[go: up one dir, main page]

CN100349818C - 氧化镁薄膜形成用水系涂敷液 - Google Patents

氧化镁薄膜形成用水系涂敷液 Download PDF

Info

Publication number
CN100349818C
CN100349818C CNB2004100295324A CN200410029532A CN100349818C CN 100349818 C CN100349818 C CN 100349818C CN B2004100295324 A CNB2004100295324 A CN B2004100295324A CN 200410029532 A CN200410029532 A CN 200410029532A CN 100349818 C CN100349818 C CN 100349818C
Authority
CN
China
Prior art keywords
weight
coating liquid
film
content
magnesium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB2004100295324A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1530408A (zh
Inventor
加田幸司
泽田公平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NOF Corp
Original Assignee
JAPAN OIL AND GREASE Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JAPAN OIL AND GREASE Ltd filed Critical JAPAN OIL AND GREASE Ltd
Publication of CN1530408A publication Critical patent/CN1530408A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100349818C publication Critical patent/CN100349818C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
    • F02M—SUPPLYING COMBUSTION ENGINES IN GENERAL WITH COMBUSTIBLE MIXTURES OR CONSTITUENTS THEREOF
    • F02M27/00—Apparatus for treating combustion-air, fuel, or fuel-air mixture, by catalysts, electric means, magnetism, rays, sound waves, or the like
    • F02M27/04—Apparatus for treating combustion-air, fuel, or fuel-air mixture, by catalysts, electric means, magnetism, rays, sound waves, or the like by electric means, ionisation, polarisation or magnetism
    • F02M27/045—Apparatus for treating combustion-air, fuel, or fuel-air mixture, by catalysts, electric means, magnetism, rays, sound waves, or the like by electric means, ionisation, polarisation or magnetism by permanent magnets
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
    • F02B—INTERNAL-COMBUSTION PISTON ENGINES; COMBUSTION ENGINES IN GENERAL
    • F02B51/00—Other methods of operating engines involving pretreating of, or adding substances to, combustion air, fuel, or fuel-air mixture of the engines
    • F02B51/04—Other methods of operating engines involving pretreating of, or adding substances to, combustion air, fuel, or fuel-air mixture of the engines involving electricity or magnetism
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
    • F02B—INTERNAL-COMBUSTION PISTON ENGINES; COMBUSTION ENGINES IN GENERAL
    • F02B51/00—Other methods of operating engines involving pretreating of, or adding substances to, combustion air, fuel, or fuel-air mixture of the engines
    • F02B51/06—Other methods of operating engines involving pretreating of, or adding substances to, combustion air, fuel, or fuel-air mixture of the engines involving rays or sound waves
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
    • F02M—SUPPLYING COMBUSTION ENGINES IN GENERAL WITH COMBUSTIBLE MIXTURES OR CONSTITUENTS THEREOF
    • F02M27/00—Apparatus for treating combustion-air, fuel, or fuel-air mixture, by catalysts, electric means, magnetism, rays, sound waves, or the like
    • F02M27/06—Apparatus for treating combustion-air, fuel, or fuel-air mixture, by catalysts, electric means, magnetism, rays, sound waves, or the like by rays, e.g. infrared and ultraviolet
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/228—Other specific oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

本发明提供一种含有(a)碳原子数为1～6的羧酸的镁盐、(b)表面活性剂、(c)多元醇化合物以及(d)主要由水构成的溶剂的氧化镁薄膜形成用水系涂敷液。在该涂敷液中，以该涂敷液整体重量为基准，该羧酸镁盐含量为5重量%以上、50重量%以下，该表面活性剂含量为0.01重量%以上、2.5重量%以下，而该多元醇化合物含量为0.05重量%以上、40重量%以下的比率含有；该羧酸镁盐以该多元醇化合物的含量以上的量含有而且该羧酸镁盐以及该多元醇化合物的合计重量为涂敷液全体重量的80重量%以下；而且，该羧酸镁盐、表面活性剂以及多元醇化合物呈溶于该溶剂中的状态。

