CN107037648A - 一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域，可在阵列基板设置于出光侧时，防止阵列基板上的金属图案对外界环境光进行反射。该阵列基板包括显示区和非显示区，显示区划分为像素区和限定所述像素区的像素限定区，所述阵列基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上、且位于所述像素限定区的金属图案，所述阵列基板还包括形成在所述金属图案外侧、且仅位于所述像素限定区的挡光图案，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域；其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料。用于制备阵列基板。

Description

一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置。

背景技术

目前，液晶显示装置(Liquid Crystal Display，简称LCD)由于具有功耗小、微型化、轻薄等优点而得到越来越广泛的应用。

液晶显示装置的结构包括液晶显示面板和背光源。如图1和图2所示，液晶显示面板包括阵列基板10、彩膜基板20、设置在阵列基板10和彩膜基板20之间的液晶层(图1和图2中未示意出液晶层)以及设置在阵列基板10上的第一偏光片101和设置在彩膜基板20上的第二偏光片201。其中，阵列基板10上设置有控制栅极的栅线(Gate线)和控制像素电极的数据线(Date线)，为了提升像素充电率、降低走线线宽和电阻，栅线和数据线一般采用高导电率的金属材料形成，例如铝(Al)或铜(Cu)。

现有技术中，如图1所示，一般将彩膜基板20设置在出光侧，阵列基板10设置在入光侧。通过彩膜基板20上的黑矩阵(Black Matrix，简称BM)图案便可以遮挡像素限定区，进而可以遮挡易发生反光的金属图案(例如栅线、栅极、数据线或源漏极)，从而提升产品画质及对比度。然而，如图1所示，由于边框30不仅需要包覆阵列基板10周边的布线区(Pad区)01，还需要与彩膜基板20上的第二偏光片201有一定的重叠区域，以保护COF(Chip OnFilm，覆晶薄膜)40及防止周边漏光。由于边框30覆盖的区域较大，从而导致了液晶显示装置的整体边框尺寸较大，无法实现窄边框设计。为了实现超窄边框或无边框，目前通常采用如图2所示，阵列基板10设置在出光侧、彩膜基板20设置在入光侧、COF40向内弯折的设计，这样便可以大大缩减边框30的尺寸，乃至实现无边框的设计。

然而，如图2所示，若将阵列基板10设置在出光侧，由于阵列基板10上的金属图案50具有极高的反射率，因而在强光下易发生强的反射现象(如图2中箭头所示)，从而会引起产品品质和对比度的下降。

发明内容

本发明的实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，可在阵列基板设置于出光侧时，防止阵列基板上的金属图案对外界环境光进行反射。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

第一方面，提供一种阵列基板，包括显示区和非显示区，所述显示区划分为像素区和限定所述像素区的像素限定区，所述阵列基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上、且位于所述像素限定区的金属图案，所述阵列基板还包括形成在所述金属图案外侧、且仅位于所述像素限定区的挡光图案，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域；其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料。

优选的，所述挡光图案仅允许一个偏振方向的光透过，所述挡光图案的材料为棒状量子点材料；其中，所述棒状量子点的长轴方向与所述挡光图案所允许透过的光的偏振方向相同。

优选的，所述挡光图案用于遮挡可见光，所述挡光图案的材料为黑色树脂。

优选的，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述金属图案的边界在所述挡光图案的边界以内。

优选的，所述挡光图案形成在所述金属图案与所述衬底基板之间。

可选的，所述挡光图案与所述像素限定区的形状和大小相同。

可选的，所述金属图案包括位于不同层的第一金属图案和第二金属图案，所述挡光图案包括位于不同层的第一挡光图案和第二挡光图案；其中，所述第一挡光图案与所述第一金属图案通过一次构图工艺形成，所述第二挡光图案与所述第二金属图案通过一次构图工艺形成。

第二方面，提供一种显示面板，包括阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板为上述的阵列基板；其中，若所述挡光图案仅允许一个偏振方向的光透过，所述显示面板还包括设置在所述阵列基板上的偏光片，所述挡光图案所允许透过的光的偏振方向与所述偏光片的透光轴垂直。

