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CN106814515B - 显示装置用基板、显示装置、电子设备及其制造方法 - Google Patents

显示装置用基板、显示装置、电子设备及其制造方法 Download PDF

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CN106814515B CN201610825873.5A CN201610825873A CN106814515B CN 106814515 B CN106814515 B CN 106814515B CN 201610825873 A CN201610825873 A CN 201610825873A CN 106814515 B CN106814515 B CN 106814515B
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Abstract

一种显示装置用基板、显示装置、电子设备及其制造方法,第一基板(2)具备:具有绝缘层(12)的第一基材(10);以及在绝缘层(12)上设置的隔墙(5),绝缘层(12)以及隔墙(5)由树脂材料形成,隔墙(5)的硬度比绝缘层(12)的硬度高。在绝缘层(12)的表面设置有用于保护绝缘层(12)的保护膜(13)。保护膜(13)的一部分位于隔墙(5)与绝缘层(12)之间。

Description

显示装置用基板、显示装置、电子设备及其制造方法
技术领域
本发明涉及显示装置用基板、显示装置、电子设备及显示装置用基板的制造方法。
背景技术
广泛使用使具有电荷的粒子在分散介质中移动的电泳显示装置。电泳显示装置的画面的闪烁较少,因此应用于阅览电子书籍的显示装置等。该电泳显示装置在专利文献1中进行公开。根据其记载,电泳显示装置具备设置有电极的一对基板。然后,在电极间设置有包含着色带电粒子的分散介质。在基板之间呈格子状设置隔墙,利用隔墙而分隔出空间。而且,利用隔墙来保持基板间的距离。
在空间内使着色带电粒子进行带电。然后,通过对在对置的基板上设置的一对电极施加电压,向一电极诱导着色带电粒子。接下来,通过更换电极的电压,使着色带电粒子的位置改变。
在基板一侧设置像素电极,像素电极成为一个像素。然后,通过以像素为单位来控制着色带电粒子的位置,能够显示预定的图形。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2007-240679号公报
发明内容
(发明所要解决的课题)
在专利文献1中,在一基板表面上设置有被无机材料覆盖的绝缘膜。然后,在绝缘膜上设置有隔墙。隔墙的材料是芴环(cardo)聚合物,且是树脂材料的一种。在向隔墙内的空间设置分散介质之后,使一对基板一体化。在使一对基板一体化时对基板间施加载荷。此时,由于隔墙与绝缘膜是不同性质的材料,因此无法牢固地粘合。因此,在向隔墙施加载荷时有可能使隔墙与绝缘膜剥离或者偏移。此时,隔墙倾倒或挤破,因此期望一种即使在向基板间施加载荷时也可以抑制隔墙倾倒或挤破的显示装置用基板。
(用于解决课题的手段)
本发明是为了至少解决上述的课题而作出的,能够作为以下的方式或者适用例进行实现。
[适用例1]
本适用例涉及一种显示装置用基板,其特征在于,所述显示装置用基板具备:基板,具备绝缘层;以及隔墙,设置在所述绝缘层上,所述绝缘层以及所述隔墙由树脂材料形成,所述隔墙的硬度比所述绝缘层的硬度高。
根据本适用例,显示装置用基板具备基板,在基板上设置有绝缘层。然后,在绝缘层上设置有隔墙。绝缘层以及隔墙由树脂材料形成。因此,与绝缘层和隔墙中之一为无机材料时相比,能够将绝缘层与隔墙以高强度进行固定。而且,隔墙的硬度比绝缘层高,因此具有强度。其结果,即便在向隔墙施加载荷时也能够抑制隔墙倾倒或挤破。
[适用例2]
在上述适用例的显示装置用基板的中,优选为,在所述绝缘层的表面设置有用于保护所述绝缘层的保护膜。
根据本适用例,在绝缘层的表面设置有用于保护绝缘层的保护膜。因此,由于绝缘层与构成显示装置的药液不接触,因此能够防止药液、绝缘层受到损伤。