Description

氧化镁薄膜形成用水系涂敷液
技术领域
本发明涉及适用于利用涂敷成膜法形成用于等离子体显示板(PDP)用电介质保护膜等的氧化镁薄膜时的水系涂敷液(aqueouscoating liquid)。
背景技术
氧化镁薄膜广泛用作PDP用保护膜、绝缘膜、触媒膜、表面保护膜等。一直以来，人们使用喷镀法、真空蒸镀法等物理成膜法作为形成以上述氧化镁为代表的金属氧化物薄膜的方法。当采用这些手法时，尽管能得到均匀致密的高结晶性薄膜，但另一方面，为了在真空体系中实施成膜处理，却需要采用大型且复杂的高价装置。而且由于采用分批生产，所以还存在生产效率低、制造成本高等问题。
另一方面，相对于上述物理成膜法，还有无需采用高价的复杂装置、且可由简单工艺形成金属氧化物薄膜的方法——涂敷成膜法(coating pyrolysis method)。涂敷成膜法包括：将含有所期金属化合物的涂敷液均匀涂敷在基板上的工序；利用预烘干(prebaking)完全除去所形成的薄膜中的溶剂的工序；以及高温烘焙工序。为了最终能得到均匀透明的金属氧化物薄膜，需要有良好的被覆性能以及维持各工序中形成的薄膜的均匀性和透明性。
日本特开平9-95627号公报和特开平9-129141号公报中揭示了使用将羧酸镁盐溶于溶剂中的涂敷液从而形成氧化镁薄膜的方法。此处所用的溶剂均是有机溶剂，如二甲苯、丁基卡必醇等。利用使用这些有机溶剂的涂敷液而成膜时，可很容易实现在基板上进行均匀涂敷，但在基板上涂敷后进行预烘干时，因为有机溶剂会挥发至大气中，所以有可能对环境造成不良影响。
对此，当使用水基溶剂(water-based solvent)中含有金属化合物——例如水溶性羧酸镁盐——的溶液并由涂敷成膜法形成薄膜时，就不会出现有机溶剂挥发到大气中的情况，从而能够降低对环境的不良影响。但是，即使用水基溶剂涂敷液在基板上进行涂敷，也会因水的表面张力的作用而不能浸润基板，而不能得到均匀的膜。另外，因为上述水溶性羧酸镁盐通常是由短链的羧酸构成的，所以羧酸镁盐自身的结晶性高。因此，在基板上涂敷这种涂敷液并进行预烘干时，羧酸镁盐结晶析出，难于在基板上得到均匀透明的薄膜。
作为在基板上涂敷水系涂敷液的方法，有一种揭示于日本特开2001-10816号公报中揭示了含有铜、钛、镍、镁等金属与EDTA等配位体配位而成的金属配位化合物或其盐的水溶液以及包括聚乙二醇、聚乙烯醇、胶原蛋白等水溶性高分子化合物作为成膜物质的涂敷液。但是，尽管有可能将含有这些高分子化合物的涂敷液均匀涂敷在基板上，但在进行预烘干时会产生白浊(opaqueness)，难以形成均匀性好、透明度高的薄膜。
发明内容
本发明的氧化镁薄膜形成用水系涂敷液含有：(a)碳原子数为1～6的羧酸的镁盐、(b)表面活性剂、(c)多元醇化合物以及(d)主要由水构成的溶剂；以该涂敷液整体重量为基准，上述羧酸镁盐含量为5重量％以上、50重量％以下，上述表面活性剂含量为0.01重量％以上、2.5重量％以下，而上述多元醇化合物含量为0.05重量％以上、40重量％以下；上述羧酸镁盐的含量在上述多元醇化合物的含量以上，且该羧酸镁盐和该多元醇化合物的合计重量占涂敷液整体重量的80重量％以下；而且，该羧酸镁盐、表面活性剂和多元醇化合物呈溶于上述溶剂的状态。
在优选实施方式中，上述多元醇化合物的分子量为1000以下。
在优选实施方式中，上述表面活性剂不含金属元素和卤族元素。
因此，本发明达到了下述目的：提供一种含有高浓度短链羧酸镁盐的、能在基板上均匀涂敷的、且预烘干后也不会引起羧酸镁盐析出的、能维持均匀透明的、并能形成烘焙后也透明、均匀、具有足以耐用的膜厚的氧化镁薄膜的氧化镁薄膜形成用水系涂敷液；以及提供具有上述性质、适用于调制等离子体显示板(PDP)用电介质保护膜、绝缘膜、触媒膜、表面保护膜等的氧化镁薄膜形成用涂敷液。
具体实施方式
本发明的氧化镁薄膜形成用水系涂敷液至少含有碳原子数为1～6的羧酸镁盐(以下有时也称为羧酸镁盐(a)，(a)成份等)、表面活性剂(以下有时也称为表面活性剂(b)，(b)成份等)、多元醇化合物(以下有时也称为多元醇化合物(c)，(c)成份等)以及主要由水构成的溶剂(以下有时也称为溶剂(d)，(d)成份等)。
(1)羧酸镁盐(a)
构成本发明的氧化镁薄膜形成用水系涂敷液中所含的羧酸镁盐(a)的羧酸的碳原子数为1～6。该羧酸镁盐(a)优选为能溶于水、且溶解后能保持稳定的化合物。上述羧酸的碳原子数优选为1～4。当羧酸的碳原子数超过6时，该羧酸的镁盐对水的溶解性显著降低。因此，涂敷液中所含金属(镁)的浓度降低，使用该涂敷液形成的薄膜的膜厚太薄、不耐用。
构成本发明使用的羧酸镁盐(a)的羧酸在分子内至少含有一个羧基。该羧酸还可以含有羟基、氨基、硝基等可提高对溶剂的溶解性的极性取代基。上述羧酸可以举出甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、异丁酸、戊酸、异戊酸、己酸、2-乙基丁酸、乙醇酸、乳酸、天冬氨酸、丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、丙酮酸、马来酸、衣康酸等。羧酸镁盐(a)既可以是一分子中具有来自于同一羧酸的残基的化合物，也可以是具有来自于不同羧酸的残基的化合物。而且，还可使用两种以上的羧酸镁盐(a)的混合物。
如后所述，为了形成具有充分膜厚的透明薄膜，就上述羧酸镁盐(a)而言，优选为相对于水具有5重量％以上的溶解度的化合物。本说明书中的“相对于水的溶解度”表示相对于20℃的水的溶解度。使用相对于水的溶解度不足5重量％的羧酸镁盐制成均匀透明的涂敷液时，该涂敷液中的金属含量降低。因此，使用该涂敷液涂敷成膜时，只能得到膜厚较薄的薄膜。另外，即使以超过其溶解度的浓度添加该羧酸镁盐时，得到的涂敷液也会出现白浊，即使用它进行涂敷成膜也不能得到均匀透明的薄膜。
(2)表面活性剂(b)
本发明的氧化镁膜形成用水系涂敷液中所含表面活性剂(b)的目的在于降低涂敷液的表面张力，不致使水系涂敷液与基板不浸润，从而能均匀涂敷液。
该表面活性剂优选不含金属元素和卤族元素。就表面活性剂而言，当使用含有金属成份的表面活性剂时，在基板上涂敷涂敷液使之干燥后烘焙而成的氧化镁薄膜含有来自表面活性剂的金属成份。含有这些金属成份的氧化镁薄膜有不能发挥氧化镁的固有电性能的趋势。而当使用含有卤族元素的表面活性剂时，有烘焙时产生卤素气体、给烘焙炉内造成污染的可能性。另外，当氧化镁薄膜内残留着未分解的卤族元素时，就会导致薄膜着色，从而有对薄膜的电性能造成不良影响的可能。
如后所述，为了形成具有充分膜厚的透明薄膜，就上述表面活性剂(b)而言，优选为相对于水具有0.01重量％以上的溶解度的化合物。即使调制含有低浓度的溶解度小于0.01重量％的表面活性剂的均匀透明的涂敷液，以该涂敷液中溶解的表面活性剂量也不能改善对基板的浸润性。因此，涂敷时不与基板浸润，以致不能均匀涂敷。即使将相对于水的溶解度不足0.01重量％的表面活性剂以0.01重量％以上的比率添加到水中，也残留有不溶的表面活性剂部分，涂敷液出现白浊。结采，即使用该涂敷液进行成膜也不能得到均匀透明的膜。
