CN103688200A - 处理膜的制造方法及其制造装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种处理膜的制造方法，其中由树脂膜制造该树脂膜的处理膜，该处理膜的制造方法至少具有边使长条状的所述树脂膜与处理槽内的处理液接触来进行处理边进行运送的处理工序，所述处理工序的至少一个工序是，在处理槽内填满处理液的状态下、边使该处理槽内的处理液的液面与所述树脂膜的下表面接触边进行的单面接触工序，并且，在至少一个所述单面处理工序所涉及的单面处理槽的后方配置有夹持辊。根据该制造方法，可以满足所得到的处理膜所要求的特性，并且可以减少刮擦、划痕的产生等。

Description

处理膜的制造方法及其制造装置

技术领域

本发明涉及由树脂膜制造该树脂膜的处理膜的方法及其制造装置。作为树脂膜，可以根据处理对象来适当选择各种领域中使用的膜。特别是在要求处理膜不存在微细的伤痕的各种处理膜、例如偏振片的制造时，作为树脂膜可以使用例如聚乙烯醇系膜等，在偏振片的制造工序中的溶胀工序、染色工序、交联工序、拉伸工序、洗涤工序中的至少任一处理工序中可以应用本发明。

此外，作为树脂膜，还可使用纤维素酯系树脂等偏振片用的透明保护膜等各种光学膜，在皂化工序、其后的水洗涤工序处理中的至少任一处理工序中可以应用本发明。包含偏振片等的光学膜可以在液晶显示装置、场致发光（EL）显示装置、等离子体显示器（PD）和场发射显示器（FED：Field Emission Display）等图像显示装置中使用。

背景技术

在图像显示装置（特别是液晶显示装置）中使用偏振片等光学膜。通常，所述偏振片通过将聚乙烯醇（PVA）膜染色、单轴拉伸来制作。如果将PVA系膜单轴拉伸，则吸附（染色）于PVA分子的二色性物质发生取向，因此成为偏振片。

另一方面，伴随液晶显示装置的大型化、功能提高和亮度提高，其所使用的偏振板也在进行大型化的同时寻求光学特性和面内均一性的提高。为了得到大型的偏振板，需要将作为偏振片的原料的PVA系膜均一地拉伸，但这是非常困难的处理，存在面内均一性和光学特性同时恶化的倾向。例如在专利文献1中提出了在使PVA系膜整体与液体接触的同时、通过拉幅机方式将PVA系膜拉伸的方法，但在使PVA系膜浸渍于浴槽从而使其与液体接触的情况下，需要浴槽。因此，所述方法存在制造装置大型化的倾向。另外，在拉幅机方式中，PVA系膜沿上下方向的移动在结构上是困难的。因此，就同时进行利用拉幅机方式的拉伸和PVA系膜向浴槽的浸渍的组合而言，需要非常复杂的结构。

因此，在专利文献2中，为了解决这些问题而公开了一种偏振片的制造方法，其能够使用小型且简易的制造装置，几乎同时进行液体与亲水性聚合物膜的接触、和利用拉幅机方式等的高分子膜的宽度方向的拉伸。

但是，在所述方法中，液体与高分子膜的接触为喷涂方式，因此难以在高分子膜的表面均一地进行喷雾，从而有时会产生不均。另一方面，也考虑了利用涂敷方式实施液体的接触，但是在该情况下，存在需要涂敷装置的大型化从而制造成本增大的问题。

近年来，液晶显示装置的高性能化不断发展，且要求高可视性。与此相伴地，对于偏振板而言，使可视性具有高透射率、可视性良好是非常重要的。因此，对于偏振板而言，要求偏振片及其透明保护膜均不妨碍可视性。另外，如果在偏振板上存在刮擦、划痕（点伤痕），则在制品检查中成为不合格品，制品的成品率下降，该方面也不优选。另外，偏振板是偏振片与透明保护膜的层叠体，通常利用胶粘剂等将偏振片和透明保护膜贴合，但如果偏振片、其透明保护膜上存在刮擦、划痕，则基于所述胶粘剂等的层间的密合性变得不良。

对于偏振板而言，作为可视性下降的一个原因，可以列举偏振片、其透明保护膜中的刮擦（伤痕）的产生。如上所述，偏振片通过使聚乙烯醇系膜等在染色液中等浸渍、运送来制造，另一方面，透明保护膜在与偏振片贴合前，在皂化处理、水洗涤处理浴中进行运送。通常，在实施这些处理的情况下，伴随生产速度的增加，存在在上述处理中产生的刮擦、划痕也增加的倾向。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006－91374号公报

专利文献2：日本特开2009－63982号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明的目的在于提供处理膜的制造方法及其制造装置，就该处理膜的制造方法而言，其由所述树脂膜制造该树脂膜的处理膜，至少具有边使长条状的树脂膜与处理槽内的处理液接触来进行处理边进行运送的处理工序，该处理膜的制造方法可以满足处理膜所要求的特性，并且降低刮擦、划痕的产生等。

用于解决课题的方法

本发明人为了解决所述课题而进行了深入的研究，结果发现，通过以下所示的处理膜的制造方法及其制造装置可以实现所述目的，从而完成本发明。

即，本发明涉及一种处理膜的制造方法，其中由树脂膜制造该树脂膜的处理膜，该处理膜的制造方法至少具有边使长条状的所述树脂膜与处理槽内的处理液接触来进行处理边进行运送的处理工序，所述处理膜的制造方法的特征在于，

所述处理工序的至少一个工序是，在处理槽内填满处理液的状态下，边使该处理槽内的处理液的液面与所述树脂膜的下表面接触边进行的单面接触工序，

并且，可以在所述单面处理工序所涉及的至少一个单面处理槽的后方配置有夹持辊。

在所述处理膜的制造方法中，可以在所述单面接触工序的后方具有仅对所述处理膜的下表面侧进行除液的工序。

在所述处理膜的制造方法中，可以在所述单面接触工序中，在向所述单面处理槽供给从所述单面处理槽内带出的处理液的量以上的量的同时进行所述单面接触工序。

在所述处理膜的制造方法中，可以相对于配置于所述单面处理槽的后方的夹持辊，在该单面处理槽的前方配置有夹持辊，在利用配置于所述单面处理槽的前后方的夹持辊的圆周速度差，使长条状的树脂膜在长度方向上拉伸的同时进行所述单面接触工序。

所述处理膜的制造方法可以适宜应用于，通过对所述树脂膜实施处理工序而得到的处理膜为光学膜的情况。

所述处理膜的制造方法可以适宜应用于，所述树脂膜为聚乙烯醇系膜，且用于制造作为处理膜的偏振片的情况。在该情况下，所述处理工序至少包括溶胀工序、染色工序、交联工序、拉伸工序和洗涤工序，并且通过所述单面接触工序进行溶胀工序、染色工序、交联工序、拉伸工序和洗涤工序中的至少一个工序。