[适用例3]
在上述适用例的显示装置用基板的中,优选为,所述保护膜具有开口部,所述隔墙设置为堵塞所述开口部。
根据本适用例,通过将隔墙设置为堵塞保护膜的开口部,能够利用保护膜来抑制构成显示装置的药液与绝缘层接触,并且使树脂的隔墙与树脂的绝缘层相接并固定。
[适用例4]
在上述适用例的显示装置用基板的中,优选为,所述基板具备与一个像素对应的一个像素电极,所述隔墙设置为包围所述像素电极。
根据本适用例,在基板上,相对于一个像素而设置有一个像素电极。然后,将隔墙设置为包围像素电极。此时,与隔墙包围多个像素电极时相比,隔墙包围的面积变小。因此,由于隔墙内的面积较小,因此能够提高隔墙的强度。其结果,即便向隔墙施加载荷也能够抑制隔墙倾倒或挤破。
[适用例5]
在上述适用例的显示装置用基板的中,优选为,与所述像素电极进行电连接的电路部设置在所述基板与所述绝缘层之间。
根据本适用例,将与像素电极进行电连接的电路部设置在基板与绝缘层之间。因此,能够抑制电路部被构成显示装置的药液等浸蚀。
[适用例6]
在上述适用例的显示装置用基板的中,优选为,所述绝缘层为平坦化层。
根据本适用例,通过使绝缘层为平坦化层,能够将像素电极设为平坦的形状,能够实现显示质量的上升。
[适用例7]
本适用例涉及一种显示装置,其特征在于,所述显示装置具备:上述所记载的显示装置用基板;透明密封构件,被隔墙支承;对置电极,设置在所述透明密封构件上;电路部,与基板和绝缘层之间的像素电极连接;以及电泳分散液,被由所述隔墙、所述透明密封构件和所述基板形成的空间密封。
根据本适用例,显示装置具备显示装置用基板,透明密封构件被隔墙支承。然后,在透明密封构件上设置有对置电极。在显示装置用基板上设置隔墙,在被隔墙围成的像素区域中设置有电泳分散液。因此,隔墙位于显示装置用基板与对置电极之间。即使向该隔墙施加载荷,该隔墙也难以倾倒或挤破,因此能够容易组装显示装置用基板、透明密封构件以及对置电极。
[适用例8]
本适用例涉及一种电子设备,其特征在于,所述电子设备具备:上述所记载的显示装置;以及控制所述显示装置的控制部。
根据本适用例,在电子设备中,控制部对显示装置进行控制。而且,即便显示装置向隔墙施加载荷,该隔墙也难以倾倒或挤破,因此成为容易组装显示装置用基板与透明密封构件的装置。因此,电子设备能够设为具备容易组装显示装置用基板与透明密封构件的显示装置的装置。
[适用例9]
本适用例涉及一种显示装置用基板的制造方法,其特征在于,在基板上设置树脂材料的绝缘层,在所述绝缘层上设置保护膜,除去所述保护膜的一部分,在除去了所述保护膜的一部分的位置,覆盖所述绝缘层而设置树脂材料的隔墙。
根据本适用例,在基板上设置有树脂材料的绝缘层。然后,在绝缘层上设置保护膜,除去了保护膜的一部分。因此,使绝缘层的一部分露出。覆盖该露出的绝缘层而设置有树脂材料的隔墙。因此,由于对树脂材料的绝缘层与树脂材料的隔墙进行连接,因此能够牢固地连接绝缘层与隔墙。其结果,即便在后续工序中向隔墙施加载荷,也能够抑制隔墙倾倒或挤破。
附图说明
图1是表示第一实施方式的电泳显示装置的构造的简要立体图。
图2是表示电泳显示装置的构造的示意俯视图。
图3是表示电泳显示装置的构造的局部简要分解立体图。
图4是表示电泳显示装置的构造的示意侧剖视图。
图5是用于说明像素与隔墙的关系的主要部分示意俯视图。
图6是电泳显示装置的电气控制框图。
图7是表示电泳显示装置的构造的示意侧剖视图。
图8是表示电泳显示装置的构造的示意侧剖视图。
图9是电泳显示装置的制造方法的流程图。
图10是用于说明电泳显示装置的制造方法的示意图。
图11是用于说明电泳显示装置的制造方法的示意图。
图12是用于说明电泳显示装置的制造方法的示意图。
图13是用于说明电泳显示装置的制造方法的示意图。
图14是用于说明电泳显示装置的制造方法的示意图。
图15是用于说明电泳显示装置的制造方法的示意图。
图16是用于说明电泳显示装置的制造方法的示意图。
图17是用于说明电泳显示装置的制造方法的示意图。
图18是用于说明电泳显示装置的制造方法的示意图。
图19是表示第二实施方式的电泳显示装置的构造的示意侧剖视图。