本发明的氧化镁薄膜形成用水系涂敷液所含表面活性剂(b)可由非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂和两性表面活性剂中任选。
其中，优选使用非离子表面活性剂。这是因为非离子表面活性剂不易受到羧酸镁盐(a)的构成成份的镁离子或羧酸离子的影响，表面活性能高，并能赋予涂敷液经时稳定性。使用离子型表面活性剂时，能在涂敷液中引发与羧酸镁盐成份(a)的盐置换反应，而有可能引起涂敷液变质、表面活性能降低等。
在本发明所用的表面活性剂中，就非离子表面活性剂而言，可以举出聚氧化烯烷基醚、聚氧化烯烷基苯基醚、聚氧化烯脂肪酸酯、聚氧化烯山梨糖醇酐单脂肪酸酯、聚氧化烯烷基胺等。
而就阴离子表面活性剂而言，可以举出聚氧化烯烷基醚硫酸盐、酰基甲基牛磺酸盐、烷基苯磺酸盐、烷基磺基琥珀酸盐等。
就阳离子表面活性剂而言，可以举出烷基胺乙酸盐、烷基三甲基铵乙酸盐、烷基二甲基苄基铵乙酸盐等。
就两性表面活性剂而言，可以举出二甲基烷基甜菜碱、酰胺基甜菜碱型表面活性剂、咪唑啉型表面活性剂等。
上述表面活性剂既可单独使用，也可两种以上组合使用。
(3)多元醇化合物(c)
本发明的氧化镁薄膜形成用水系涂敷液中所含多元醇化合物(c)是用于防止在基板上涂敷涂敷液后进行预烘干使溶剂挥发时在基板上的涂膜上产生白浊。
可以认为基板上的涂膜白浊的原因之一是由于(但不局限于)下述原理：羧酸镁盐(a)分子之间的缔合结晶。并可认为：当涂敷液中存在适量的多元醇化合物(c)时，在形成涂膜后进行预烘干时，多元醇分子的羟基与羧酸镁盐的金属部分进行部分配位，并进入到羧酸镁分子间，阻碍羧酸镁分子之间的缔合结晶，结果就形成透明的薄膜。
本发明所用的上述多元醇化合物(c)优选为分子量1000以下、更优选为分子量800以下的多元醇化合物。当涂敷液中含有分子量超过1000的多元醇化合物时，因为分子内的羟基密度低，所以多元醇化合物不能有效地与羧酸镁盐配位，因此，不足以阻止生成结晶。进行预烘干时，因基板上羧酸镁盐的凝集而容易产生白浊。而且，分子量超过1000的高分子量多元醇化合物的分解性差，烘焙后氧化镁薄膜中可能残留有碳残渣，要使之完全分解就需要高温。
上述多元醇化合物在热重量分析法(Thermal Gravimetry：TG)中重量不再减少时的温度优选为在200～500℃的范围内。此处所说的TG的重量不再减少的温度是指TG曲线中观察不到重量减少时的温度。当使用重量不再减少时温度不足200℃的多元醇化合物时，在预烘干时和烘焙时，在羧酸镁盐(a)分解以前，多元醇化合物挥发，羧酸镁盐有在基板上结晶的趋势。另外，当重量不再减少时温度超过500℃时，烘焙后，多元醇化合物没有完全分解，膜内有可能含有分解残渣。
本发明的涂敷液中所含多元醇化合物(c)只要该化合物分子内具有两个以上的羟基，且易溶于水，就可任意使用。例如可使用一缩二乙二醇、新戊醇、甘油、三羟甲基丙烷、季戊四醇、一缩二甘油、山梨糖醇、甘露糖醇、山梨糖醇酐、二缩三甘油等低分子量多元醇。特别优选为一缩二乙二醇、甘油、一缩二甘油、山梨糖醇、山梨糖醇酐、二缩三甘油等室温下呈液状的多元醇化合物。上述化合物可单独使用，但混合使用重量不再减少的温度不同的两种类以上时，烘焙时的体积收缩更缓慢，从而能抑制裂纹的发生。
(4)溶剂(d)
本发明的涂敷液中所含溶剂(d)为主要由水构成的溶剂。此处所说的“主要由水构成的溶剂”是指溶剂为水或所含主成份为水、而作为整体具有与水同样或类似性质的溶剂。溶剂(d)中的含水量，从被覆性能的观点考虑，优选为70重量％以上。而就溶剂(d)而言，可以举出水以及在无损于本发明效果范围内含有水溶性醇类溶剂的水性溶剂。就溶剂(d)而言，优选为所含水溶性醇类溶剂含量不足30重量％、更优选为不足20重量％、特别优选为不足10重量％的水性溶剂或水。当所含的水以外的溶剂超过30重量％时，不能利用表面活性剂充分提高浸润性效果，涂敷时与基板的浸润性不好或形成斑点，以致不能均匀涂敷。上述水溶性醇可以举出甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇等。
(5)水系涂敷液
本发明的水系涂敷液如上所述，含有羧酸镁盐(a)、表面活性剂(b)、多元醇化合物(c)以及溶剂(d)，这些成份以溶于涂敷液中的状态存在。
上述羧酸镁盐(a)在涂敷液中的含量在5重量％以上、50重量％以下的范围内。当a成份的含量不足5重量％时，涂敷液中的金属(镁)含量低，因此，使用该涂敷液进行涂敷制膜时，形成膜较薄。这种薄膜没有足够的厚度，不耐用。而当a成份的含量超过50重量％时，羧酸镁盐没有完全溶于涂敷液中，涂敷液出现白浊，因此，使用这种涂敷液进行涂敷成膜时不能得到透明的薄膜。
上述表面活性剂(b)在涂敷液中的含量在0.01～2.5重量％的范围内。当b成份的含量不足0.01重量％时，不能充分降低涂敷液的表面张力，涂敷液与基板不浸润，所以，不能得到均匀的涂敷膜。而当b成份的含量超过2.5重量％时，尽管改善了涂敷液在基板上的被覆性能，但在涂敷后进行预烘干时，剩余的表面活性剂在基板上凝集而出现白浊。在这种状态下烘焙时，残存有白浊，不能得到均匀透明的薄膜。
上述多元醇化合物(c)在涂敷液中的含量在0.05～40重量％的范围内。当c成份不足0.05重量％时，则在涂敷后预烘干时，溶剂挥发后易于在基板上产生白浊。而当c成份超过40重量％时，也容易产生白浊。这是由预烘干后c成份之间的缔合导致的。因此，当c成份的含量在上述范围以外时，则无论在什么情况下都不能通过烘焙得到均匀透明的薄膜。
上述a成份的含量在c成份的含量以上。当a成份的含量少于c成份的含量时，在基板上会产生白浊。在这种状态下进行烘焙也不能得到均匀透明的薄膜。而且，a成份和c成份的合计重量须在涂敷液全体重量的80重量％以下。当其含量超过80重量％时，涂敷液中溶剂的含量就相对减少，难于将羧酸镁盐完全溶解。使用这种涂敷液进行涂敷成膜也不能得到均匀透明的薄膜。
通过将上述a成份、b成份、c成份、d成份以及根据需要需添加的其它成份均匀混合，就得到本发明的氧化镁薄膜形成用水系涂敷液。将该涂敷液涂敷在应形成氧化镁薄膜的基板上。就基板而言是该领域常用的基板，例如：玻璃基板：由聚碳酸酯、环氧树脂等树脂制成的基板；用这些树脂制成的膜等。如后所述，在高温——如200℃以上的温度——下进行烘焙制成金属氧化物薄膜时，适于使用玻璃基板。而利用紫外线照射形成金属氧化物薄膜时，适于使用树脂基板或树脂膜。
对于在基板上涂敷上述涂敷液的方法没有特别限制。例如可使用毛刷涂敷法、浸渍法、旋转涂敷法、喷镀法、丝网印刷法、辊涂法、用喷墨方式形成式样(pattern)的方法等。将利用这些涂敷方法得到的膜干燥后，再用该领域常用的方法就能得到氧化镁膜。例如，可使用在200℃以上的温度下烘焙的方法、照射紫外线使基板上的薄膜变换为金属氧化物薄膜的方法。另外，也可同时使用这些方法。
进行烘焙时，为使有机成份完全分解，所以优选在200℃以上、更优选在350℃以上、进一步优选为在450℃以上的温度下进行烘焙。
使用本发明的涂敷液就能很容易地将其均匀地涂在基板上，就可在基板上形成均匀透明的氧化镁薄膜。