第三方面，提供一种显示装置，包括显示面板和背光源，所述显示面板为上述的显示面板；其中，所述显示面板中的彩膜基板相对于阵列基板靠近所述背光源。

第四方面，提供一种阵列基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成挡光薄膜，并通过构图工艺在像素限定区形成挡光图案；其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料；形成金属图案；沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域。

第五方面，提供一种阵列基板的制备方法，包括:在衬底基板上依次形成第一挡光薄膜和第一金属薄膜，并对所述第一挡光薄膜和第一金属薄膜同时构图，以形成层叠的第一挡光图案和第一金属图案，所述第一金属图案为栅线、栅极；和/或，在衬底基板上依次形成第二挡光薄膜和第二金属薄膜，并对所述第二挡光薄膜和第二金属薄膜同时构图，以形成层叠的第二挡光图案和第二金属图案，所述第二金属图案为数据线、源漏极。

本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，在金属图案的外侧形成有挡光图案，且挡光图案的材料为非金属材料，若阵列基板设置于显示面板的出光侧时，由于挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过，因而当挡光图案用于遮光可见光时，此时挡光图案可以防止光照射到与挡光图案具有重叠区域的金属图案上，从而可以避免与挡光图案具有重叠区域的金属图案发生反射，进而能够避免降低产品的品质和对比度；当挡光图案仅允许一个偏振方向的光透过时，在阵列基板上设置有偏光片的情况下，透过阵列基板上的偏光片的光为线偏振光，在此基础上，由于偏光片的透光轴与挡光图案所允许透过的光的偏振方向垂直，此时经过偏光片的线偏振光照射到挡光图案上时，便会被挡光图案阻挡，因而光便不能照射到与挡光图案具有重叠区域的金属图案上，从而可以避免与挡光图案具有重叠区域的金属图案产生反射现象，以避免降低产品的品质和对比度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术提供的一种液晶显示面板的结构示意图一；

图2为现有技术提供的一种液晶显示面板的结构示意图二；

图3为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图一；

图4(a)为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图二；

图4(b)为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图三；

图5为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供一种阵列基板的制备方法的流程示意图；

图7(a)为本发明实施例提供一种在阵列基板的像素限定区形成挡光图案的结构示意图一；

图7(b)为本发明实施例提供一种在阵列基板的像素限定区形成挡光图案的结构示意图二；

图8为图7(a)AA′向剖视示意图或图7(b)BB′向剖视示意图；

图9为本发明实施例提供的一种在衬底基板上形成挡光图案和金属图案的结构示意图；

图10为本发明实施例提供的一种在衬底基板上形成第一挡光薄膜和第一金属薄膜的结构示意图。

附图标记：

01-布线区；02-显示区；03-像素区；04-像素限定区；10-阵列基板；101-第一偏光片(偏光片)；20-彩膜基板；201-第二偏光片；30-边框；40-COF；50-金属图案；60-衬底基板；70-挡光图案；80-液晶层；90-第一挡光薄膜；100-第一金属薄膜。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种阵列基板10，如图3所示，包括显示区02和非显示区(即布线区01)，显示区02划分为像素区03和限定像素区03的像素限定区04，如图4(a)和图4(b)所示，阵列基板10包括衬底基板60以及形成在衬底基板60上、且位于像素限定区04的金属图案50，阵列基板10还包括形成在金属图案50外侧、且仅位于像素限定区04的挡光图案70，沿垂直于衬底基板60的方向，挡光图案70与金属图案50具有重叠区域；其中，挡光图案70用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；挡光图案70的材料为非金属材料。

需要说明的是，第一，像素区03为显示区02中可透光的区域，也可称为开口区域，显示区02中除像素区03以外的其他区域为像素限定区04，也即指显示区02中不透光的区域。