另外，本发明涉及一种处理膜的制造装置，其特征在于，具备至少一个处理槽，所述处理槽将填满用于对树脂膜进行任意处理的处理液，

所述至少一个处理槽是在被运送的所述树脂膜的下侧，以使所述处理液的液面与所述树脂膜的下表面接触的方式而配置的单面处理槽，

并且，在至少一个所述单面处理槽的后方配置有夹持辊。

在所述制造装置中，可以在所述单面处理槽的后方，具有对被所述处理液处理后的所述处理膜的下表面侧进行除液的单元。

在所述制造装置中，可以设置有向所述单面处理槽连续地供给所述处理液的处理液体供给部。

在所述制造装置中，可以相对于配置于所述单面处理槽的后方的夹持辊，在该单面处理槽的前方配置有夹持辊。

发明效果

根据本发明的制造方法，通过使处理液的液面与树脂膜的下表面进行面接触的单面接触工序，来进行使连续地被运送的树脂膜（例如PVA系膜）与处理液接触的处理工序，因此能够对膜的下表面进行无不均的均一处理。结果，可以防止在喷涂方式、涂敷方式的情况下所产生的不均。结果，能够对树脂膜进行均一的处理，可以满足处理膜所要求的特性。例如在由作为树脂膜的PVA系膜制造作为处理膜的偏振片的情况下，能够制造出光学特性的面内均一性优异的偏振片。

另外，在使对树脂膜的处理性能提高的情况下，在以往的涂敷方式中需要涂敷大量的处理液，但在本发明的制造方法中的单面接触工序中，仅通过与一定量的处理液进行面接触，即能够提高处理性能，因此也可以抑制处理液的使用量。而且，在制造大型的光学膜的情况下，在喷涂方式、涂敷方式中，需要适应其尺寸的大型的喷涂装置、涂敷装置，但在本发明的制造方法中，仅需要变更处理槽的大小即可，因此装置变更的自由度高，可抑制制造成本。

另外，通过以附设于所述单面处理工序的单面处理槽的方式设置处理液供给部，从而能够以从单面处理槽内带出的处理液的量以上的量连续地向所述单面处理槽供给所述单面接触工序中使用的处理液。因此，可以抑制处理液的劣化，可以防止由处理液的经时劣化引起的处理效率的下降。其结果是，可以由作为树脂膜的PVA系膜制造光学特性的面内均一性优异的处理膜（偏振片等光学膜）。

另外，通过所述单面接触工序处理后的树脂膜（处理膜），通过配置于单面处理槽的后方的夹持辊而被运送。关于处理膜上刮擦、划痕的产生，可认为是微细的异物与流体（处理液）一起侵入到该处理膜与夹持辊之间，且该异物被夹持辊夹持，由此产生刮擦、划痕。在本发明的制造方法中，就所述单面接触工序而言，仅树脂膜的单面（下表面）被处理，因此继单面接触工序之后，流体向夹持辊与处理膜之间的侵入仅为单面。因此，与以往那样利用处理液浸渍树脂膜、从而树脂膜的两面被处理的情况相比，可以大幅减少刮擦、划痕的产生。

另外，可以对所述单面接触工序中得到的处理膜设置从处理膜的表面除去处理液的除液工序。以往，在实施使树脂膜浸渍于处理液的处理工序的情况下，处理膜的两面均需要实施除液工序，但在本发明的制造方法中，在对树脂膜实施作为处理工序的单面接触工序的情况下，对处理膜的除液工序仅对下表面侧实施即可。因此，在本发明的处理膜的制造方法中，仅对单面实施除液工序即可，从而与以往相比，能够利用比较简易的装置实施除液工序。

附图说明

图1A是表示本发明的处理膜的制造方法中的、单面接触工序所涉及的一个实施方式的示意图。

图1B是表示本发明的处理膜的制造方法中的、单面接触工序所涉及的一个实施方式的示意图。

图2A是表示本发明的处理膜的制造方法中的、单面接触工序所涉及的一个实施方式的示意图。

图2B是表示本发明的处理膜的制造方法中的、单面接触工序所涉及的一个实施方式的示意图。

图3是表示本发明的处理膜的制造方法所涉及的、偏振片的制造方法所涉及的一个实施方式的示意图。

图4是表示以往的处理膜的制造方法所涉及的、偏振片的制造方法所涉及的示意图。

图5涉及偏振片的不均的状态，是表示等级1～等级3的图。

具体实施方式

以下在参考附图的同时对本发明的处理膜的制造方法进行说明。图1、2涉及本发明的处理膜的制造方法中的单面接触工序。在图1、2中示出了树脂膜W、包含一对辊的夹持辊R、R’和具有处理液X的单面处理槽Y所涉及的一个实施方式。夹持辊R、R’至少配置于单面处理槽Y的后方。可以与配置于单面处理槽Y的后方的夹持辊R、R’相对应地，在单面处理槽Y的前方配置夹持辊。在图1A中，夹持辊R、R’分别配置于一个单面处理槽Y的前后方。在图1B中，夹持辊R、R’分别配置于连续的两个单面处理槽Y的起始槽的前方和最终槽的后方。在图1B中，连续设置有两个单面处理槽Y，但也可以连续设置有三个以上的单面处理槽Y。另外，如图1B所示，在连续设置单面处理槽Y的情况下，在单面处理槽Y之间可以设置导辊G。树脂膜W通过夹持辊R、R’进行运送。

所述树脂膜W的运送速度（mm/min）通常优选在0.1～30m/min的范围内，更优选在1～15mm/min的范围内。通过将运送速度设定为0.1mm/min以上，可以使源自树脂膜W的处理膜W’（例如偏振片）的生产率提高。另一方面，通过将运送速度设定为30m/min以下，可以降低处理液X由于剪切而对流的情况。

在所述单面处理槽Y中，填满用于对树脂膜W进行任意处理的处理液（详细情况后述）。单面处理槽Y以树脂膜W在其上侧运送的方式进行配置，并且树脂膜W的下表面与单面处理槽Y的处理液的液面进行面接触。由此，可防止在喷涂方式、涂敷方式的情况下产生的处理不均，从而能够对树脂膜W的下表面进行均一的处理。单面处理槽Y优选水平设置从而使处理液X的液面保持水平，并且还优选水平地进行树脂膜W的运送。单面处理槽Y优选水平地设置，但也可以以膜运送方向的下游侧高于膜运送方向的上游侧的方式倾斜地设置。利用这样的倾斜配置，只要以单面处理槽Y的上游侧变低的方式进行配置，则处理液X一定处于溢出的状态，从而可以进行树脂膜与处理液X的接触。但是，如果以膜运送方向的上游侧高于膜运送方向的下游侧的方式倾斜地进行配置，则处理液X将不会从上游侧的单面处理槽Y流出，单面处理槽Y的壁面与树脂膜W接触，树脂膜由于该摩擦而振动从而产生处理不均。因此，不优选以膜运送方向的上游侧高于膜运送方向的下游侧的方式的倾斜配置。