这样，通过本发明就能提供可在基板上均匀涂敷、可形成具有均匀透明耐用的膜厚的氧化镁薄膜的涂敷液。由于该涂敷液是将以水为主成份的溶剂作基础，所以不会污染环境，对人体也安全。本发明的氧化镁薄膜形成用涂敷液广泛用于等离子体显示板(PDP)用电介质保护膜、绝缘膜、触媒膜、表面保护膜的制造等多种领域。
实施例
下面，根据所举出的实施例具体说明使用本发明的水系涂敷液的氧化镁薄膜的形成方法。另外，实施例中的“份”表示重量份。
(涂敷液、涂敷膜以及烘焙膜的评价方法)
(I)涂敷液外观的评价
通过肉眼观察评价涂敷液的外观。在下述表中，评价结果按照下述标准表示。
○透明
×可观察到白浊或存在固体。
(II)被覆性能的评价
用旋转涂敷机将涂敷液涂敷在基板表面上，用肉眼观察涂膜的状态。在下述表中，评价结果按照下述标准表示。
○涂敷均匀
×与基板不浸润，涂敷不均匀
(III)预烘干后的薄膜状态的评价
用肉眼观察预烘干后的薄膜状态。在下述表中，评价结果按照下述标准表示。
○均匀透明
×出现白浊或存在裂纹
(IV)烘焙后的薄膜状态的评价
用肉眼观察烘焙后的薄膜的状态。在下述表中，评价结果按照下述标准表示。
○均匀透明、不存在裂纹
×出现白浊或存在裂纹
(V)烘焙后得到的氧化镁薄膜的膜厚
使用株式全社ULVAC制触针式表面形状测定器DEKTAC 3ST测定膜厚。
(实施例1)
在室温下，将表1所示的量的各成份(羧酸镁盐、表面活性剂、多元醇化合物和水)混合，制成涂敷液。用旋转涂敷机将该涂敷液涂敷在玻璃基板上。将该基板在预热到80℃的烤炉上进行15分钟的预烘干。然后将该玻璃基板放入烘焙炉内，在空气环境下，以5℃/分钟的升温速度加热到450℃，进行烘焙，得到表面具有氧化镁薄膜的基板。
在上述工序中，根据上述评价方法评价涂敷液的外观、被覆性能(涂膜的外观)、预烘干后的薄膜状态以及在450℃下烘焙后的薄膜状态，由上述方法测定烘焙后的氧化镁薄膜的厚度。其结果如表2所示。
(实施例2～20)
使用表1所示各成份，与实施例1一样，制成涂敷液，使用该涂敷液制成具有氧化镁薄膜的基板，对其进行评价。其结果如表2所示。
(比较例1～15)
使用表3所示各成份，与实施例1一样，制成涂敷液，使用该涂敷液制成具有氧化镁薄膜的基板，对其进行评价。其结果如表4所示。
根据表1和表2可知如下的情况：实施例1～20的涂敷液含有由任一种碳原子数为1～6的羧酸构成的羧酸镁盐(a)、表面活性剂(b)、以及多元醇化合物(c)。其含量为：a成份为5重量％以上、50重量％以下；b成份为0.01重量％以上、2.5重量％以下；而c成份为0.05重量％以上、40重量％以下，且a成份的含量大于c成份的含量。而且，a成份和c成份的含量之和在涂敷液整体重量的80重量％以下。
该涂敷液均匀透明，且在将其涂敷在基板上时，涂膜在预烘干时和烘焙后都是均匀透明的，所以能制成没有裂纹等的氧化镁薄膜。
另外，根据表3和表4可知如下的情况：在比较例1和2的涂敷液中，c成份的含量超过a成份的含量；而在比较例7和8中，b成份的含量超过2.5重量％。当使用这些涂敷液时，形成的氧化镁薄膜会发生白浊。
在比较例3和4的涂敷液中，a成份的含量超过50重量％；在比较例11中，a成份和c成份的总和超过80重量％；在比较例15中，a成份不是碳原子数为1～6的羧酸镁盐。在这些涂敷液中，羧酸镁没有完全溶解于溶剂中，有固体存在，所以，涂敷液出现白浊。根据表4可知：使用这些涂敷液进行成膜都不能得到均匀透明的薄膜。
在比较例5和6的涂敷液中，b成份的含量不足0.01重量％；而在比较例12中，不仅b成份的含量不足0.01重量％，且c成份的分子量还超过1000。使用这些涂敷液在基板上涂敷时，与基板不浸润，不能均匀涂敷。
在比较例9和10的涂敷液中，c成份不足0.05重量％；而在比较例13中，不仅c成份的含量不足0.05重量％，且c成份的分子量超过1000。而在比较例14中，c成份不是多元醇。这些涂敷液会使羧酸镁在基板上结晶，产生白浊。
于是，在任一比较例中，烘焙后都得不到均匀透明的氧化镁薄膜。
表1
        羧酸镁盐(a)                表面活性剂(b)                            多元醇化合物(c)   水
  化合物   含量(份)   表面活性剂的类型   化合物   含量(份)   化合物   含量(份)   分子量   重量不再减少时的温度(℃)   含量(份)
  实施例1   乙酸镁   5   非离子性   I   0.05   甘油   0.5   92.1   256.2   94.4
  实施例2   乙酸镁   20   非离子性   I   0.1   甘油   2.0   92.1   256.2   77.9
  实施例3   乙酸镁   40   非离子性   I   1.0   甘油   8.0   92.1   256.2   51.0
  实施例4   乙酸镁   50   非离子性   I   1.0   甘油   10.0   92.1   256.2   29.0
  实施例5   乙酸镁   30   非离子性   II   1.0   一缩二乙二醇   15.0   106.1   212.9   54.0
  实施例6   乙酸镁   30   非离子性   II   2.0   聚乙二醇(分子量400)   3.0   400   277.6   65.0
  实施例7   乙酸镁   30   非离子性   III   1.0   聚乙二醇(分子量1000)   3.0   1000   297.3   66.0
  实施例8   乙酸镁   40   非离子性   III   0.5   山梨糖醇酐   6.0   164.2   348.1   63.5
  实施例9   乙酸镁   40   非离子性   IV   1.0   山梨糖醇   0.9   182.2   369.0   60.0
  实施例10   乙酸镁   30   非离子性   IV   1.0   三羟甲基丙烷   1.0   134.2   243.6   68.0
  实施例11   丙酸镁   30   非离子性   V   1.0   甘油   3.0   92.1   256.2   66.0
  实施例12   乙醇酸镁   30   非离子性   V   0.5   甘油   6.0   92.1   256.2   63.5
  实施例13   乳酸镁   5   非离子性   I   0.3   甘油   0.5   92.1   256.2   94.2
  实施例14   丁酸镁   30   非离子性   I   1.5   山梨糖醇酐   5.0   164.2   348.1   63.5
  实施例15   异丁酸镁   35   非离子性   I   1.0   山梨糖醇酐   10.0   164.2   348.1   54.0
  实施例16   2-乙基丁酸镁   30   非离子性   I   2.0   一缩二乙二醇   1.0   106.1   212.9   67.0
