模印问题。
在一些实施例中，以500至5000mj/cm2、优选850至3500mj/cm2、更优选900至2500mj/cm2、更优选1000至2000mj/cm2的紫外光能量对所述光敏型高分子材料进行照射。可以理解的是，可以根据具体需要和实际情况(例如使用的光敏型高分子材料的分子结构、极性基团数量和位置、双键数量和位置、引发剂引发效率和数量等具体情况)，通过调节紫外光能量来控制光敏型高分子材料在图案化金属格栅间隙内的固化深度，其中所述固化深度与紫外光能量呈正相关，即紫外光能量越高，固化深度越深。在一些实施例中，当紫外光能量为500-5000mJ/cm2时，固化深度为15μm-320μm；当紫外光能量为850-3500mJ/cm2时，固化深度为20μm-200μm；紫外光能量为900-2500mJ/cm2时，固化深度为30μm-180μm；紫外光能量为1000-2000mJ/cm2时，固化深度为40-150μm。由此，实现了金属格栅间隙内的高分子材料填充深度的高度可控并提高了支撑栅板与显示屏的贴合程度，解决了支撑栅板组装后的模印问题。
可以理解的是，可以根据需要使用能够穿过衬板的UVA和UVB波段内的任何波长的紫外光或其组合。在一些实施例中，所述紫外光为UVA和UVB中的至少一种，优选UVB。也即，所述紫外光的波长为275-400nm中的至少一种。优选地，所述紫外光的波长为280-320nm。由此，所述紫外光能够有效穿过所述衬板，并将其能量用以固化光敏型高分子材料，以此实现以紫外光能量控制固化深度的工艺。
在一些实施例中，在步骤104所述以紫外光照射所述光敏型高分子材料，以使所述光敏型高分子材料固化之后还包括：去除未固化的光敏型高分子材料。
在一些实施例中，通过物理方式将未固化的光敏型高分子材料去除，例如使用有机溶剂或使用风刀等去除表面未固化光敏型高分子材料。可选地，使用醇类、酮类等有机溶剂去除表面未固化光敏型高分子材料。在一些实施例中，利用清洗机清洗去除表面未固化光敏型高分子材料。可以理解的是，光敏型高分子材料通过上述紫外光照射后固化，固化后的光敏型材料分子间交联度高，具有耐水、耐酸碱、耐化学溶剂等特性，因此可以对未固化材料采用上述物理方式进行彻底清洗而并不影响已固化材料。由此，本制备方法可以生产表面无有机残留、无化学污染的支撑栅板，由此有效降低了化学污染，环境友好，实现了技术工艺的优化。
在一些实施例中，在去除未固化的光敏型高分子材料后，还包括：将支撑栅板过风刀，然后送入高温单元进行干燥及干燥后老化。
具体地，将去除未固化的光敏型高分子材料后的支撑栅板过风刀以初步吹干并清除支撑栅板表面的杂屑。可以理解的是，根据去除未固化的高分子材料的具体情况设置并调整风刀及高温单元参数。在一些实施例中，风刀速度为15至20m/s。在一些实施例中，高温单元温度设置为110至140℃，处理时间设置为20至45min。可以理解的是，经高温单元处理时，温度设置越低，处理时间设置时间越长。由此生产的支撑栅板厚度均匀，与显示屏的贴合程度高；同时流程简单，实现了工艺优化。
在一些实施例中，在去除未固化的光敏型高分子材料后，还包括：取出支撑栅板。
具体地，在经高温单元干燥老化后，使用二氧化碳激光切割机沿产品(即支撑栅板)边缘切割，使其与背面衬板分离并去除衬板。衬板去除后将支撑栅板与衬板的原接触面(即产品背面)覆保护膜，然后将高分子材料涂布面覆保护膜，并翻转去除产品背面保护膜，之后再翻转去除涂布面保护膜，取出支撑栅板。可以理解的是，在生产中，所设置的保护膜能够防止产品被外界环境污染并同时防止产品被硬物刮伤。以此工艺生产出的支撑栅板厚度均匀，与显示屏的贴合程度高，有利于后续的膜印工艺。
实施例1
下面结合图2至图5来解释本申请实施例1中的制备支撑栅板的方法。本申请实施例1示出了喷涂搭配UV型高分子材料固化形成固化填充以生产支撑栅板的方法，包括：
1、提供高透明石英玻璃作为衬板，并在该衬板上设置图案化金属格栅，具体结构如图2所示；
2、使用空气等离子体处理图案化金属格栅及衬板表面，处理后金属格栅表面水滴角<5°；
3、喷涂UV固化型聚氨酯涂层(如图3所示)，2min流平时间后，在隧道炉内80℃持续10min进行表干；
4、紫外光固化：采用2000mj/cm2紫外光能量(紫外光波长为300nm)在衬板侧(即背面)照射UV固化型聚氨酯涂层使其固化，所得固化深度为150μm，具体如图4所示；
5、去除支撑栅板表面未固化UV固化型聚氨酯材料：如图5所示，将支撑栅板过风刀以去除表面未固化高分子材料，风刀速度设置为15m/s，之后将其置于高温单元干燥后老化，高温单元设置为110℃，处理时间为45min；
6、取出产品(即支撑栅板)：使用二氧化碳激光切割机沿产品边缘以使其与背面衬板分离，将聚氨酯涂布面覆保护膜，翻转去除产品背面保护膜，再翻转去除涂布面保护膜，取出产品。
同时，在上述步骤4中，分别使用不同紫外光能量进行照射以使UV固化型聚氨酯涂层固化，具体紫外光参数及所得固化深度见表1。
实施例2
本申请实施例2示出了采用UV固化型聚酯树脂作为光敏型高分子材料制备支撑栅板的方法，其中在上述实施例1的步骤3中，采用UV固化型聚酯树脂作为光敏型高分子材料，并分别使用不同紫外光能量进行照射以使UV固化型聚酯树脂涂层固化，其余步骤与实施例1相同。具体紫外光参数及所得固化深度见表1。
实施例3