所述树脂膜W与处理液X的液面接触，由此仅下表面被处理液X处理，从而可以得到树脂膜的处理膜W’。在此，处理液X具有表面张力，因此树脂膜W的下表面与单面处理槽Y的上表面只要在一定程度的范围内隔开即可。树脂膜W的下表面与单面处理槽Y的上表面的距离，具体而言优选在0mm～5mm的范围内。通过这样的设置从而所述液面与所述树脂膜W的下表面接触，优选以在其之间不进入气泡的方式使它们接触。

所述单面处理槽Y中的处理液X的液体的深度（mm）优选在1mm～500mm的范围内，更优选在35mm～300mm的范围内。通过使液体的深度为1mm以上，能够在单面处理槽Y中填满处理液并以良好的状态与树脂膜W的下表面进行面接触。另一方面，通过使液体的深度为500mm以下，能够减少过量的液体使用量。

另外，处理液X的粘度优选为100mPa·s以下，更优选为50mPa·s以下，进一步优选为10mPa·s以下。通过使处理液X的粘度为100mPa·s以下，可以降低树脂膜W的下表面与处理液之间的摩擦。其结果是，可以抑制与处理液X接触的树脂膜W的运送所引起的处理液的流动，可以减少处理不均的产生。

另外，在图1、2中，可以利用设置于单面处理槽Y的前方和后方的夹持辊R、R’的圆周速度差，从而边在长度方向上拉伸树脂膜W边进行所述单面接触工序。通常，在所述单面接触工序中实施拉伸的情况下，以使设置于后方的夹持辊R、R’的圆周速度比配置于前方的夹持辊R、R’的圆周速度快的方式分别控制夹持辊R、R’的圆周速度差。

图2A是，在图1A中，仅在所述单面接触工序的后方、在所述处理膜W’的下表面侧具有除液单元P的情况。作为除液单元P，可以列举例如：除液辊、除液棒、刮刀、气刀等。特别优选旋转式的除液辊、非接触式的气刀。除液单元P设置于单面接触工序的后方，如图2A所示，就除液单元P的配置而言，可以是所述处理膜W’与后方的夹持辊R、R’接触之前，也可以如图2B所示，为与后方的夹持辊R、R’接触之后。就除液单元P的配置而言，从抑制刮擦、划痕的产生方面出发，优选为所述处理膜W’与后方的夹持辊R、R’接触之前。

另外，可以如图2所示，为所述单面处理槽Y设置处理液供给部Q。通过处理液供给部Q，从而可以向所述单面处理槽Y连续地供给所述处理液X。由所述处理液供给部Q供给的处理液X，在单面接触工序中，以从所述单面处理槽Y内带出的处理液X的量以上的量连续供给至所述处理槽Y，由此可以使所述单面处理槽Y中总是填满处理液X。另外，可以抑制由处理液X的经时劣化所引起的处理效率的下降，实现成品率的提高。作为所述处理液供给部Q，其没有特别限制，例如可以利用泵等进行处理液的供给。

作为本发明的处理膜的制造方法中所使用的树脂膜，可以使用各种树脂材料。树脂材料可以根据各种用途适当选择使用。作为树脂材料，在可见光区域具有透光性的材料可以适宜使用于光学膜等用途中。

作为透光性树脂，例如可以列举透光性的水溶性树脂。就使用了透光性的水溶性树脂的树脂膜而言，例如在偏振片的制造中适宜使用PVA系膜。PVA系膜可以使用聚乙烯醇或其衍生物。作为聚乙烯醇的衍生物，可以列举聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩醛等，另外可以列举使用乙烯、丙烯等烯烃、丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不饱和羧酸及其烷基酯、丙烯酰胺等改性了的物质。聚乙烯醇的聚合度优选为100～10000左右，更优选为1000～10000。一般使用皂化度为80～100摩尔%左右的物质。

除上述外，作为PVA系膜，可以列举：乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜、聚乙烯醇的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向膜等。

所述PVA系膜中还可以含有增塑剂、表面活性剂等添加剂。作为增塑剂，可以列举多元醇及其缩合物等，可以列举例如：甘油、双甘油、三甘油、乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等。增塑剂等的使用量没有特别限制，但适宜设定为聚乙烯醇系膜中的20重量%以下。

另外，作为透光性的水溶性树脂，可以列举例如：聚乙烯基吡咯烷酮系树脂、直链淀粉系树脂等。

所述树脂膜W的厚度可以根据用途适当确定。树脂膜W的厚度通常可使用10～300μm左右的厚度，优选为20～100μm。所述树脂膜W的膜宽度优选在100～4000mm的范围内，更优选在500～3500mm的范围内。

就所述树脂膜W而言，例如在偏振片的制造中使用的PVA系膜的情况下，其厚度例如优选在15～110μm的范围内，更优选在38～110μm的范围内，进一步优选在50～100μm的范围内，特别优选在60～80μm的范围内。如果PVA系膜的厚度小于15μm，则PVA系膜的机械强度过低，变得难以进行均一的拉伸，在制造偏振片的情况下，容易产生色斑。另一方面，如果PVA系膜的厚度超过110μm，则无法得到充分的溶胀，因此容易突出偏振片的色斑，因此不优选。

关于本发明的处理膜的制造方法一个实施方式，以下在参考附图的同时，就通过对树脂膜实施处理工序而得到光学膜的情况进行说明。图3是本发明的处理膜的制造方法所涉及的、表示偏振片的制造方法的一例的示意图。偏振片的制造方法包括：溶胀工序A、染色工序B、交联工序C、拉伸工序D、和洗涤工序E。图3是对从原料卷放出的树脂膜（PVA系膜）W依次实施溶胀工序A、染色工序B、交联工序C、拉伸工序D、洗涤工序E、最后实施干燥工序F的、制造偏振片的情形。需要说明的是，在图3中，交联工序C和拉伸工序D在相同的处理槽中同时实施。