  实施例17   甲酸镁   5   非离子性   I   0.2   一缩二乙二醇   0.5   106.1   212.9   94.3
  实施例18   乙酸镁   30   阴离子性   VI   0.1   甘油   3.0   92.1   256.2   66.9
  实施例19   乙酸镁   30   阴离子性   VII   0.1   山梨糖醇酐   5.0   164.2   348.1   64.9
  实施例20   乙酸镁   40   阳离子性   VIII   0.1   甘油   4.0   92.1   256.2   55.9
化合物I：聚氧乙烯(30摩尔)月桂基醚、      化合物II：聚氧乙烯(40摩尔)壬基苯基醚、
化合物III：聚氧乙烯(15摩尔)硬脂酸酯、    化合物IV：聚氧乙烯(20摩尔)山梨糖醇酐单油酸酯、
化合物V：聚氧乙烯(20摩尔)硬脂酰胺、      化合物VI：聚氧乙烯(10摩尔)月桂基醚硫酸三乙醇胺盐
化合物VII：二辛基磺基琥珀酸胺盐、        化合物VIII：月桂基甲基胺乙酸盐
表2
涂敷液外观 被覆性能   预烘干后的薄膜状态   烘焙后的薄膜状态   膜厚(μm)
  实施例1   ○   ○   ○   ○   0.11
  实施例2   ○   ○   ○   ○   0.33
  实施例3   ○   ○   ○   ○   0.50
  实施例4   ○   ○   ○   ○   0.56
  实施例5   ○   ○   ○   ○   0.37
  实施例6   ○   ○   ○   ○   0.28
  实施例7   ○   ○   ○   ○   0.30
  实施例8   ○   ○   ○   ○   0.52
  实施例9   ○   ○   ○   ○   0.53
  实施例10   ○   ○   ○   ○   0.28
  实施例11   ○   ○   ○   ○   0.22
  实施例12   ○   ○   ○   ○   0.23
  实施例13   ○   ○   ○   ○   0.12
  实施例14   ○   ○   ○   ○   0.28
  实施例15   ○   ○   ○   ○   0.18
  实施例16   ○   ○   ○   ○   0.19
  实施例17   ○   ○   ○   ○   0.11
  实施例18   ○   ○   ○   ○   0.20
  实施例19   ○   ○   ○   ○   0.21
  实施例20   ○   ○   ○   ○   0.17
表3
         羧酸镁盐(a)                表面活性剂(b)                        多元醇化合物(c)   水
  化合物   含量(份)   表面活性剂的类型   化合物   含量(份)   化合物   含量(份)   分子量   重量不再减少时的温度(℃)   含量(份)
  比较例1   乙酸镁   10.0   非离子性   I   1.0   甘油   15.0   92.1   256.2   74.0
  比较例2   异丁酸镁   20.0   非离子性   I   0.5   一缩二乙二醇   30.0   106.1   212.9   49.5
  比较例3   乙酸镁   60.0   非离子性   I   0.1   甘油   6.0   92.1   256.2   33.9
  比较例4   丙酸镁   55.0   非离子性   I   0.1   山梨糖醇酐   1.0   164.2   348.1   43.9
  比较例5   乙酸镁   30.0   非离子性   I   0.001   甘油   3.0   92.1   256.2   66.999
  比较例6   乙醇酸镁   25.0   非离子性   I   0.003   三羟甲基丙烷   5.0   134.2   243.6   69.997
  比较例7   乙酸镁   30.0   非离子性   II   5.0   甘油   3.0   92.1   256.2   62.0
  比较例8   甲酸镁   5.0   非离子性   II   4.0   山梨糖醇   4.0   182.2   369.0   87.0
  比较例9   乙酸镁   20.0   非离子性   III   1.0   甘油   0.01   92.1   256.2   78.99
  比较例10   乳酸镁   5.0   非离子性   III   0.5   聚乙二醇(分子量400)   0.01   400   277.6   94.49
  比较例11   乙酸镁   45.0   非离子性   IV   0.1   甘油   45.0   92.1   256.2   9.9
  比较例12   乙酸镁   30.0   非离子性   IV   0.003   聚乙二醇(分子量4000)   6.0   4000   499.7   63.0
  比较例13   乙酸镁   30.0   非离子性   V   0.1   聚乙二醇(分子量11000)   0.01   11000   510.7   69.89
  比较例14   乙酸镁   40.0   非离子性   I   1.5   -*1   4.0   76.1   154.3   54.5
  比较例15   辛酸镁   3.0   非离子性   I   1.0   甘油   10   92.1   256.2   95.0
化合物I：聚氧乙烯(30摩尔)月桂基醚、      化合物II：聚氧乙烯(40摩尔)壬基苯基醚、
化合物III：聚氧乙烯(15摩尔)硬脂酸酯、    化合物IV：聚氧乙烯(20摩尔)山梨糖醇酐单油酸酯、
化合物V：聚氧乙烯(20摩尔)硬脂酰胺、
*1：一缩二乙二醇单甲基醚
表4
  涂敷液外观   被覆性能   预烘干后的薄膜状态   烘焙后的薄膜状态   膜厚(μm)
  比较例1   ○   ○   ×   ×   0.17
  比较例2   ○   ○   ×   ×   0.16
  比较例3   ×   ×   ×   ×   -
  比较例4   ×   ×   ×   ×   -
  比较例5   ○   ×   ×   ×   -
  比较例6   ○   ×   ×   ×   -
  比较例7   ○   ○   ×   ×   0.29
  比较例8   ○   ○   ×   ×   0.10
  比较例9   ○   ○   ×   ×   -
  比较例10   ○   ○   ×   ×   -
  比较例11   ×   ×   ×   ×   -
  比较例12   ○   ×   ×   ×   -
  比较例13   ○   ○   ×   ×   0.24
  比较例14   ○   ○   ×   ×   -
  比较例15   ×   ×   ×   ×   -