本申请实施例3示出了采用UV固化型丙烯酸酯作为光敏型高分子材料制备支撑栅板的方法，其中在上述实施例1的步骤3中，采用UV固化型丙烯酸酯作为光敏型高分子材料，并分别使用不同紫外光能量进行照射以使UV固化型丙烯酸酯涂层固化，其余步骤与实施例1相同。具体紫外光参数及所得固化深度见表1。
实施例4
本申请实施例4示出了采用UV固化型改性有机硅树脂作为光敏型高分子材料制备支撑栅板的方法，其中在上述实施例1的步骤3中，采用UV固化型改性有机硅树脂作为光敏型高分子材料，并分别使用不同紫外光能量进行照射以使UV固化型改性有机硅树脂涂层固化，其余步骤与实施例1相同。具体紫外光参数及所得固化深度见表1。
实施例5
对所制备的支撑栅板表面进行有机残留检测，并将显示屏贴附于该支撑栅板上并评测其贴合程度。具体结果如表1所示。
表1
由表1可见，经本申请实施例1-4的方法制备出的支撑栅板与显示屏的贴合程度高，由此解决了支撑栅板组装后的模印问题。此外，该方法彻底清除了支撑栅板表面的有机残留，有效降低了化学污染，实现了技术工艺的优化。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本发明中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (10)
1.一种制备支撑栅板的方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供衬板；
在所述衬板上设置图案化金属格栅；
将光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上；
以紫外光照射所述光敏型高分子材料，以使所述光敏型高分子材料固化形成所述支撑栅板。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述将光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上之前，对所述图案化金属格栅和所述衬板进行表面处理，优选地，所述表面处理是表面等离子处理或表面喷砂处理。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述光敏型高分子材料选自以下至少一种：UV固化型聚氨酯、UV固化型聚酯树脂、UV固化型丙烯酸酯、UV固化型改性有机硅树脂及其混合物。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其特征在于，以1至5ml/s的喷涂流量将所述光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上，
可选地，以200至1000cm/min的喷涂速度将所述光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上；
可选地，在所述将光敏型高分子材料涂布于所述图案化金属格栅上之后，使所述光敏型高分子材料流平至少10分钟，优选1至7分钟、优选1至5分钟、优选1至3分钟，更优选2分钟，然后以低于100℃、优选70至90℃，更优选80℃的温度加热所述光敏型高分子材料以使其表面干燥。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，所述光敏型高分子材料固含量是30％至100％，优选50％至80％，更优选60％。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，所述衬板是紫外光透过率高的材料，优选地，所述衬板是石英玻璃、铁氟龙和聚丙烯薄膜。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其特征在于，采用紫外光从所述衬板远离所述图案化金属格栅的一侧对所述光敏型高分子材料进行照射以使其固化，
可选地，以500至5000mj/cm2、优选850至3500mj/cm2、更优选900至2500mj/cm2、更优选1000至2000mj/cm2的紫外光能量对所述光敏型高分子材料进行照射。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其特征在于，所述光敏型高分子材料的固化深度与所述紫外光能量呈正相关，优选地，当紫外光能量为500-5000mJ/cm2时，固化深度为15μm-320μm；优选地，紫外光能量为850-3500mJ/cm2时，固化深度为20μm-200μm；优选地，紫外光能量为900-2500mJ/cm2时，固化深度为30μm-180μm；优选地，紫外光能量为1000-2000mJ/cm2时，固化深度为40-150μm。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其特征在于，所述紫外光为UVA和UVB中的至少一种，优选UVB。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其特征在于，在所述以紫外光照射所述光敏型高分子材料，以使所述光敏型高分子材料固化之后，还包括：
去除未固化的光敏型高分子材料。
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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