在图3中，从送出辊R1开始，树脂膜W通过配置于各单面处理槽Y的前后方的夹持辊R、R’而被运送。在干燥工序F的后方，具有处理膜W’的卷绕辊R2。需要说明的是，在各单面处理槽Y之间设置有一组夹持辊R、R’，但也可以设置二组以上。需要说明的是，在图3中，配置于溶胀工序A与染色工序B、染色工序B与交联工序C-拉伸工序D、和交联工序C-拉伸工序D与洗涤工序E之间的夹持辊R、R’，兼作后方的夹持辊和前方的夹持辊。

在图3中，在溶胀工序A、染色工序B、交联工序C-拉伸工序D、洗涤工序E中的单面处理槽Y中使用对应于各工序的处理液X。在图3中，虽然例示了实施单面接触工序作为全部单面处理槽Y中的处理工序的情况，但单面接触工序只要在任意至少一个单面处理槽Y中的处理工序中实施即可。因此，就本发明的处理膜的制造方法所涉及的单面接触工序而言，在具有溶胀工序A、染色工序B、交联工序C、拉伸工序D、洗涤工序E的偏振片的制造方法中，可以在任意一个工序中应用，也可以在两个以上的工序、甚至全部工序中应用。即，在图3中，虽然在溶胀工序A、染色工序B、交联工序C-拉伸工序D、和洗涤工序E的各工序的前方和后方分别配置有夹持辊R、R’，但只要在至少一个工序中的单面处理槽Y的后方配置夹持辊R、R’即可。

另外，在具有多个单面接触工序的情况下，在于单面接触工序的前后方配置夹持辊的情况下，可以选择任意的工序并在它们的前后方配置夹持辊。例如在图3中，例如可以仅在溶胀工序A的前方和洗涤工序E的后方配置夹持辊R、R’。另外，在图3中，可以选择任意的工序，例如在染色工序B的前方和交联工序C-拉伸工序D的后方配置夹持辊R、R’。

另外，在图3中，仅在洗涤工序E的后方设置有对处理膜W’的下表面进行除液的除液单元P，但除液单元P可以设置于各单面处理槽Y的后方。需要说明的是，在图3中，可以为各单面处理槽Y设置处理液体供给单元Q，但已被省略。

需要说明的是，图4是表示以往的处理膜的制造方法所涉及的、偏振片的制造方法的示意图。在图4中，是溶胀工序A、染色工序B、交联工序C-拉伸工序D、洗涤工序E通过将树脂膜W浸渍于处理槽中来实施处理工序的情形。在图4中，最后实施干燥工序F。在将本发明的处理膜的制造方法应用于偏振片的制造方法的情况下，可以是溶胀工序A、染色工序B、交联工序C、拉伸工序D、洗涤工序E中的至少任一工序利用单面接触工序来进行，而例如利用图4所示的以往的浸渍工序来进行其他处理工序。需要说明的是，在图4中，在洗涤工序E的后方，对处理膜W’的两面设置有除液单元P。在图4中，在各处理槽的内外设置有导辊G。需要说明的是，在图4中，交联工序C和拉伸工序D在相同的处理槽中同时实施。

所述溶胀工序A是使作为原料膜的PVA系膜与溶胀液（处理液）接触的工序。通过进行该工序，PVA系膜被水洗，从而可以对PVA系膜表面的污物、抗粘连剂进行洗涤，并且通过使PVA系膜溶胀，能够防止染色不均等不均一性。

作为所述溶胀液，可以使用例如水。而且，在溶胀液中，可以适当加入甘油、碘化钾等。就添加的浓度而言，在甘油的情况下优选为5重量%以下，在碘化钾的情况下优选为10重量%以下。溶胀液的温度优选在20～45℃的范围内，更优选在25～40℃的范围内，进一步优选在30～35℃的范围内。另外，与溶胀液的接触时间没有特别限定，通常优选为20～300秒，更优选为30～200秒，特别优选为30～120秒。

在溶胀工序A中，可以适当地进行拉伸。所述拉伸倍数相对于PVA系膜的原长，通常为6.5倍以下。从光学特性的观点出发，所述拉伸倍数优选设定为1.2～6.5倍，更优选设定为1.5～5倍，进一步优选设定为2～4.1倍。在溶胀工序A中，通过实施拉伸，可以将在溶胀工序A后实施的拉伸工序D中的拉伸控制得较小，可以以不产生膜的拉伸断裂的方式进行控制。另一方面，如果溶胀工序A中的拉伸倍数变大，则拉伸工序中的拉伸倍数变得过小，特别是在交联工序C之后实施拉伸工序D的情况下，从光学特性的观点出发，并不优选。

所述染色工序B是，通过使所述PVA系膜与含有碘或二色性染料的染色液（处理液）接触，从而使所述碘或二色性染料吸附于PVA系膜的工序。染色工序B可以与拉伸工序D同时进行。

作为所述染色液，可以使用将碘溶解于溶剂后得到的溶液。作为所述溶剂，一般使用水，但还可以进一步添加具有与水的相溶性的有机溶剂。作为碘的浓度，优选处于0.01～10重量%的范围，更优选处于0.02～7重量%的范围，特别优选处于0.025～5重量%的范围。另外，为了使染色效率进一步提高，优选还添加碘化物。作为该碘化物，可以列举例如：碘化钾、碘化锂、碘化钠、碘化锌、碘化铝、碘化铅、碘化铜、碘化钡、碘化钙、碘化锡、碘化钛等。这些碘化物的添加比例，在所述染色浴中，优选为0.010～10重量%，更优选为0.10～5重量%。它们中，优选添加碘化钾，碘与碘化钾的比例（重量比）优选处于1:5～1:100的范围，更优选处于1:6～1:80的范围，特别优选处于1:7～1:70的范围。

与所述染色液的接触时间没有特别限定，通常优选在10～200秒的范围内，更优选在15～150秒的范围内，进一步优选在20～130秒的范围内。另外，染色液的温度优选在5～42℃的范围内，更优选在10～35℃的范围内，进一步优选在12～30℃的范围内。

所述交联工序C是例如使PVA系膜与含有交联剂的交联液（处理液）接触来进行交联的工序。交联工序C的顺序没有特别限制。交联工序C可以与拉伸工序D同时进行。交联工序C可以进行多次。作为所述交联剂，可以使用以往公知的物质。可以列举例如：硼酸、硼砂等硼化合物、乙二醛、戊二醛等。这些物质可以单独使用，也可以组合使用两种以上。

作为所述交联液，可以使用在溶剂中溶解了所述交联剂而得到的溶液。作为所述溶剂，例如可以使用水，另外，也可以含有与水具有相溶性的有机溶剂。所述溶液中的交联剂的浓度没有特别限定，优选在1～10重量%的范围内，更优选在2～6重量%的范围内。