Claims (2)

1.一种氧化镁薄膜形成用水系涂敷液，其特征在于：含有
(a)碳原子数为1～6的羧酸的镁盐，
(b)表面活性剂，
(c)多元醇化合物，和
(d)主要由水构成的溶剂；
所述多元醇化合物的分子量为1000以下，
以所述涂敷液整体重量为基准，所述羧酸镁盐的含量为5重量％以上、50重量％以下，所述表面活性剂含量为0.01重量％以上、2.5重量％以下，所述多元醇化合物含量为0.05重量％以上、40重量％以下，
所述羧酸镁盐的含量在所述多元醇化合物的含量以上，且所述羧酸镁盐和所述多元醇化合物的合计重量占涂敷液整体重量的80重量％以下；而且，
所述羧酸镁盐、表面活性剂和多元醇化合物呈溶于所述溶剂的状态。
2.如权利要求1所述的氧化镁薄膜形成用水系涂敷液，其特征在于，所述表面活性剂不含金属元素和卤族元素。
CNB2004100295324A 2003-03-18 2004-03-18 氧化镁薄膜形成用水系涂敷液 Expired - Fee Related CN100349818C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003073890A JP4470383B2 (ja) 2003-03-18 2003-03-18 酸化マグネシウム薄膜形成用水系塗布液
JP2003073890 2003-03-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1530408A CN1530408A (zh) 2004-09-22
CN100349818C true CN100349818C (zh) 2007-11-21

