CN109899327B

CN109899327B - 气流产生装置

Info

Publication number: CN109899327B
Application number: CN201711287764.3A
Authority: CN
Inventors: 张守伦; 王春; 李刚; 谭东旭
Original assignee: Kunshan Weiji Information Communication Co ltd; Wistron Corp
Current assignee: Kunshan Weiji Intelligent Technology Co ltd; Wistron Kunshan Co Ltd; Wistron Corp
Priority date: 2017-12-07
Filing date: 2017-12-07
Publication date: 2021-09-21
Anticipated expiration: 2037-12-07
Also published as: US20210140422A1; TWI658209B; TW201925623A; CN109899327A; US11466674B2; US20190178253A1

Abstract

一种气流产生装置。该气流产生装置包括一围壁、一框架片、一遮盖膜片及一振动件；该围壁形成一气流通道；该框架片设置于该气流通道内且其周围与该围壁紧密接触；该遮盖膜片包括固定至该框架片的中间部位的一中间连接部及连接至该中间连接部的多个活动遮盖部，该遮盖膜片位于该框架片与该气流通道的出口之间，该多个活动遮盖部选择性地遮盖该框架片的多个开孔；该振动件与该框架片固定连接；当该振动件振动时，该框架片的中间部位及该遮盖膜片的中间连接部随之移动，使得该多个活动遮盖部密封该多个开孔或相对于该多个开孔相对向上移动。本发明未利用旋转扇叶产生气流，装置体积小，适用于薄型电子装置的散热系统中，提升散热效能、改善运作效能。

Description

气流产生装置

技术领域

本发明涉及一种气流产生装置，尤其涉及一种无扇叶而藉由往复振动以产生气流的气流产生装置。

背景技术

一般对于电子装置的散热问题，多使用扇叶转动式风扇，通过风扇扇叶转动强制对流与环境进行热交换。扇叶转动式风扇即使小型化仍具有相当的装置体积，需要相当的设置空间来设置。目前扇叶转动式风扇仍常使用于传统笔记本型计算机的散热系统中。但对于薄型笔记本型计算机、平板、手机等，由于装置结构尺寸的限制，扇叶转动式风扇难以满足其要求，造成装置在运作时产生的热难以迅速散逸，影响了装置运作效能。

因此，需要提供一种气流产生装置来解决上述问题。

发明内容

鉴于先前技术中的问题，本发明提供一种气流产生装置，利用薄膜振动产生气压差并搭配单向阀门结构，以产生强制气流，可用于散热。

根据本发明的气流产生装置包括一围壁、一框架片、一第一遮盖膜片以及一振动件；该围壁形成一气流通道，该气流通道具有一入口及一出口；该框架片设置于该气流通道内且具有多个第一开孔，该框架片的周围与该围壁紧密接触并将该气流通道区隔为连通该出口的一第一气室与连通该入口的一第二气室；该第一遮盖膜片包括一第一中间连接部及连接至该第一中间连接部的多个第一活动遮盖部，该第一遮盖膜片位于该框架片与该出口之间，该第一中间连接部固定至该框架片的中间部位，该多个第一活动遮盖部选择性地遮盖该多个第一开孔；该振动件与该框架片固定连接，可用以往复振动；其中，当该振动件朝向该第一气室以一第一方向移动时，该框架片的至少中间部位及该第一遮盖膜片的第一中间连接部以该第一方向移动，使得该多个第一活动遮盖部密封该多个第一开孔并将该第一气室内的气体推出该出口外，同时自该入口吸入一外部气体，以及当该振动件以相反于该第一方向的一第二方向朝向该第二气室移动时，该框架片的至少中间部位及该第一遮盖膜片的第一中间连接部以该第二方向移动，使得该多个第一活动遮盖部相对于该多个第一开孔以该第一方向掀开，使至少一部分该外部气体从该第二气室进入该第一气室。藉此，通过该振动件的振动，产生该多个活动遮盖部与该多个开孔产生的开、合作用，使得该气流产生装置能产生一气流，自该入口流入该气流产生装置、流经该气流通道、自该出口流出该气流产生装置。该气流即可作为散热之用。