第二，阵列基板10包括薄膜晶体管和像素电极，薄膜晶体管包括栅极、栅绝缘层、源极和漏极，漏极与像素电极电连接。阵列基板10还包括交叉且绝缘设置的栅线和数据线。当然，阵列基板10还可以包括公共电极。本发明说明书附图中的阵列基板10仅示意出与本发明的发明点有关的膜层，对于其它膜层并未示意出。对于阵列基板10上的金属图案50的类型不进行限定，例如金属图案50可以是指栅线、栅极、数据线、源漏极中的至少一个。

第三，显示面板包括阵列基板10以及与阵列基板10对盒的彩膜基板20，如图5所示，此处，金属图案50的外侧指的是金属图案50远离彩膜基板20的一侧，金属图案50靠近彩膜基板20的一侧即为金属图案50的内侧。在此基础上，挡光图案70形成在金属图案50的外侧，可以是如图4(a)所示，挡光图案70形成在金属图案50和衬底基板60之间，也可以是如图4(b)所示，挡光图案70形成在衬底基板60背离金属图案50的一侧。

第四，沿垂直于衬底基板60的方向，挡光图案70与金属图案50具有重叠区域，可以是沿垂直于衬底基板60的方向，金属图案50的一部分与挡光图案70重叠，也可以是沿垂直于衬底基板60的方向，金属图案50全部与挡光图案70重叠。

第五，当挡光图案70用于遮挡可见光时，此时挡光图案70的材料可以和彩膜基板20上黑矩阵图案的材料相同，例如可以为黑色树脂，由于挡光图案70的材料为非金属材料，因此挡光图案70不会对光进行反射(对于挡光图案70反射的少量的光可以忽略)，且挡光图案70可以阻挡光照射到与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50上，进而防止与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50发生反射；当挡光图案70仅允许一个偏振方向的光透过时，此时挡光图案70的作用与偏光片的作用相同，透过挡光图案70的光为线偏振光。

此处，若挡光图案70仅与部分金属图案50具有重叠区域，则在挡光图案70用于遮光可见光时，挡光图案70不仅可以阻挡光照射到与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50上，还可以阻挡部分与挡光图案70未有重叠区域的金属图案50反射的光。

本发明实施例提供一种阵列基板10，在金属图案50的外侧形成有挡光图案70，且挡光图案70的材料为非金属材料，若阵列基板10设置于显示面板的出光侧时，由于挡光图案70用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过，因而当挡光图案70用于遮光可见光时，此时挡光图案70可以防止光照射到与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50上，从而可以避免与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50发生反射，进而能够避免降低产品的品质和对比度；当挡光图案70仅允许一个偏振方向的光透过时，在阵列基板10上设置有偏光片的情况下，透过阵列基板10上的偏光片的光为线偏振光，在此基础上，由于偏光片的透光轴与挡光图案70所允许透过的光的偏振方向垂直，此时经过偏光片的线偏振光照射到挡光图案70上时，便会被挡光图案70阻挡，因而光便不能照射到与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50上，从而可以避免与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50产生反射现象，以避免降低产品的品质和对比度。

优选的，挡光图案70仅允许一个偏振方向的光透过，挡光图案70的材料为棒状量子点材料；其中，棒状量子点的长轴方向与挡光图案70所允许透过的光的偏振方向相同。

此处，当棒状量子点的长轴按照一定的方向排布形成棒状量子点层(即挡光图案70)时，此时棒状量子点层具有方向选择性，棒状量子点层允许与棒状量子点的长轴方向平行的光透过，因此当挡光图案70的材料为棒状量子点材料，透过挡光图案70的光为线偏振光。

本发明实施例，由于挡光图案70仅允许一个偏振方向的光透过，在挡光图案70与偏光片结合使用，且偏光片的透光轴与挡光图案70所允许透过的光的偏振方向垂直时，透过阵列基板10上的偏光片的光在射到挡光图案70时，会被阻挡射到与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50上，从而防止了金属图案50反射。