Family

ID=32844570

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2004100295324A Expired - Fee Related CN100349818C (zh) 2003-03-18 2004-03-18 氧化镁薄膜形成用水系涂敷液

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6911072B2 (zh)
EP (1) EP1464630B1 (zh)
JP (1) JP4470383B2 (zh)
KR (1) KR101149769B1 (zh)
CN (1) CN100349818C (zh)
CA (1) CA2458770C (zh)
DE (1) DE602004000826T2 (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7078859B2 (en) * 1995-03-31 2006-07-18 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Coating composition and use thereof
JP2007137939A (ja) * 2005-11-15 2007-06-07 Jsr Corp 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルム、パネル部材の形成方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法
US8148899B2 (en) * 2008-04-02 2012-04-03 Panasonic Corporation Plasma display panel and method for manufacturing the same
JP6385155B2 (ja) * 2014-06-03 2018-09-05 小林　博 熱伝導性ペーストの製造方法
JP6722492B2 (ja) * 2016-04-06 2020-07-15 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体
CN111875263B (zh) * 2020-07-23 2022-09-06 安徽晶驰光电科技有限公司 一种减反射玻璃的防眩光镀膜方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995023119A1 (en) * 1994-02-28 1995-08-31 Philips Electronics N.V. Coating solution suitable for the manufacture of a magnesium-oxide layer and a method of manufacturing such a layer
US6149967A (en) * 1995-10-09 2000-11-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Sol solution and method for film formation
JP2001048588A (ja) * 1999-06-11 2001-02-20 Symetrix Corp プラズマディスプレイパネルで使用するための金属酸化物膜を製造する方法
FR2805184A1 (fr) * 2000-02-09 2001-08-24 Thomson Plasma Procede de realisation d'une couche a base de magnesie dans un panneau de visualisation