从在偏振片的面内得到均一的光学特性的观点出发，可以在所述交联液中添加碘化物。作为该碘化物，没有特别限制，可以列举例如：碘化钾、碘化锂、碘化钠、碘化锌、碘化铝、碘化铅、碘化铜、碘化钡、碘化钙、碘化锡、碘化钛等。另外，碘化物的含有量优选在0.05～15重量%的范围内，更优选在0.5～8重量%的范围内。所述例示的碘化物可以单独使用一种，或者可以组合使用二种以上。在组合使用二种以上的情况下，优选硼酸与碘化钾的组合。作为硼酸与碘化钾的比例（重量比），优选为1:0.1～1:3.5的范围内，更优选为1:0.5～1:2.5的范围内。

所述交联液的温度没有特别限定，通常优选在20～70℃的范围内，更优选在20～40℃的范围内。另外，与PVA系膜的接触时间没有特别限定，通常优选在5～400秒的范围内，更优选在50～300秒的范围内，进一步优选在150～250秒的范围内。

所述拉伸工序D通常通过实施单轴拉伸来进行。该拉伸方法可以与染色工序B、交联工序C同时实施。单轴拉伸可以利用如上所述配置于单面处理槽Y的前后方的夹持辊的圆周速度差来进行。就拉伸而言，一般例如在实施了染色工序B后进行拉伸。另外，可以与交联工序C同时进行拉伸。

就拉伸工序D而言，以总拉伸倍数相对于PVA系膜的原长以总拉伸倍数计为2～6.5倍的范围来进行。优选为2.5～6.3倍，进一步优选为3～6.1倍。即，所述总拉伸倍数是指，在除拉伸工序D以外的后述的溶胀工序A等中伴随拉伸的情况下，包含这些工序中的拉伸在内的累积的拉伸倍数。总拉伸倍数可通过考虑溶胀工序A等中的拉伸倍数来适当确定。如果总拉伸倍数低，则取向不足，从而难以得到高光学特性（偏振度）的偏振片。另一方面，如果总拉伸倍数过高，则容易产生拉伸断裂，另外，偏振片变得过薄，从而后续工序中的加工性可能下降。

可以使拉伸工序D所使用的处理液中含有碘化化合物。在使该处理液中含有碘化化合物的情况下，碘化化合物浓度优选使用0.1～10重量%左右，进一步优选使用0.2～5重量%。

所述处理浴的温度没有特别限定，通常优选在20～70℃的范围内，更优选在20～40℃的范围内。另外，与PVA系膜的接触时间没有特别限定，通常优选在5～100秒的范围内，更优选在10～80秒的范围内，进一步优选在20～70秒的范围内。

在偏振片的制造方法中，在实施所述工序后实施洗涤工序E。洗涤工序E可以利用含有碘化物的水溶液（处理液）来进行。作为所述含有碘化物的水溶液中的碘化物，可以使用前述的物质，其中，例如优选碘化钾、碘化钠等。通过该含有碘化物的水溶液，可以将在所述交联工序中使用的残留的硼酸从PVA系膜上洗掉。就所述水溶液而言，在碘化钾水溶液的情况下，其浓度例如优选在0.5～20重量%的范围内，更优选在1～15重量%的范围内，进一步优选在1.5～7重量%的范围内。

所述含有碘化物的水溶液的温度没有特别限定，通常优选在15～40℃的范围内，更优选在20～35℃的范围内。另外，与PVA系膜的接触时间没有特别限定，通常优选在2～30秒的范围内，更优选在3～20秒的范围内。

需要说明的是，在偏振片的制造方法所涉及的溶胀工序A、染色工序B、交联工序C、拉伸工序D、洗涤工序E中，在不应用本发明的处理工序（单面接触工序）的情况下，PVA系膜与处理液可通过各种接触方法进行处理。作为其他的接触方法，可以列举例如：在处理液中浸渍的方法、进行涂布的方法、进行喷雾的方法等。利用这些方法时的浸渍时间、和浴液的温度可以适当地根据需要进行设定。

在实施了所述各工序后，最后，实施干燥工序，从而制造出偏振片。作为所述干燥工序，可以使用自然干燥、风干、加热干燥等适当的方法，但通常优选使用加热干燥。在进行加热干燥的情况下，加热温度没有特别限定，通常优选在25～80℃的范围内，更优选在30～70℃的范围内，进一步优选在30～60℃的范围内。另外，干燥时间优选为1～10分钟左右。

所得到的偏振片可以按照常法而制成在其至少一面设置有透明保护膜的偏振板。作为构成透明保护膜的材料，可以使用例如透明性、机械强度、热稳定性、水阻断性、各向同性等优异的热塑性树脂。作为这样的热塑性树脂的具体例，可以列举：三乙酰纤维素等纤维素树脂、聚酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、（甲基）丙烯酸系树脂、环状聚烯烃树脂（降冰片烯系树脂）、聚芳酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇树脂、和它们的混合物。需要说明的是，在偏振片的一侧通过胶粘剂层贴合有透明保护膜，在另一侧，作为透明保护膜而可以使用（甲基）丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、硅酮系等热固化性树脂或紫外线固化型树脂。

透明保护膜的厚度可以适宜地确定，但一般从强度、操作性等作业性、薄层性等观点出发为1～500μm左右。特别优选为1～300μm，更优选为5～200μm。透明保护膜为5～150μm的情况则特别合适。

需要说明的是，在偏振片的两侧设置透明保护膜的情况下，可以在其前面和背面使用包含相同的聚合物材料的保护膜，也可以使用包含不同的聚合物材料等的保护膜。

作为所述透明保护膜，可以使用正面相位差为40nm以上和/或、厚度方向相位差为80nm以上的相位差的相位差板。正面相位差通常控制在40～200nm的范围内，厚度方向相位差通常控制在80～300nm的范围内。在使用相位差板作为透明保护膜的情况下，该相位差板也作为透明保护膜发挥左右，因此可以实现薄型化。

作为相位差板，可以列举：对高分子原材进行单轴或二轴拉伸处理而成的双折射性膜、液晶聚合物的取向膜、用膜支承液晶聚合物的取向层的构件等。相位差板的厚度也没有特别限制，一般为20～150μm左右。