图20是表示第三实施方式的电子书的构造的简要立体图。
图21是表示腕表的构造的简要立体图。
附图标记说明
1、作为显示装置的电泳显示装置;2、作为显示装置用基板的第一基板;5、隔墙;6、像素区域;7、作为电路部的第一半导体元件;10、作为基板的第一基材;12、绝缘层;13、保护膜;14、像素电极;15、电泳分散液;22、作为对置电极的共用电极;23、作为透明密封构件的密封层;26、44、53、控制部;38、作为电子设备的电子书;43、52、作为显示装置的显示部;45、54、作为驱动装置的信号驱动部;48、作为电子设备的腕表。
具体实施方式
在本实施方式中,根据附图对电泳显示装置、制造该电泳显示装置的特征例进行说明。需要说明的是,各附图中的各构件设为在各附图上能够识别程度的大小,因此以各构件为单位使比例尺不同进行图示。
(第一实施方式)
根据图1~图18对第一实施方式的电泳显示装置进行说明。图1是表示电泳显示装置的构造的简要立体图,图2是表示电泳显示装置的构造的示意俯视图。
如图1所示,作为显示装置的电泳显示装置1成为作为显示装置用基板的第一基板2与第二基板3重叠的构造。将第一基板2以及第二基板3的厚度方向设为Z方向,将沿着第一基板2的侧面的方向设为X方向以及Y方向。第二基板3位于+Z方向侧。在观察者观察电泳显示装置1时从+Z方向侧观察。第二基板3的+Z方向侧的面为图像显示面3a。第一基板2成为与第二基板3相比沿-Y方向较长的形状。在第一基板2的-Y方向侧,在+Z方向侧的面上设置有挠性线缆4。挠性线缆4与未图示的驱动电路连接,经由挠性线缆4来供给电源与驱动信号。
如图2所示,电泳显示装置1在第一基板2与第二基板3之间设置有隔墙5。隔墙5具有格子状的形状并划分像素区域6。隔墙5的尺寸没有特别限定,但在本实施方式中,例如使宽度为3~5μm、高度为30μm。
关于图中的像素区域6,为了容易观察图而将其沿X方向排列设置15个、沿Y方向排列设置10个。像素区域6的个数没有特别限定,但在本实施方式中,例如沿X方向排列设置320个、沿Y方向排列设置250个。像素区域6的大小没有特别限定,但在本实施方式中,例如使X方向的长度为50~100μm、Y方向的长度为50~100μm。电泳显示装置1的大小也没有特别限定,但在本实施方式中,例如使第一基板2的X方向的长度为30~50mm、Y方向的长度为20~40mm。
在第一基板2上,在各像素区域6中设置有作为电路部的第一半导体元件7。第一半导体元件7是进行开关的元件,切换向像素区域6施加的电压。第一半导体元件7位于各像素区域6,因此第一半导体元件7的个数成为与像素区域6的个数相同的个数。然后,在向图像显示面3a显示预定的图案时,一个像素区域6成为一个像素8。在第一基板2的+Z方向侧的面上,在第二基板3与挠性线缆4之间设置有信号分配部9。信号分配部9切换向第一半导体元件7输出的信号。
图3是表示电泳显示装置的构造的局部简要分解立体图,是将电泳显示装置1的一部分沿Z方向分解的图。如图3所示,第一基板2具有第一基材10。作为第一基材10的材质,能够使用玻璃、塑料、陶瓷、硅等。第一基材10配置在从+Z方向观察的图像显示面3a的相反一侧,因此也可以是不透明的材质。
在第一基材10上设置有元件层11。在元件层11中设置有电压供给线7a、控制信号线7b、第一半导体元件7以及第一贯通电极7d等。第一半导体元件7是TFT(Thin FilmTransistor)元件,是进行开关的元件。在元件层11之上设置绝缘层12,在绝缘层12之上依次重叠设置有保护膜13以及像素电极14。绝缘层12是对元件层11与像素电极14进行绝缘的层。保护膜13是保护绝缘层12的层。元件层11的第一贯通电极7d与像素电极14进行连接。像素电极14以像素区域6为单位进行分离。利用隔墙5、第一基材10、元件层11、绝缘层12、保护膜13以及像素电极14等构成第一基板2。