相对于先前技术，本发明的气流产生装置未利用旋转扇叶产生气流，故装置体积可小于传统扇叶转动式风扇，使得该气流产生装置可适用于薄型笔记本型计算机、平板、手机等装置的散热系统中，提升散热效能，也改善了装置运作效能。

关于本发明的优点与精神可以藉由以下的发明详述及所附附图得到进一步的了解。

附图说明

图1为根据一实施例的气流产生装置的示意图。

图2为图1的气流产生装置的分解图。

图3为图1的气流产生装置在其振动件以一第一方向移动时沿线X-X的剖面图。

图4为图1的气流产生装置在其振动件以一第二方向移动时沿线X-X的剖面图。

图5为根据另一实施例的气流产生装置的剖面图。

图6为根据另一实施例的气流产生装置的剖面图。

图7为根据另一实施例的气流产生装置的分解图。

图8为图7的气流产生装置的剖面图。

图9为图8的气流产生装置在其振动件的磁铁以第二方向移动时的剖面图。

图10为根据另一实施例的气流产生装置的剖面图。

主要组件符号说明：

1、3、4、5、6 气流产生装置 362 磁铁

10 围壁 364 电磁铁

102 气流通道 52 第二遮盖膜片

102a 入口 522 第二中间连接部

102b 出口 524 第二活动遮盖部

104 第一开口 54 第三遮盖膜片

106 第二开口 542 第三中间连接部

12 框架片 544 第三活动遮盖部

12a 第一开孔 56 下支架

12b 周围 56a 第二开孔

12c 中间部位 56b 周围

14 第一遮盖膜片 56c 中间部位

142 第一中间连接部 58 上支架

144 第一活动遮盖部 58a 第三开孔

16 振动件 58b 周围

18 下支架 58c 中间部位

20 上支架 A 上气室

22 下弹簧 B 下气室

24 上弹簧 D1 第一方向

36 振动件 D2 第二方向

具体实施方式

请参阅图1至图4。根据本发明一实施例的一气流产生装置1包含一围壁10、一框架片12(在剖面图中，以夸大比例绘示)、一第一遮盖膜片14(在剖面图中，以夸大比例绘示)及一振动件16。围壁10形成一气流通道102并具有一第一开口104及一第二开口106，气流通道102具有一个或多个入口102a及一个或多个出口102b。其中，第一开口104即包含入口102a，第二开口106即包含出口102b。框架片12设置于气流通道102内且具有多个第一开孔12a，框架片12的周围12b与围壁10内壁紧密接触或固定。第一遮盖膜片14包含一第一中间连接部142及连接至第一中间连接部142的与多个第一开孔12a的数量及位置分别相对应的多个第一活动遮盖部144。第一遮盖膜片14位于框架片12与出口102b之间，第一中间连接部142固定至框架片12的中间部位12c(例如热熔、胶黏)，该多个第一活动遮盖部144可选择性地遮盖该多个第一开孔12a。振动件16(其与外部电源连接的接线以虚线示意于图3中)与框架片12固定连接，用以产生在单一轴向的往复振动。在本实施例中，振动件16可为包含有永磁铁与电磁铁的组合模块，用以在电磁铁的磁力作用下使永磁铁在单一轴向上往复移动而伴随带动与永磁铁连接的活动遮盖部144摆动，但本发明均不以此为限，例如振动件16亦可包含一个或多个压电片，藉以在电压驱动下进行摆动而伴随带动与压电片连接的活动遮盖部144摆动。在实践上，围壁10得由但不限于一圆管实践，例如围壁10截面可呈方形。框架片12与第一遮盖膜片14得由但不限于高分子(例如聚酯树脂、聚乙烯、聚丙烯等等)材料制作(可并通过冲压裁切出其轮廓)，且框架片12与第一遮盖膜片14可为相同材质亦可为不同材质，以及可均为薄膜或只有第一遮盖膜片14为薄膜。在另一实施例中，框架片12与第一遮盖膜片14也可采用金属薄膜。