需要说明的是，就具有所述相位差的膜而言，可以通过在不具有相位差的透明保护膜上另外贴附而赋予上述功能。

所述透明保护膜在涂布胶粘剂前可以进行表面改性处理。作为具体的处理，可以列举：电晕处理、等离子体处理、底涂处理、皂化处理等。

在所述透明保护膜的未粘接偏振片的面上，可以实施硬涂层处理、防反射处理、以防发粘、扩散或防眩为目的的处理。

所述偏振片与透明保护膜的胶粘处理可以使用胶粘剂。作为胶粘剂，可以例示异氰酸酯系胶粘剂、聚乙烯醇系胶粘剂、明胶系胶粘剂、乙烯基系乳胶系、水系聚酯等。所述胶粘剂通常以含有水溶液的胶粘剂的形式使用，通常含有0.5～60重量%的固体成分。除上述外，作为偏振片与透明保护膜的胶粘剂，可以列举：紫外固化型胶粘剂、电子射线固化型胶粘剂等。电子射线固化型偏振板用胶粘剂可对上述各种透明保护膜显示出适宜的胶粘性。尤其是对难以满足胶粘性的丙烯酸系树脂也显示出良好的胶粘性。另外，可以使本发明中使用的胶粘剂含有金属化合物填料。

本发明的偏振板可以通过使用所述胶粘剂将所述透明保护膜与偏振片贴合来制造。胶粘剂的涂布可以对透明保护膜、偏振片中的任一者进行，也可以对两者进行。贴合后实施干燥工序，形成含有涂布干燥层的粘接层。偏振片与透明保护膜的贴合可以通过辊式层压机等进行。粘接层的厚度没有特别限制，通常为30～1000nm左右。

本发明的偏振板在实际应用时可以以与其他光学层层叠而成的光学膜的形式使用。关于该光学层，没有特别限定，可以使用例如1层或2层以上的反射板、半透射板、相位差板（包括1/2、1/4等波长板）、视角补偿膜等有时在液晶显示装置等的形成中使用的光学层。特别优选在本发明的偏振板上进一步层叠反射板或半透射反射板而成的反射型偏振板或半透射型偏振板、在偏振板上进一步层叠相位差板而成的椭圆偏振板或圆偏振板、在偏振板上进一步层叠视角补偿膜而成的宽视角偏振板、或者在偏振板上进一步层叠亮度改善膜而成的偏振板。

就在偏振板上层叠所述光学层而成的光学膜而言，其也可以通过在液晶显示装置等的制造过程中依次另行层叠的方式来形成，但预先进行层叠而制成光学膜，具有品质的稳定性、组装作业等优异、可以使液晶显示装置等的制造工序得到改善的优点。层叠可以使用粘合层等适当的粘接单元。在所述偏振板、其他光学膜的粘接时，它们的光学轴可以根据目标相位差特性等设为适当的配置角度。

也可以在前述偏振板、至少层叠有1层偏振板的光学膜上设置用于与液晶单元等其他构件粘接的粘合层。形成粘合层的粘合剂没有特别限制，可以适当选择使用例如丙烯酸系聚合物、硅酮系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚醚、以氟系、橡胶系等的聚合物作为基础聚合物的物质。特别是可以优选使用丙烯酸系粘合剂这样的光学透明性优异、显示出适度的润湿性、凝聚性和粘接性的粘合特性、且耐候性、耐热性等优异的物质。

粘合层向偏振板、光学膜的一面或两面的附设可以通过适宜的方式进行。作为其示例，例如可以列举以下方式：制备在包含甲苯、乙酸乙酯等适宜的溶剂的单独物或混合物的溶剂中、分散或溶解有基础聚合物或其组合物而得的10～40重量%左右的粘合剂溶液，再通过流延方式、涂敷方式等适当的展开方式将所得的粘合剂溶液直接附设在偏振板上或光学膜上的方式；或者按照所述方式在隔离件上形成粘合层、再将其转移到偏振板上或光学膜上的方式等。

粘合层也可以以不同的组成或种类等的重叠层的形式设置于偏振板、光学膜的一面或两面。另外，在设置于两面的情况下，也可以在偏振板、光学膜的前面和背面形成具有不同的组成、种类、厚度等的粘合层。粘合层的厚度可以根据使用目的、粘接力等适当确定，通常为1～500μm，优选为5～200μm，特别优选为10～100μm。

对于粘合层的露出面，在供与实际应用之前，为了防止其汚染等而以暂时粘接的方式覆盖隔离件。由此，可以在通常的操作状态下防止与粘合层接触。作为隔离件，除上述厚度条件外，可以使用例如如下隔离件，即，根据需要使用硅酮系、长链烷基系、氟系、硫化钼等适宜的剥离剂，对塑料膜、橡胶片、纸、布、无纺布、网材、发泡片、金属箔、它们的层压体等适宜的薄页体进行涂敷处理而得隔离件等、现有标准的适宜的隔离件。

需要说明的是，在本发明中，也可以是通过以下方式而具有紫外线吸收能力的器件，所述方式是指，使用例如水杨酸酯系化合物、苯酚系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、镍络盐系化合物等紫外线吸收剂对上述形成偏振板的偏振片、透明保护膜、光学膜等、以及粘合层等各层进行处理的方式等方式。

本发明的偏振板或光学膜可以优选用于液晶显示装置等各种装置的形成等。液晶显示装置的形成可以根据以往方式进行。即，液晶显示装置一般通过将液晶单元和偏振板或光学膜、以及根据需要的照明系统等构成部件适当组装并加入驱动电路等来形成，在本发明中，除使用本发明的偏振板或光学膜的点外，没有特别限定，可以根据以往方式进行。例如作为所述液晶单元，没有特别限制，可以应用例如TN型、STN型、π型、VA型、IPS型等任意类型的液晶单元。

可以形成在液晶单元的一侧或两侧配置有偏振板或光学膜的液晶显示装置、照明系统使用了背光或反射板的显示装置等适宜的液晶显示装置。这种情况下，本发明的偏振板或光学膜可以设置于液晶单元的一侧或两侧。在两侧设置偏振板或光学膜的情况下，它们可以相同，也可以不同。而且，在液晶显示装置的形成时，可以在适宜的位置配置1层或2层以上例如扩散板、防眩层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列片、光扩散板、背光等适宜的部件。

实施例

以下，例示性地对本发明的优选的实施例进行详细说明。但是，就该实施例中记载的材料、配合量而言，除非是特别限定的记载，否则本发明并不限定于此。

实施例1

＜PVA系膜的准备＞

准备原料PVA系膜（（株）可乐丽制，商品名：VF-PS750）。该PVA系膜的宽度为3100mm，厚度为75μm。

＜偏振片的制作＞

使用所述图3所示的本发明的制造装置，依次进行溶胀工序、染色工序、交联-拉伸工序、洗涤工序、干燥工序。更详细而言如下所述。需要说明的是，在溶胀工序、染色工序、交联-拉伸工序和洗涤工序的各工序中使用的各单面处理槽水平设置。PVA系膜的运送速度为12m/min、各单面处理槽中的处理液的液体深度为300mm。使该单面处理槽内的处理液的液面与所述树脂膜的下表面接触。其中，在图3中，将对PVA系膜的下表面进行除液的除液单元（SUS制刮刀）全部设置于各单面处理槽Y的后方。