元件层11的材质只要是能够形成半导体的材质即可,没有特别限定,能够使用硅、锗、砷化镓、砷磷化镓、氮化硅、碳化硅等。绝缘层12的材质只要是具有绝缘性且容易成形的材质即可,没有特别限定,能够使用树脂材料。在本实施方式中,例如作为绝缘层12的材质而使用正型的感光性丙烯酸类树脂。通过设为正型而能够容易地形成使绝缘层12的一部分露出的开口部。另外,绝缘层12具有不使元件层11的凹凸在像素区域6反映出来的平坦化层的功能。
作为像素电极14的材质,只要是具有导电性的材质即可,没有特别限定,除铜、铝,镍、金、银、ITO(铟锡氧化物)之外,也能够使用在铜箔上层叠有镍膜、金膜的材质、在铝箔上层叠有镍膜、金膜的材质。在本实施方式中,例如,作为像素电极14的材质而采用ITO。
在保护膜13以及绝缘层12上设置隔墙5,在被隔墙5划分出的像素区域6中填充有电泳分散液15。作为隔墙5的材质,只要是具有适当的强度且容易形成、且不会向电泳分散液15溶出的材质即可,没有特别限定。能够使用向聚酯树脂、聚烯烃树脂、丙烯酸类树脂、环氧树脂等树脂材料添加交联剂而成的材料。在本实施方式中,例如,作为隔墙5的材料而使用负型的感光性环氧树脂。通过设为负型而能够容易形成凸形状。隔墙5设置为堵塞保护膜13的开口部。由图3可知,保护膜13的开口部的宽度比隔墙5的底部的宽度窄。由此,产生隔墙5与绝缘层12没有隔着保护膜13而接合的部分,能够将该接合设为牢固的结构。另外,隔墙5与绝缘层12在开口部的两侧隔着保护膜13进行接合,能够防止绝缘层12从开口部受到电泳分散液15导致的损伤。
作为保护膜13的材质,只要是具有绝缘性且不会向电泳分散液15溶出的材质即可,没有特别限定。在本实施方式中,例如,作为保护膜13的材料而使用氮化硅。保护膜13用于防止绝缘层12向电泳分散液15溶出。由此,防止电泳分散液15变质,并防止绝缘层12劣化。
电泳分散液15具有作为荷电粒子的白色荷电粒子16以及作为荷电粒子的黑色荷电粒子17,白色荷电粒子16以及黑色荷电粒子17分散在分散介质18中。作为白色荷电粒子16的材料,只要是白色且能够带电并能够形成为微小粒子即可,没有特别限定。作为白色荷电粒子16的材料,例如能够使用由二氧化钛、锌白、三氧化锑等白色颜料构成的粒子、高分子、胶体。在本实施方式中,例如,作为白色荷电粒子16而使二氧化钛的粒子带正电来使用。
作为黑色荷电粒子17,只要是黑色且能够带电并能够形成为微小粒子即可,没有特别限定。作为黑色荷电粒子17的材料,例如能够使用由苯胺黑、炭黑、氮氧化钛等黑色颜料构成的粒子、高分子、胶体。在本实施方式中,例如,作为黑色荷电粒子17而使氮氧化钛带负电来使用。在白色荷电粒子16以及黑色荷电粒子17中,根据需要而能够对这些粒子使用电解质、界面活性剂、金属皂、树脂、橡胶、油、清漆、复合物等带电控制剂。除此之外,也能够向白色荷电粒子16以及黑色荷电粒子17添加钛系偶联剂、铝系偶联剂、硅烷系偶联剂等分散剂、润滑剂、稳定化剂等。
分散介质18只要是具有流动性且难以变质的材质即可,没有特别限定。作为分散介质18的材质而能够使用水、甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、辛醇、甲基溶纤剂等醇类溶剂、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类、丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮等酮类、戊烷、己烷、辛烷等脂肪族烃、环己烷、甲基环己烷等脂环式烃。除此之外,作为分散介质18的材质而能够使用苯、甲苯、二甲苯、具有长链烷基的苯类等芳香族烃。作为具有长链烷基的苯类而能够使用己基苯、庚基苯、辛基苯、壬基苯、癸基苯、十一烷基苯、十二烷基苯、十三烷基苯、十四烷基苯等。除此之外,作为分散介质18而能够使用二氯甲烷、三氯甲烷、四氯化碳、1,2-二氯乙烷等卤代烃。除此之外,作为分散介质18的材质而能够使用油类、硅油。这些物质能够单独或者作为混合物来使用,而且,也可以配合羧酸盐那样的界面活性剂等。
在隔墙5以及电泳分散液15上设置有第二基板3。第二基板3具有第二基材21。在第二基材21上设置作为对置电极的共用电极22,在共用电极22上设置有作为密封电泳分散液15的透明密封构件的密封层23。共用电极22是遍及多个像素区域6设置的共用电极。因此,共用电极22与多个像素电极14对置。第二基板3的密封层23侧与隔墙5接合。另外,密封层23具备对隔墙5与共用电极22进行绝缘的功能。