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5191098A (en) * 1989-07-26 1993-03-02 Henkel Corporation Continuous process for preparation of aqueous dispersions of metal soaps
JPH0995627A (ja) 1995-09-29 1997-04-08 Shinto Paint Co Ltd 金属酸化物薄膜形成用コーティング剤
JPH09129141A (ja) 1995-11-01 1997-05-16 Shinto Paint Co Ltd 金属酸化物薄膜形成用コーティング剤
JP2001010816A (ja) 1999-06-23 2001-01-16 Teikoku Chem Ind Corp Ltd 金属酸化物薄膜形成用組成物
CA2445917C (en) * 2002-10-28 2011-08-02 Nof Corporation Organic acid metal salt and coating liquid containing the same for forming a metal oxide film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995023119A1 (en) * 1994-02-28 1995-08-31 Philips Electronics N.V. Coating solution suitable for the manufacture of a magnesium-oxide layer and a method of manufacturing such a layer
US6149967A (en) * 1995-10-09 2000-11-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Sol solution and method for film formation
JP2001048588A (ja) * 1999-06-11 2001-02-20 Symetrix Corp プラズマディスプレイパネルで使用するための金属酸化物膜を製造する方法
FR2805184A1 (fr) * 2000-02-09 2001-08-24 Thomson Plasma Procede de realisation d'une couche a base de magnesie dans un panneau de visualisation

Also Published As

Publication number Publication date
CA2458770C (en) 2010-09-14
DE602004000826D1 (de) 2006-06-14
EP1464630B1 (en) 2006-05-10
EP1464630A1 (en) 2004-10-06
US6911072B2 (en) 2005-06-28
US20040247505A1 (en) 2004-12-09
CN1530408A (zh) 2004-09-22
CA2458770A1 (en) 2004-09-18
JP4470383B2 (ja) 2010-06-02
KR20040082322A (ko) 2004-09-24
DE602004000826T2 (de) 2007-05-16
JP2004277648A (ja) 2004-10-07
KR101149769B1 (ko) 2012-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5403293B2 (ja) 透明導電膜の製造方法及び透明導電膜、それを用いた素子、透明導電基板並びにそれを用いたデバイス
TWI439434B (zh) 用於二氧化矽及氮化矽層之可印刷蝕刻介質
JP3302186B2 (ja) 透明導電性被膜付基材、その製造方法および該基材を備えた表示装置
CN1426381A (zh) 用于无机表面的蚀刻糊
JP5712635B2 (ja) 銀含有組成物
CN1756606A (zh) 高折射率的杂混有机－无机聚合物涂层
WO2014101989A1 (de) Dotiermedien zur lokalen dotierung von siliziumwafern
CN100349818C (zh) 氧化镁薄膜形成用水系涂敷液
KR20160126187A (ko) 금속 나노선, 이를 포함하는 잉크 조성물 또는 투명 전도막, 및 이의 제조방법
CN102827508A (zh) 印刷用溶剂或溶剂组合物
US9198288B2 (en) Method of making silver carboxylates for conductive ink
WO2014007263A1 (ja) ドーパント拡散用塗布液、およびその塗布方法、並びにそれを用いた半導体の製法、半導体
JP2013140687A (ja) 導電ペースト、導電膜付き基材およびその製造方法
CN106928775A (zh) 一种可低温烧结的纳米铜导电油墨、制备方法和印刷应用
KR101759004B1 (ko) 은 함유 조성물 및 은 요소 형성 기재
CN1417377A (zh) 透明导电层形成用涂液的制造方法
KR101102782B1 (ko) 저융점 카복실산 주석염 및 이의 제조방법
JP4069783B2 (ja) スズ酸化物薄膜形成用塗布液
CN1412117A (zh) 以水溶液法制备氧化铟锡粉末的方法
JP2005154654A (ja) インジウム−スズ酸化物薄膜形成用塗布液
JP4622338B2 (ja) 酸化マグネシウム薄膜の形成方法
CN1498926A (zh) 有机酸金属盐和用于形成含有该盐的金属氧化物薄膜的涂敷液
CN1539592A (zh) 用于铁质焊件的助焊剂
JP6178543B2 (ja) Ｐ型拡散層用塗布液
CN1847156A (zh) 掺锑和稀土的氧化锡复合导电粉的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C56 Change in the name or address of the patentee

Owner name: JAPAN OIL CO.

Free format text: FORMER NAME OR ADDRESS: NOF CORP.

CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Tokyo, Japan

Patentee after: NOF Corp.

Address before: Tokyo, Japan

Patentee before: NOF Corp.

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20071121