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CN109724903A - 一种mox混料结果评价方法 - Google Patents

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CN109724903A
CN109724903A CN201711034643.8A CN201711034643A CN109724903A CN 109724903 A CN109724903 A CN 109724903A CN 201711034643 A CN201711034643 A CN 201711034643A CN 109724903 A CN109724903 A CN 109724903A
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CN
China
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powder
mixing
particle size
mox
analysis
Prior art date
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Pending
Application number
CN201711034643.8A
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English (en)
Inventor
艾利君
陈诚
周国梁
杨廷贵
潘传龙
郭亮
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404 Co Ltd China National Nuclear Corp
Original Assignee
404 Co Ltd China National Nuclear Corp
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Publication date
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Abstract

一种MOX混料结果评价方法，具体步骤包括：步骤一：取样取样位置在混料容器内粉末的上部中心位置点，粉末的中部中心位置点以及底面粉末中心点，取样量满足后续操作的分析需求。步骤二：粒度分布分析利用湿法激光粒度分析仪分析混合后粉末的分布，若样品粒度分布在1‑0.1μm的颗粒在95％以上，则合格，后进入下一步分析。步骤三：颗粒形状、均匀性分析利用电子显微镜观测颗粒形状，颗粒形状为多角形状，且U、Pu、Zn颜色分布均匀即可认为产品合格。

Description

一种MOX混料结果评价方法
技术领域
本发明属于混料技术领域，具体涉及一种MOX混料结果评价方法。
背景技术
MOX粉末主要原材料为工业二氧化钚和品二氧化铀粉末，其中工业二氧化钚由堆后废料经过后处理纯化获得，考虑到堆后废料的不同来源和不同燃耗，后处理得到的物料中钚含量、同位素丰度也将会有较大差异，这种差异在后处理工艺中是难以消除的。而MOX燃料产品指标要求每件产品的钚含量和丰度应基本相同，需在燃料生产过程中消除因工业二氧化钚原料不同带来的钚含量和丰度差异，保证批次产品的均匀性。同时，混料后需保证由于核材料的临界特性，MOX原料应采用无水混合的方式处理，通过三维混料装置保证原料的均匀性，这时需要一种评价方法，来判断混料结果是否满足。
发明内容
本发明的目的在于提供一套快速、实用、精确的MOX混料结果评价方法，实现混料结构的精确、快速判断。
本发明的技术方案如下：一种MOX混料结果评价方法，具体步骤包括：
步骤一：取样；
取样位置在混料容器内粉末的上部中心位置点，粉末的中部中心位置点以及底面粉末中心点，取样量满足后续操作的分析需求；
步骤二：粒度分布分析；
利用湿法激光粒度分析仪分析粉末的分布，若样品粒度分布在1-0.1μm的颗粒在95％以上，则合格，后进入下一步分析；
步骤三：利用电子显微镜观测颗粒形状，颗粒形状为多角形状。
所述步骤三利用电子显微镜观测颗粒形状，颗粒形状为多角形状，且U、Pu、Zn颜色分布均匀即可认为产品合格。
本发明的技术效果在于：快速、实用、精确，实现混料结构的精确、快速判断。
具体实施方式
一种MOX混料结果评价方法，具体步骤包括：
步骤一：取样
取样位置在混料容器内粉末的上部中心位置点，粉末的中部中心位置点以及底面粉末中心点，取样量满足后续操作的分析需求。
步骤二：粒度分布分析
利用湿法激光粒度分析仪分析混合后粉末的分布，若样品粒度分布在1-0.1μm的颗粒在95％以上，则合格，后进入下一步分析。
步骤三：颗粒形状、均匀性分析
利用电子显微镜观测颗粒形状，颗粒形状为多角形状，且U、Pu、Zn颜色分布均匀即可认为产品合格。

Claims (2)

1.一种MOX混料结果评价方法，其特征在于：具体步骤包括：
步骤一：取样；
取样位置在混料容器内粉末的上部中心位置点，粉末的中部中心位置点以及底面粉末中心点，取样量满足后续操作的分析需求；
步骤二：粒度分布分析；
利用湿法激光粒度分析仪分析粉末的分布，若样品粒度分布在1-0.1μm的颗粒在95％以上，则合格，后进入下一步分析；
步骤三：利用电子显微镜观测颗粒形状，颗粒形状为多角形状。
2.根据权利要求1所述的一种MOX混料结果评价方法，其特征在于：所述步骤三利用电子显微镜观测颗粒形状，颗粒形状为多角形状，且U、Pu、Zn颜色分布均匀即可认为产品合格。
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Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
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RJ01 Rejection of invention patent application after publication
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Application publication date: 20190507