《溶胀工序》

在单面处理槽中填满溶胀液（水，液温30℃）。另外，溶胀液与PVA系膜的接触时间为30秒，边在纵方向上边进行溶胀。纵方向拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为2.4倍。

《染色工序》

在单面处理槽中填满染色液（0.035重量%的碘水溶液（含有0.07重量%的碘化钾），液温25℃）。另外，染色液与PVA系膜的接触时间为30秒，边在纵方向上拉伸边进行染色。纵方向的拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为3.3倍。

《交联-拉伸工序》

在单面处理槽中填满交联液（含有2.5重量%的硼酸和2重量%的碘化钾的水溶液，液温35℃）。另外，交联液与PVA系膜的接触时间为60秒，边在纵方向上拉伸边进行染色。纵方向的拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为6倍。

《洗涤工序》

在单面处理槽中填满调整液（2.5重量%的碘化氢水溶液，液温30℃）。另外，调整液与PVA系膜的接触时间为15秒。

《干燥工序》

对于洗涤工序后的PVA系膜，在干燥温度40℃、干燥时间200秒的条件下进行干燥。然后，将PVA系膜的两端部切断，并将聚对苯二甲酸乙二醇酯作为隔纸进行卷取。由此，制作卷筒状的偏振片。所得到的偏振片的厚度为30μm。

＜偏振板的制作＞

关于偏振板，使用层压机，通过PVA系粘接剂（日本合成化学（株）制、商品名：NH18）在所述偏振片的两面贴合三乙酰纤维素膜（富士膜（株）制，商品名：TD80UL）。贴合温度为25℃。然后，使用空气循环式恒温烘箱，在55℃、300秒的条件下使贴合后的层叠体干燥。由此制作偏振板。

比较例1

＜偏振片的制作＞

使用与实施例1同样的原料PVA系膜。使用所述图4所示的制造装置，依次进行溶胀工序、染色工序、交联-拉伸工序、洗涤工序、干燥工序。更详细而言如下所述。PVA系膜的运送速度为12m/min。其中，在图4中，将对PVA系膜的两面进行除液的除液单元（SUS制刮刀）全部设置于各处理槽的后方。

《溶胀工序》

在处理槽中填满溶胀液（水，液温30℃）。另外，溶胀液与PVA系膜的接触时间为30秒，边在纵方向上拉伸边进行溶胀。纵方向的拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为2.4倍。

《染色工序》

在处理槽中填满染色液（0.035重量%的碘水溶液（含有0.07重量%的碘化钾），液温25℃）。另外，染色液与PVA系膜的接触时间为30秒，边在纵方向上拉伸边进行染色。纵方向的拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为3.3倍。

《交联-拉伸工序》

在处理槽中填满交联液（含有2.5重量%的硼酸和2重量%的碘化钾的水溶液，液温35℃）。另外，交联液与PVA系膜的接触时间为60秒，边在纵方向上拉伸边进行染色。纵方向的拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为6倍。

《洗涤工序》

在处理槽中填满调整液（2.5重量%的碘化氢水溶液，液温30℃）。另外，调整液与PVA系膜的接触时间为15秒。

《干燥工序》

干燥工序与实施例1同样地进行。

＜偏振板的制作＞

比较例1所涉及的偏振板以与所述实施例1同样的方式来制作。

比较例2

＜PVA系膜的准备＞

使用与实施例1同样的原料PVA系膜。

＜偏振片的制作＞

如下依次进行溶胀工序、染色工序、交联工序、拉伸工序、洗涤工序、干燥工序。PVA系膜的运送速度为12m/min。需要说明的是，其中，将对PVA系膜的下表面进行除液的除液单元（SUS制刮刀）全部设置于各处理槽的后方。

《溶胀工序》

对与实施例1同样的原料PVA系膜的下表面喷雾30秒的水（溶胀液，液温30℃），边进行纵拉伸边进行溶胀。另外，喷雾用喷嘴与所述PVA系膜之间的距离为30cm，所述溶胀液对所述PVA系膜的喷雾量为1.0mL/1cm²。另外，作为喷涂装置，使用DeVILBISS公司制的T-AFPV（商品名）。纵拉伸的拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为2.4倍。需要说明的是，喷雾时间可由喷雾范围和运送速度算出，其表示膜上的任意点被喷涂喷雾的时间。

《染色工序》

使用染色液（0.035重量%的碘水溶液（含有0.07重量%的碘化钾），液温25℃）对溶胀后的所述PVA系膜的下表面进行30秒喷雾，边进行纵拉伸边进行染色。另外，喷雾用喷嘴与所述PVA系膜之间的距离为30cm，所述染色液对所述PVA系膜的喷雾量为1.0mL/1cm²。喷涂装置使用与所述溶胀工序中使用的装置同样的装置。纵拉伸的拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为3.3倍。

《交联工序》

使用交联液（含有2.5重量%的硼酸和2重量%的KI的水溶液，液温35℃）对染色后的所述PVA系膜的下表面进行60秒喷雾。另外，喷雾用喷嘴与所述PVA系膜之间的距离为30cm，所述交联液对所述PVA系膜的喷雾量为1mL/1cm²。喷涂装置使用与所述溶胀工序中使用的装置同样的装置。纵拉伸的拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为6倍。

《洗涤工序》

用拉伸液（含有2.5重量%的硼酸和2重量%的KI的水溶液，液温35℃）对交联后的所述PVA系膜的下表面进行15秒喷雾。另外，喷雾用喷嘴与所述PVA系膜之间的距离为30cm，所述交联液对所述PVA系膜的喷雾量为0.6mL/1cm²。喷涂装置使用与所述溶胀工序中使用的装置同样的装置。

《干燥工序》

干燥工序与实施例1同样地进行。

＜偏振板的制作＞

比较例2所涉及的偏振板以与所述实施例1同样的方式来制作。

比较例3

＜PVA系膜的准备＞

准备与实施例1同样的原料PVA系膜。

＜偏振片的制作＞

如下依次进行溶胀工序、染色工序、交联-拉伸工序、洗涤工序、干燥工序。PVA系膜的运送速度为12m/min。需要说明的是，其中，将对PVA系膜的下表面进行除液的除液单元（SUS制刮刀）全部设置于各处理槽的后方。

《溶胀工序》

使用水（溶胀液，液温30℃）涂敷在所述PVA系膜的上表面，边进行纵拉伸边进行溶胀。从涂敷起至除液为止的时间为15秒，涂敷量为15ml/s。另外，涂敷装置使用狭缝式涂布机。纵拉伸的拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为2.4倍。