优选的，挡光图案70用于遮挡可见光，挡光图案70的材料为黑色树脂。

其中，当挡光图案70用于遮挡可见光时，挡光图案70的材料可以和黑矩阵图案的材料相同，例如为黑色树脂。

本发明实施例，当挡光图案70的材料为黑色树脂时，黑色树脂可以防止光照射到与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50上，从而可以避免与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50发生反射。进一步的，当挡光图案70与像素限定区04的形状和大小相同时，此时挡光图案70可相当于彩膜基板20上的黑矩阵图案。

优选的，如图4(a)和图4(b)所示，沿垂直于衬底基板60的方向，金属图案50的边界在挡光图案70的边界以内。

其中，沿垂直于衬底基板60的方向，金属图案50的边界在挡光图案70的边界以内，可以是金属图案50的边界与挡光图案70的边界重合，也可以是挡光图案70的边界包围金属图案50的边界。

本发明实施例，由于沿垂直于衬底基板60的方向，金属图案50的边界在挡光图案70的边界以内，因此挡光图案70可以对金属图案50完全遮挡，防止外界环境光照射到金属图案50上发生反射。

本发明实施例，若将挡光图案70形成在衬底基板60远离金属图案50的一侧，若阵列基板10上还需要形成偏光片，则偏光片会形成在挡光图案70上，而挡光图案70只在像素限定区04形成，因而将偏光片形成在挡光图案70上，可能会导致偏光片不平坦，进而影响了液晶显示面板的性能。基于此，本发明实施例优选的，如图4(a)所示，挡光图案70形成在金属图案50与衬底基板60之间。

可选的，挡光图案70与像素限定区04的形状和大小相同。

需要说明的是，挡光图案70与像素限定区04的形状和大小相同，此处的相同可以是指完全相同，也可以是指近似相同。

本发明实施例，由于挡光图案70与像素限定区04的形状和大小相同或近似相同，因此一方面，挡光图案70可以对像素限定区04全部进行遮挡，避免外界环境光到像素限定区04时，位于像素限定区04内的图案对光进行反射；另一方面，无论阵列基板10上的金属图案50有多少种，由于挡光图案70与像素限定区04的形状和大小相同或近似相同，因此只需制作一层挡光图案70，便可以对所有的金属图案50进行遮挡，相对于在每种金属图案50的外侧都制作挡光图案70，可简化阵列基板10的制作工艺。

可选的，金属图案50包括位于不同层的第一金属图案和第二金属图案，挡光图案70包括位于不同层的第一挡光图案和第二挡光图案；其中，第一挡光图案与第一金属图案通过一次构图工艺形成，第二挡光图案与第二金属图案通过一次构图工艺形成。

此处，对于第一金属图案和第二金属图案的类型不进行限定，示例的，可以是第一金属图案为栅线和栅极，第二金属图案为数据线和源漏极；也可以是第一金属图案为数据线和源漏极，第二金属图案为栅线和栅极。

本发明实施例，由于第一挡光图案与第一金属图案通过一次构图工艺形成，因此第一挡光图案和第一金属图案的形状和尺寸相同，当阵列基板10设置在液晶显示面板的出光侧时，第一挡光图案可以对第一金属图案进行完全遮挡，防止光照射到第一金属图案上，第一金属图案发生反射现象；同理，由于第二挡光图案与第二金属图案通过一次构图工艺形成，因此第二挡光图案和第二金属图案的形状和尺寸相同，当阵列基板10设置在显示面板的出光侧时，第二挡光图案可以对第二金属图案进行完全遮挡，防止光照射到第二金属图案上，第二金属图案发生反射现象。

在此基础上，由于第一挡光图案与第一金属图案通过一次构图工艺形成，第二挡光图案与第二金属图案通过一次构图工艺形成，因此可以简化阵列基板的制作工艺。

本发明实施例提供一种显示面板，如图5所示，包括阵列基板10和彩膜基板20，阵列基板10为上述的阵列基板；其中，若挡光图案70仅允许一个偏振方向的光透过，显示面板还包括设置在阵列基板10上的偏光片101，挡光图案70所允许透过的光的偏振方向与偏光片101的透光轴垂直。