此外，气流产生装置1还包含一下支架18及一上支架20，下支架18及上支架20分别设置于第一开口102a及第二开口102b并固定连接至围壁10。下支架18及上支架20分别位于入口102a及出口102b，故有助于维持围壁10结构，亦有助于提升气流产生装置1整体结构强度。另外，在本实施例中，下支架18及上支架20由数个肋连接数个同心圆结构实践，但在实践上，下支架18及上支架20亦可以其他结构实践，例如以圆盘实践，其上形成数个通孔182、202，以供气体(例如空气)流通。又，下支架18及上支架20其中之一可直接与围壁10一体成型，例如通过对金属板实施引伸加工形成杯状结构。在本实施例中，气流产生装置1在下支架18及上支架20间的气流通道102被第一遮盖膜片14与框架片12区隔成上气室A及下气室B。

当振动件16以一第一方向D1往上气室A振动时(如图3所示，以图3视角而言，振动件16位于振动的高点)，框架片12的中间部位12c及第一遮盖膜片14的第一中间连接部142亦随之以第一方向D1移动，使得该多个第一活动遮盖部144密封该多个第一开孔12a；其中，图中框架片12呈向上突起的状态。以图3视角而言，在振动件16向上振动(即以第一方向D1移动)的过程中会压缩上气室A的空气而使上气室A产生相对于下气室B而言较大的气压，使框架片12及第一遮盖膜片14均受其上方上气室A气体向下的阻力，故此阻力会使该多个第一活动遮盖部144趋向紧贴该多个第一开孔12a，进而产生密封该多个第一开孔12a的效果，或谓关闭该多个第一开孔12a。

此外，在振动件16向上振动的过程中，框架片12及第一遮盖膜片14向上气室A的移动(或谓框架片12带着第一遮盖膜片14向上突出)亦会对框架片12上方上气室A的气体产生推挤作用，使得框架片12上方上气室A的气体经由出口102b快速吹出围壁10以产生较强气流(以空心箭头表示于图中)；同时，框架片12及第一遮盖膜片14向上的移动亦会使框架片12下方下气室B框架片膨胀，使得下气室B气压小于下支架18下方外大气压，促使下支架18下方的外界气体自入口102a被吸入下气室B(以空心箭头表示于图中)。

又，当振动件16以相反于第一方向D1的一第二方向D2往下气室B振动时(如图4所示，以图4视角而言，振动件16位于振动的低点)，框架片12的中间部位12c及第一遮盖膜片14的第一中间连接部142亦随之往第二方向D2移动，使得该多个第一活动遮盖部144的自由端相对于该多个第一开孔12a以第一方向D1移动而掀开；其中，图中框架片12呈向下突起的状态。以图4视角而言，在振动件16向下振动(即以第二方向D2移动)的过程中会压缩下气室B的空气而使下气室B产生相对于上气室A而言较大的气压，框架片12及第一遮盖膜片14均受其下方下气室B气体向上的阻力，故此阻力会使该多个第一活动遮盖部144的活动端趋向远离该多个第一开孔12a(因为第一活动遮盖部144仅固定的一端受到结构拘束)，进而产生掀开该多个第一开孔12a的效果。此时，框架片12下方下气室B的部分气体即可经过第一开孔12a而进入框架片12上方上气室A(以空心箭头表示于图中)。

因此，于本实施例中，框架片12及第一遮盖膜片14组成的结构具有单向阀门的效果，通过振动件16上下往复运动，围壁10外部的气体不断地自入口102a吸入围壁10(或谓气流通道102)、经由第一开孔12a穿过框架片12、再自出口102b吹出围壁10，此流动的气体即形成一单向且间歇性的气流，且只要振动件16振动频率够高时，即可产生连续气流一直吹出。在实践上，此气流即可用于电子装置的散热。

另外，在本实施例中，框架片12的周围12b与围壁10内壁紧密接触的效果是通过框架片12的周围12b与围壁10固定连接(例如胶黏)而实现，进而使框架片12的周围12b与围壁10间能保持气密并区隔上气室A与下气室B。