《染色工序》

使用染色液（0.035重量%的碘水溶液（含有0.07重量%的碘化钾），液温25℃）涂敷溶胀后的所述PVA系膜的上表面，边进行纵拉伸边进行染色。从涂敷起至除液为止的时间为15秒，涂敷量为12ml/s。另外，涂敷装置使用与所述溶胀工序中使用的装置同样的装置。纵拉伸的拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为3.3倍。

《交联工序》

使用交联液（含有2.5重量%的硼酸和2重量%的KI的水溶液，液温35℃）涂敷染色后的所述PVA系膜的上表面。从涂敷起至除液为止的时间为30秒，涂敷量为10ml/s。另外，涂敷装置使用与所述溶胀工序中使用的装置同样的装置。纵拉伸的拉伸倍数相对于未拉伸状态的PVA系膜为6倍。

《洗涤工序》

使用拉伸液（含有2.5重量%的硼酸和2重量%的KI的水溶液，液温35℃）涂敷交联后的所述PVA系膜的上表面。涂敷时间（与调整液的接触时间）为10秒，涂敷量为10ml/s。另外，涂敷装置使用与所述溶胀工序中使用的装置同样的装置。

《干燥工序》

干燥工序与实施例1同样地进行。

＜偏振板的制作＞

比较例2所涉及的偏振板以与所述实施例1同样的方式来制作。

实施例2

在实施例1中，使用（株）可乐丽制的商品名：VF-PS400作为原料PVA系膜，除此以外，与实施例1同样地操作，制作偏振片和偏振板。该PVA系膜的宽度为3100mm，厚度为40μm。所得到的偏振片的厚度为16μm。

比较例4～6

在比较例1～3中，使用（株）可乐丽制的商品名：VF-PS400作为原料PVA系膜，除此以外，与实施例1同样地操作，制作偏振片和偏振板。该PVA系膜的宽度为3100mm，厚度为40μm。所得到的偏振片的厚度为16μm。

对于实施例和比较例中得到的偏振片和偏振板，进行下述的评价。将结果示于表1。

（偏振片的不均的状态）

对实施例和比较例中制作的偏振板的宽度方向中的任意直线上的3点进行评价。将这些评价中的最低评价作为该直线上的代表评价。另外，也在不同的直线上进行该评价。将结果示于下述表1。需要说明的是，表1中的n＝1～3表示在各直线上的不均的评价。需要说明的是，在偏振片的垂线方向、从距离50cm的状态目视进行观察，采用下述的三级的等级1～3评价所观察到的不均的状态（参照图5）。

等级1：即使在明处也可以清晰地看到不均。

等级2：在暗处可以看到不均。

等级3：在暗处未看到不均。

（偏振片的膜伤痕的检测）

对于实施例和比较例中制作的偏振板（长度方向100m），通过目视确认在长度方向100m上有无200μm以上的伤痕（亮点）。

由表1可以确认：实施例1、2所涉及的偏振片可以减少不均，并且膜的伤痕也少。另一方面，在如比较例1、4所涉及的偏振板那样、通过浸渍方式来制造偏振片的情况下，由于对膜的两面进行除液，因此可以确认膜的伤痕多。在如比较例2、5所涉及的偏振板那样、通过喷涂方式来制作偏振片的情况下，可以确认产生大量不均。

另外，如比较例3、6所涉及的偏振板那样，虽然通过涂敷方式而稍微改善了不均的产生，但是宽度方向的膜与涂敷部的间隙要求高度的设置精度（0.5mm以下），因此不容易进行制造装置的设置。关于比较例3、6，在表1中，将“设置的容易性”的项目表示为“×”。在其他实施例、比较例中，未要求高度的设置精度，因此将“设置的容易性”的项目表示为“○”。

标号说明

R、R’ 夹持辊

X      处理液

Y      单面处理槽

W      树脂膜

P      除液单元

Q      处理液供给部

Claims (10)

1.一种处理膜的制造方法，其中由树脂膜制造该树脂膜的处理膜，该处理膜的制造方法至少具有边使长条状的所述树脂膜与处理槽内的处理液接触来进行处理边进行运送的处理工序，所述处理膜的制造方法的特征在于，

所述处理工序的至少一个工序是，在处理槽内填满处理液的状态下，边使该处理槽内的处理液的液面与所述树脂膜的下表面接触边进行的单面接触工序，

并且，在所述单面处理工序所涉及的至少一个单面处理槽的后方配置有夹持辊。

2.根据权利要求1所述的处理膜的制造方法，其中，在所述单面接触工序的后方具有仅对所述处理膜的下表面侧进行除液的工序。

3.根据权利要求1或2所述的处理膜的制造方法，其特征在于，在所述单面接触工序中，在向所述单面处理槽供给从所述单面处理槽内带出的处理液的量以上的量的同时进行所述单面接触工序。

4.根据权利要求1或2所述的处理膜的制造方法，其特征在于，相对于配置于所述单面处理槽的后方的夹持辊，在该单面处理槽的前方配置有夹持辊，在利用配置于所述单面处理槽的前后方的夹持辊的圆周速度差，使长条状的树脂膜在长度方向上拉伸的同时进行所述单面接触工序。

5.根据权利要求1或2所述的处理膜的制造方法，其特征在于，通过对所述树脂膜实施处理工序而得到的处理膜为光学膜。

6.根据权利要求5所述的处理膜的制造方法，其特征在于，

所述树脂膜为聚乙烯醇系膜，

并且所述处理工序至少包括溶胀工序、染色工序、交联工序、拉伸工序和洗涤工序，并且通过所述单面接触工序进行溶胀工序、染色工序、交联工序、拉伸工序和洗涤工序中的至少一个工序，

制造作为处理膜的偏振片。

7.一种处理膜的制造装置，其特征在于，

具备至少一个处理槽，所述处理槽将填满用于对树脂膜进行任意处理的处理液，

所述至少一个处理槽是在被运送的所述树脂膜的下侧，以使所述处理液的液面与所述树脂膜的下表面接触的方式而配置的单面处理槽，

并且，在至少一个所述单面处理槽的后方配置有夹持辊。

8.根据权利要求7所述的制造装置，其特征在于，在所述单面处理槽的后方，具有对被所述处理液处理后的所述处理膜的下表面侧进行除液的单元。

9.根据权利要求7或8所述的制造装置，其特征在于，设置有向所述单面处理槽连续地供给所述处理液的处理液体供给部。

10.根据权利要求7或8所述的制造装置，其特征在于，相对于配置于所述单面处理槽的后方的夹持辊，在该单面处理槽的前方配置有夹持辊。

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