其中，如图5所示，液晶显示面板除包括阵列基板10和彩膜基板20外，还包括填充在阵列基板10和彩膜基板20之间的液晶层80。此处，当阵列基板10设置在液晶显示面板的出光侧时，此时彩膜基板20可以和现有技术中的彩膜基板20相同，包括彩色膜层和黑矩阵图案。当然，当挡光图案70的材料为黑色树脂，且挡光图案70的形状和大小与像素限定区01的形状和大小相同时，优选的，由于阵列基板10上已经制作了挡光图案70，此时，彩膜基板20上的黑矩阵图案可以省略，以简化显示面板的制作工艺。

需要说明的是，本发明说明书附图5仅示意出与本发明的发明点有关的结构，对于其它结构并未示意出。本发明说明书及说明书附图中设置在阵列基板10上的偏光片101即指第一偏光片101。

本发明实施例提供一种显示面板，显示面板包括阵列基板10，阵列基板10上的金属图案50的外侧形成有挡光图案70，且挡光图案70的材料为非金属材料，若阵列基板10设置于显示面板的出光侧时，由于挡光图案70用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过，因而当挡光图案70用于遮光可见光时，此时挡光图案70可以防止光照射到与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50上，从而可以避免与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50发生反射，进而能够避免降低产品的品质和对比度；当挡光图案70仅允许一个偏振方向的光透过时，由于阵列基板10上设置有偏光片101，因此经过阵列基板10上偏光片101的光为线偏振光，在此基础上，由于偏光片101的透光轴与挡光图案70所允许透过的光的偏振方向垂直，因此透光偏光片101的线偏振光照射到挡光图案70上时，便会被挡光图案70阻挡，从而光便不能照射到与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50上，进而可以避免与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50产生反射现象，以避免降低产品的品质和对比度。

本发明实施例提供一种显示装置，包括显示面板和背光源，显示面板为上述的显示面板；其中，显示面板中的彩膜基板20相对于阵列基板10靠近背光源。

此处，显示面板中的彩膜基板20相对阵列基板10靠近背光源，即彩膜基板20设置在显示面板的入光侧，阵列基板10设置在显示面板的出光侧。采用将阵列基板10设置在显示面板的出光侧，彩膜基板20设置在显示面板的入光侧，可以减小边框的尺寸，从而可以使显示装置实现窄边框、乃至无边框设计，增加显示装置的竞争力。

本发明实施例提供的显示装置可以是显示不论运动(例如，视频)还是固定(例如，静止图像)的且不论文字还是图画的图像的任何装置。更明确地说，预期所述实施例可实施在多种电子装置中或与多种电子装置关联，所述多种电子装置例如(但不限于)移动电话、无线装置、个人数据助理(PDA)、手持式或便携式计算机、GPS接收器/导航器、相机、MP3播放器、摄像机、游戏控制台、手表、时钟、计算器、电视监视器、平板显示器、计算机监视器、汽车显示器(例如，里程表显示器等)、导航仪、座舱控制器和/或显示器、相机视图的显示器(例如，车辆中后视相机的显示器)、电子相片、电子广告牌或指示牌、投影仪、建筑结构、包装和美学结构(例如，对于一件珠宝的图像的显示器)等，还可以是液晶显示面板等显示部件。

本发明实施例提供一种显示装置，由于显示装置包括阵列基板10，而阵列基板10的金属图案50的外侧形成有挡光图案70，且挡光图案70的材料为非金属材料，若阵列基板10设置于显示面板的出光侧时，由于挡光图案70用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过，因而挡光图案70可以防止光照射到与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50上，从而可以避免与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50发生反射，进而能够避免降低产品的品质和对比度。

本发明实施例提供一种阵列基板的制备方法，如图6所示，包括：

S100、如图7和图8所示，在衬底基板60上形成挡光薄膜，并通过构图工艺在像素限定区04形成挡光图案70；其中，挡光图案70用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；挡光图案70的材料为非金属材料。