另外，在本实施例中，该多个第一活动遮盖部144分别对应该多个第一开孔12a，即一对一的配置，但在实践上此配置可改为一个第一活动遮盖部144同时能遮盖多个第一开孔12a，藉此框架片12可保有较多的结构体积，较易维持一定的结构强度。此外，在本实施例中，每一个第一活动遮盖部144的轮廓大于对应的第一开孔12a的轮廓，使得即使当框架片12向上移动时，第一活动遮盖部144仍能完全遮盖对应的第一开孔12a。在实践上，即使第一活动遮盖部144未能完全遮盖对应的第一开孔12a，其仍具有一定的遮盖效果，亦即能使气流产生装置1产生气流。此外，在本实施例中，每一个第一活动遮盖部144呈扇形结构，每一个第一开孔12a亦呈扇形，该多个第一活动遮盖部144相对于第一中间连接部142呈辐射状设置，但在实践上，第一活动遮盖部144及第一开孔12a亦可由其他轮廓实践，其设置亦不以辐射状设置为限。

另外，原则上，只要振动件16能将振动有效传递至框架片12(亦即使框架片12能产生足够的运动行程或振幅以实现前述交替开启、关闭该多个第一开孔12a)，即可通过框架片12及第一遮盖膜片14产生气流，故在实践上，振动件16可固定至框架片12其他位置(其中，越远离框架片12的周围12b，可产生越大的振幅)。在本实施例中，振动件16固定连接至框架片12的中间部位12c，可使框架片12受到平衡的振动。

在本实施例中，振动件16由单一组模实现，但在实践上，亦可通过多个分离组件实践并实现振动框架片12与第一遮盖膜片14的效果。请参阅图5，其为根据另一实施例的气流产生装置3的剖面图，其剖面位置参阅图1中线X-X。气流产生装置3与气流产生装置1结构相似，故气流产生装置3仍延用气流产生装置1的组件符号，且关于气流产生装置3的其他说明，请直接参阅气流产生装置1及其变化的相关说明，不另赘述。气流产生装置3与气流产生装置1的差异主要在于气流产生装置3的振动件36包含一磁铁362及一电磁铁364(以矩形框表示于图5中)。磁铁362固定连接至框架片12的中间部位12c，电磁铁364相对磁铁362设置于下支架18上；在本实施例中，磁铁362与电磁铁364的磁极方向平行于第一方向D1(或第二方向D2)，但在实践上，不以此为限。当电磁铁364的线圈(其与外部电源连接的接线以虚线示意于图5中)以不同方向电流交替导通时，电磁铁364与磁铁362之间亦交替产生斥力和吸力，进而产生在D1及D2方向上往复振动的效果。此外，在本实施例中，下支架18强度大于框架片12，故在振动件36运作时，磁铁362与框架片12会产生较大的相对于围壁10的振动(或谓振幅)。藉此，振动件36亦能使框架片12与第一遮盖膜片14如同气流产生装置1中框架片12与第一遮盖膜片14一般的作动，使得气流产生装置3亦能如气流产生装置1产生气流。

另外，在实践上，若周围12b与围壁10改以滑动接触设置，周围12b与围壁10间亦能保持一定程度的气密，使得当磁铁362振动时，框架片12随之一起振动，周围12b在围壁10上滑动，此作动亦能如前述说明产生气流。此外，在周围12b与围壁10之间填充润滑油，可增加周围12b与围壁10的气密效果；又，增加周围12b与围壁10的接触面积，可提升周围12b在围壁10上滑动的稳定性。

另外，在实践上，电磁铁364与磁铁362可互换设置，同样能使框架片12与第一遮盖膜片14如同气流产生装置1中框架片12与第一遮盖膜片14一般的作动。又，在实践上，振动件36亦可设置于框架片12上方，例如磁铁362固定于第一遮盖膜片14的第一中间连接部142(亦即固定连接至框架片12的中间部位12c)，电磁铁364设置于上支架20，同样能使气流产生装置3产生气流。此外，在实践上，框架片12与第一遮盖膜片14亦可辅以弹簧以提升振动效率。如图6所示，气流产生装置4相对于气流产生装置3还包含一下弹簧22及一上弹簧24。下弹簧22设置于框架片12与下支架18之间，在本实施例中，下弹簧22两端抵接于框架片12的中间部位12c及下支架18之间(在实践上，亦可抵接于磁铁362及电磁铁364之间)，当振动件36产生振动时，下弹簧22弹性变形。上弹簧24设置于框架片12与上支架20之间，在本实施例中，上弹簧24两端抵接于第一中间连接部142及上支架20之间，当振动件36产生振动时，上弹簧24弹性变形。此下弹簧22及上弹簧24的设置亦可适用于气流产生装置1，不另赘述。