其中，对于挡光图案70的大小和形状不进行限定，可以是如图7(a)所示，挡光图案70的大小和形状与像素限定区04的大小和形状相同或近似相同，也可以是如图7(b)所示，沿垂直于衬底基板60的方向，只要和以下步骤S101中形成的金属图案50具有重叠区域即可。

此处，可以利用蒸镀工艺在衬底基板60上形成一层挡光薄膜，在通过曝光、显影、刻蚀工艺在像素限定区04形成挡光图案70。当挡光图案70的材料为棒状量子点材料时，棒状量子点的长轴按照一定方向排布。在后续工序中，若需要贴附偏光片，偏光片的透光轴与棒状量子点的长轴方向垂直。

S101、如图9所示，形成金属图案50；沿垂直于衬底基板60的方向，挡光图案70与金属图案50具有重叠区域。

其中，形成金属图案50具体过程为：先形成一层金属薄膜，再在金属薄膜上涂覆光刻胶，并选取相应的掩膜板进行曝光工艺，之后再经过显影、刻蚀工艺，便可以形成金属图案50。

需要说明的是，若阵列基板包括位于不同层的多种金属图案50时，当挡光图案70的大小和形状与像素限定区04的大小和形状相同或近似相同时，由于挡光图案70完全遮挡像素限定区04，因而挡光图案70可以对多种金属图案50进行遮挡，因此只需在步骤S101之后再形成其它种金属图案50即可；若挡光图案70的尺寸较小，只能与一层金属图案50具有重叠区域，则可以重复步骤S100和步骤S101，以使每一层金属图案50都与一层挡光图案70具有重叠区域。

本发明实施例提供一种阵列基板的制备方法，在金属图案50的外侧形成有挡光图案70，且挡光图案70的材料为非金属材料，若阵列基板10设置于显示面板的出光侧时，因而当挡光图案70用于遮光可见光时，此时挡光图案70可以防止光照射到与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50上，从而可以避免与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50发生反射，进而能够避免降低产品的品质和对比度；当挡光图案70仅允许一个偏振方向的光透过时，在阵列基板10上设置有偏光片101的情况下，透过阵列基板10上的偏光片101的光为线偏振光，在此基础上，由于偏光片101的透光轴与挡光图案70所允许透过的光的偏振方向垂直，此时经过偏光片的线偏振光照射到挡光图案70上时，便会被挡光图案70阻挡，因而光便不能照射到与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50上，从而可以避免与挡光图案70具有重叠区域的金属图案50产生反射现象，以避免降低产品的品质和对比度。

本发明实施例还提供一种阵列基板的制备方法，包括:

如图10所示，在衬底基板60上依次形成第一挡光薄膜90和第一金属薄膜100，并对第一挡光薄膜90和第一金属薄膜100同时构图，如图4(a)所示，以形成层叠的第一挡光图案和第一金属图案，第一金属图案为栅线、栅极；和/或，在衬底基板60上依次形成第二挡光薄膜和第二金属薄膜，并对第二挡光薄膜和第二金属薄膜同时构图，以形成层叠的第二挡光图案和第二金属图案，第二金属图案为数据线、源漏极。

其中，可以在衬底基板60上仅形成第一金属图案和第二挡光图案，也可以在衬底基板60上仅形成第二金属图案和第二挡光图案，当然也可以是，在衬底基板60上既形成第一金属图案、第一挡光图案，又形成第二金属图案、第二挡光图案。当在衬底基板60上既形成第一金属图案和第一挡光图案，又形成第二金属图案和第二挡光图案时，对于第一金属图案、第一挡光图案和第二金属图案、第二挡光图案的形成顺序不进行限定，可以在衬底基板60上先形成第一挡光图案和第一金属图案，也可以先形成第二挡光图案和第二金属图案。