在前述各实施例中，气流主要由框架片12与第一遮盖膜片14驱动，下支架18及上支架20本身不具有阀门功能，但在实践上，下支架18及上支架20可还替为具有阀门功能的结构以提升产生气流的效率。请参阅图7至图9，其为根据另一实施例的气流产生装置5的分解图及剖面图，其剖面位置参阅图1中线X-X。气流产生装置5与气流产生装置3结构相似，故气流产生装置5仍延用气流产生装置3的组件符号，且关于气流产生装置5的其他说明，请直接参阅气流产生装置1、3及其变化的相关说明，不另赘述。相较于气流产生装置3，气流产生装置5还包含一第二遮盖膜片52及一第三遮盖膜片54，第二遮盖膜片52连接至气流产生装置5的下支架18，第三遮盖膜片54连接至气流产生装置5的上支架20。在本实施例中，下支架56及上支架58与气流产生装置3的下支架18及上支架20轮廓不同，此是因下支架56及上支架58需与第二遮盖膜片52及第三遮盖膜片54共同作动，但在实践上，若第二遮盖膜片52及第三遮盖膜片54能有效遮盖下支架18及上支架20的镂空处，则下支架18及上支架20亦可直接使用于气流产生装置5中。

进一步来说，下支架56以其周围56b固定连接至围壁10且位于入口102a，下支架56具有多个第二开孔56a。第二遮盖膜片52包含一第二中间连接部522及连接至第二中间连接部522的多个第二活动遮盖部524。第二遮盖膜片52位于下支架56与框架片12之间，第二中间连接部522固定至下支架56的中间部位56c，该多个第二活动遮盖部524遮盖该多个第二开孔56a。此外，上支架58以其周围58b固定连接至围壁10且位于出口102b，上支架58具有多个第三开孔58a。第三遮盖膜片54包含一第三中间连接部542及连接至第三中间连接部542的多个第三活动遮盖部544。上支架58位于第三遮盖膜片54与第一遮盖膜片52之间，第三中间连接部542固定至上支架58的中间部位58c，该多个第三活动遮盖部544遮盖该多个第三开孔58a。整体而言，围壁10内的空间(即相当于气流通道102)被下支架56(及第二遮盖膜片52)、框架片12(及第一遮盖膜片14)、上支架58(及第三遮盖膜片54)分隔成一下气室B及一上气室A。

如图8所示，当振动件36的磁铁362以第一方向D1移动时，框架片12的中间部位12c及第一遮盖膜片14的第一中间连接部142以第一方向D1移动，使得该多个第一活动遮盖部144密封该多个第一开孔12a，该多个第二活动遮盖部524的自由端相对于该多个第二开孔56a以第一方向D1移动，该多个第三活动遮盖部544的自由端相对于该多个第三开孔58a以第一方向D1移动。其中，以图8视角而言，在振动件36的磁铁362向上移动的过程中，框架片12上方上气室A的气体受到框架片12(及第一遮盖膜片14)挤压，使得上气室A的气压增加(或谓上气室A体积缩小)，进而使该多个第三活动遮盖部544的自由端能相对于该多个第三开孔58a以第一方向D1掀开；藉此，上气室A内的气体能经由该多个第三开孔58a吹出围壁10外(以空心箭头表示于图中)。同样地，在振动件36的磁铁362向上移动的过程中，下气室B膨胀，使得下气室B的气压降低，进而使该多个第二活动遮盖部524在外部空气较大气压的压力下能相对于该多个第二开孔56a以第一方向D1掀开；藉此，外部空气能经由该多个第二开孔56a吸入下气室B内(以空心箭头表示于图中)。