此处，对第一挡光薄膜90和第一金属薄膜100构图，具体包括对第一挡光薄膜90和第一金属薄膜100进行曝光、显影和刻蚀工艺，以形成层叠的第一挡光图案和第一金属图案。同理，对第二挡光薄膜和第二金属薄膜构图，具体包括对第二挡光薄膜和第二金属薄膜进行曝光、显影和刻蚀工艺，以形成层叠的第二挡光图案和第二金属图案。

本发明实施例提供一种阵列基板的制备方法，当将阵列基板10设置显示面板的出光侧时，由于第一金属图案的外侧形成有第一挡光图案，当第一挡光图案用于遮光可见光时，此时第一挡光图案可以防止光照射到第一金属图案上，从而避免了第一金属图案发生反射，进而能够避免降低产品的品质和对比度；当第一挡光图案仅允许一个偏振方向的光透过时，在阵列基板10上设置有偏光片101的情况下，透过阵列基板10上的偏光片101的光为线偏振光，由于偏光片101的透光轴与第一挡光图案所允许透过的光的偏振方向垂直，此时经过偏光片的线偏振光照射到第一挡光图案上时，便会被第一挡光图案阻挡，因而光便不能照射到第一金属图案上，从而可以避免第一金属图案产生反射现象，以避免降低产品的品质和对比度。同理，第二挡光图案可以防止光照射到第二金属图案上，从而避免了第二金属图案发生反射，进而避免降低产品的品质和对比度。

在此基础上，本发明实施例通过构图工艺同时形成第一挡光图案和第一金属图案，和/或同时形成第二挡光图案和第二金属图案，可以简化阵列基板的制作工艺。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (11)

1.一种阵列基板，包括显示区和非显示区，所述显示区划分为像素区和限定所述像素区的像素限定区，所述阵列基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上、且位于所述像素限定区的金属图案，其特征在于，所述阵列基板还包括形成在所述金属图案外侧、且仅位于所述像素限定区的挡光图案，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域；

其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光图案仅允许一个偏振方向的光透过，所述挡光图案的材料为棒状量子点材料；其中，所述棒状量子点的长轴方向与所述挡光图案所允许透过的光的偏振方向相同。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光图案用于遮挡可见光，所述挡光图案的材料为黑色树脂。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述金属图案的边界在所述挡光图案的边界以内。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光图案形成在所述金属图案与所述衬底基板之间。

6.根据权利要求1-5任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光图案与所述像素限定区的形状和大小相同。

7.根据权利要求1-5任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述金属图案包括位于不同层的第一金属图案和第二金属图案，所述挡光图案包括位于不同层的第一挡光图案和第二挡光图案；

其中，所述第一挡光图案与所述第一金属图案通过一次构图工艺形成，所述第二挡光图案与所述第二金属图案通过一次构图工艺形成。

8.一种显示面板，包括阵列基板和彩膜基板，其特征在于，所述阵列基板为权利要求1-7任一项所述的阵列基板；

其中，若所述挡光图案仅允许一个偏振方向的光透过，所述显示面板还包括设置在所述阵列基板上的偏光片，所述挡光图案所允许透过的光的偏振方向与所述偏光片的透光轴垂直。

9.一种显示装置，包括显示面板和背光源，其特征在于，所显示面板为权利要求8所述的显示面板；

其中，所述显示面板中的彩膜基板相对于阵列基板靠近所述背光源。

10.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成挡光薄膜，并通过构图工艺在像素限定区形成挡光图案；其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料；

形成金属图案；沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域。

11.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括:

在衬底基板上依次形成第一挡光薄膜和第一金属薄膜，并对所述第一挡光薄膜和第一金属薄膜同时构图，以形成层叠的第一挡光图案和第一金属图案，所述第一金属图案为栅线、栅极；

和/或，

在衬底基板上依次形成第二挡光薄膜和第二金属薄膜，并对所述第二挡光薄膜和第二金属薄膜同时构图，以形成层叠的第二挡光图案和第二金属图案，所述第二金属图案为数据线、源漏极。