如图9所示，当振动件36的磁铁362以第二方向D2移动时，框架片12的中间部位12c及第一遮盖膜片14的第一中间连接部142亦随之以第二方向D2移动，使得该多个第一活动遮盖部144的自由端相对于该多个第一开孔12a以第一方向D1掀开，该多个第二活动遮盖部524密封该多个第二开孔56a，该多个第三活动遮盖部544密封该多个第三开孔58a。其中，以图9视角而言，在振动件36的磁铁362向下移动的过程中，上气室A膨胀，使得上气室A的气压降低，在外部空气较大气压的压力下进而使该多个第三活动遮盖部544密封该多个第三开孔58a。同样地，在振动件36的磁铁362向下移动的过程中，下气室B缩小，下气室B的气压增加，进而使该多个第二活动遮盖部524密封该多个第二开孔56a。从另一方面而言，当振动件36的磁铁362以第二方向D2移动时，上气室A的气压降低且下气室B的气压增加，使得该多个第一开孔12a开启、该多个第二开孔56a关闭及该多个第三开孔58a关闭；亦即原本在图8中框架片12被吸入下方气室B的气体即可经过第一开孔12a而进入框架片12上方的上气室A(以空心箭头表示于图中)。

因此，在本实施例中，框架片12及第一遮盖膜片14组成的结构、下支架56及第二遮盖膜片52组成的结构、上支架58及第三遮盖膜片54组成的结构均具有单向阀门的效果。通过振动件36的磁铁362上下往复运动，气流产生装置5能产生自入口102a经由第二开孔56a先吸入外部气体于下气室B、经由第一开孔12a穿过框架片12推挤至上气室A、再自出口102b经由第三开孔58a吹气流。

另外，在本实施例中，下支架56及上支架58(如同下支架18及上支架20)在振动件36的磁铁362上下运动时，均能保持不变形，故具有结构强度，有助于提升气流产生装置5整体结构强度。但在实践上，下支架56及上支架58亦可采用膜片实践，如同框架片12一样，具有可挠性，能在振动件36的磁铁362上下运动时变形。此时，下支架56及上支架58会随着下气室B及上气室A的气压(相对于围壁10外部气压)而变形。

另外，在实践上，气流产生装置5亦可配置下弹簧22及上弹簧24，以提升振动效率。如图10所示，相对于气流产生装置5，气流产生装置6配置有包含下弹簧22及上弹簧24，其中下弹簧22设置于框架片12与下支架56之间，上弹簧24设置于框架片12与上支架58之间，其中当振动件36作动(亦即使磁铁362振动)时，下弹簧22及上弹簧24弹性变形。

另外，在实践上，在不影响用于产生气流的构件(例如框架片12、第一遮盖膜片14、振动件16)作动的情形下，气流产生装置1、3、4、5、6可再增加支架设置于围壁10内侧(或谓气流通道102)或于第一开口104、第二开口106处，以增加整个装置结构强度。

此外，在其他实施例中，气流产生装置5除了多个第一遮盖膜片14之外可以只包含多个第二活动遮盖部524及多个第三活动遮盖部544的其中之一。

据此，相对于先前技术，本发明的气流产生装置利用振动件配合薄膜的往复运动所产生的气压差并搭配单向阀门结构，以产生强制气流，可用于散热，有别于传统的扇叶转动式风扇。整体装置体积可小于传统扇叶转动式风扇，使得该气流产生装置可适用于薄型笔记本型计算机、平板、手机等装置的散热系统中，提升散热效能，也改善了装置运作效能。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡是根据本发明权利要求书所做的等同变化与修饰，皆应当属本发明的涵盖范围。

Claims

1.一种气流产生装置，该气流产生装置包括：

一围壁，该围壁形成一气流通道，该气流通道具有一入口及一出口；

一框架片，该框架片设置于该气流通道内且具有多个第一开孔，每一个第一开孔呈扇形结构，该框架片的周围与该围壁紧密接触并将该气流通道区隔为连通该出口的一第一气室与连通该入口的一第二气室；

一第一遮盖膜片，该第一遮盖膜片包括一第一中间连接部及连接至该第一中间连接部的多个第一活动遮盖部，每一个第一活动遮盖部呈扇形结构，该多个第一活动遮盖部相对于该第一中间连接部呈辐射状设置，该第一遮盖膜片位于该框架片与该出口之间，该第一中间连接部固定至该框架片的中间部位，该多个第一活动遮盖部选择性地遮盖该多个第一开孔；

一振动件，该振动件与该框架片固定连接，可用以沿一振动方向往复振动；

一下支架，该下支架固定连接至该围壁的一端且位于该入口，该下支架具有多个第二开孔；以及

一上支架，该上支架固定连接至该围壁的另一端且位于该出口，该上支架具有多个第三开孔，其中该框架片、该下支架与该上支架平行地延伸且垂直于该振动方向；

其中，当该振动件朝向该第一气室以一第一方向振动时，该框架片的至少中间部位及该第一遮盖膜片的第一中间连接部以该第一方向移动，使得该多个第一活动遮盖部密封该多个第一开孔并将该第一气室内的气体推出该出口外，同时自该入口吸入一外部气体，以及当该振动件以相反于该第一方向的一第二方向朝向该第二气室移动时，该框架片的至少中间部位及该第一遮盖膜片的第一中间连接部以该第二方向移动，使得该多个第一活动遮盖部相对于该多个第一开孔以该第一方向掀开，使至少一部分该外部气体从该第二气室进入该第一气室；

其中该气流产生装置还包括一第二遮盖膜片，该第二遮盖膜片包括一第二中间连接部及连接至该第二中间连接部的多个第二活动遮盖部，该第二遮盖膜片位于该下支架与该框架片之间，该第二中间连接部固定至该下支架的中间部位，该多个第二活动遮盖部遮盖该多个第二开孔，当该振动件以该第一方向朝该第一气室移动时，该框架片的该至少中间部位及该第一遮盖膜片的该第一中间连接部以该第一方向移动，使得该多个第二活动遮盖部相对于该多个第二开孔以该第一方向掀开而吸入该外部气体于该第二气室中，以及当该振动件以该第二方向朝该第二气室移动时，该框架片的该至少中间部位及该第一遮盖膜片的该第一中间连接部以该第二方向移动，使得该多个第二活动遮盖部密封该多个第二开孔，并使该先前吸入该第二气室的该外部气体被推入于该第一气室中。

2.如权利要求1所述的气流产生装置，其中该框架片的周围与该围壁固定连接。

3.如权利要求1所述的气流产生装置，其中该振动件包括一磁铁及一电磁铁，该磁铁固定连接至该框架片的中间部位，该电磁铁相对该磁铁设置于该下支架上。

4.如权利要求3所述的气流产生装置，还包括一下弹簧，该下弹簧设置于该框架片与该下支架之间，其中当该振动件振动时，该下弹簧可弹性变形。

5.如权利要求4所述的气流产生装置，还包括一上弹簧，该上弹簧设置于该框架片与该上支架之间，其中当该振动件振动时，该上弹簧可弹性变形。

6.如权利要求1所述的气流产生装置，其中该下支架是一膜片。

7.如权利要求1所述的气流产生装置，还包括一第三遮盖膜片，该第三遮盖膜片包括一第三中间连接部及连接至该第三中间连接部的多个第三活动遮盖部，该上支架位于该第三遮盖膜片与该第一遮盖膜片之间，该第三中间连接部固定至该上支架的中间部位，该多个第三活动遮盖部选择性遮盖该多个第三开孔，当该振动件以该第一方向朝该第一气室移动时，该框架片的该至少中间部位及该第一遮盖膜片的该第一中间连接部以该第一方向移动，使得该多个第三活动遮盖部相对于该多个第三开孔以该第一方向掀开以使该第一气室的气体被推挤出该出口外，以及当该振动件以该第二方向移动时，该框架片的该至少中间部位及该第一遮盖膜片的该第一中间连接部以该第二方向移动，使得该多个第三活动遮盖部密封该多个第三开孔，并使该第二气室的气体被吸入于该第一气室中。

8.如权利要求7所述的气流产生装置，其中该上支架是一膜片。

9.如权利要求7所述的气流产生装置，还包括一上弹簧及一下弹簧，其中该上弹簧设置于该框架片与该上支架之间，该下弹簧设置于该框架片与该下支架之间，其中当该振动件振动时，该上弹簧及该下弹簧能弹性变形。

10.如权利要求1所述的气流产生装置，其中该振动件固定连接至该框架片的中间部位。

11.如权利要求1所述的气流产生装置，其中该多个第一活动遮盖部分别对应该多个第一开孔。

12.如权利要求11所述的气流产生装置，其中每一个第一活动遮盖部的轮廓大于对应的该第一开孔的轮廓。