作为第二基材21的材质,只要具有透光性、强度以及绝缘性即可,没有特别限定。作为第二基材21的材质而能够使用玻璃、树脂材料。在本实施方式中,例如,作为第二基材21的材质而使用玻璃板。
共用电极22只要是透明导电膜即可,没有特别限定。例如,作为共用电极22而能够使用MgAg、IGO(Indium-gallium oxide)、ITO(Indium Tin Oxide)、ICO(Indium-ceriumoxide)、IZO(铟-锌氧化物)等。在本实施方式中,例如,作为共用电极22而使用ITO。
密封层23的材质只要是能够与隔墙5接合、并具有透光性且具有绝缘性而不会使电泳分散液15变质的材质即可,没有特别限定。例如,作为密封层23的材质而能够使用聚氨酯、聚脲、聚脲-聚氨酯、脲-甲醛、三聚氰胺-甲醛树脂、聚酰胺、聚酯、聚磺酰胺、聚碳酸酯、多亚磺酸酯、环氧树脂,聚丙烯酸酯等丙烯酸类树脂、聚甲基丙烯酸酯、聚乙酸乙烯酯、明胶、酚醛树脂、乙烯树脂等。在本实施方式中,例如,使用紫外性固化型的丙烯酸类树脂、环氧树脂。
图4是表示电泳显示装置的构造的示意侧剖视图。如图4所示,电泳显示装置1在像素电极14与共用电极22之间施加电压来使用。而且,在像素电极14与共用电极22之间切换电压来使用。
相对于像素电极14而将共用电极22设为低电压。此时,黑色荷电粒子17带有负的电压,因此黑色荷电粒子17被诱导至像素电极14。白色荷电粒子16带有正的电压,因此白色荷电粒子16被诱导至共用电极22。其结果,在第一基板2上集合黑色荷电粒子17,在第二基板3上集合白色荷电粒子16。在从第二基板3侧观察电泳显示装置1时,能够透过第二基板3而看到白色荷电粒子16。因此,在像素区域6中成为白色的显示。
在元件层11中设置有第一半导体元件7。第一半导体元件7具有半导体膜7e,在半导体膜7e中依次排列形成有源极区域7h、沟道形成区域7k、漏极区域7j。在半导体膜7e上设置栅极绝缘膜7f,在栅极绝缘膜7f上设置栅电极7g。在源极区域7h上连接源电极7n,源电极7n供电压供给线7a连接。与漏极区域7j连接而设置第一漏电极7p,与第一漏电极7p连接而设置第一贯通电极7d。第一贯通电极7d与像素电极14连接,因此第一半导体元件7与像素电极14电连接。栅电极7g供控制信号线7b连接。
隔墙5的主要材质为环氧类树脂,绝缘层12的主要材质为丙烯酸类树脂。而且,绝缘层12与隔墙5的一部分接合。因此,绝缘层12与隔墙5的接合是相同的树脂材料彼此接合,与绝缘层12和隔墙5中之一为无机材料时相比,能够将绝缘层12与隔墙5以较高强度固定。隔墙5的硬度为2GPa,绝缘层12的硬度为0.5GPa。隔墙5与绝缘层12相比硬度较高,因此具有强度。因此,即便在组装第一基板2与第二基板3的工序中向隔墙5施加载荷时也可以防止隔墙5的变形等并且成为向绝缘层12侧咬入的形状,因此隔墙5不容易从绝缘层12剥离。其结果是,能够抑制隔墙5倾倒或挤破。
绝缘层12的固化前的硬度为约15mPa/s,隔墙5的固化前的硬度为约2000mPa/s。因此,绝缘层12的材料与隔墙5的材料相比,能够容易成膜为较薄。但是,绝缘层12与隔墙5相比,容易向电泳分散液15溶出,因此覆盖绝缘层12而设置有保护膜13。由于利用保护膜13而使绝缘层12与电泳分散液15不接触,因此能够防止电泳分散液15、绝缘层12受到损伤。
保护膜13的一部分位于隔墙5与绝缘层12之间。详细来说,将绝缘层12侧的隔墙5的宽度设为第一宽度5a。然后,在隔墙5的宽度方向上在隔墙5的中央处,隔墙5与绝缘层12接合。将隔墙5与绝缘层12接合的宽度设为第二宽度5b。例如,第二宽度5b成为第一宽度5a的1/3的长度。然后,保护膜13从隔墙5的两侧侧面进入隔墙5与绝缘层12之间。将保护膜13从隔墙5的侧面进入隔墙5与绝缘层12之间的部分的长度设为第三宽度5c。例如,第三宽度5c成为第一宽度5a的1/3的长度。此时,在绝缘层12上存在保护膜13,在保护膜13上存在隔墙5的一部分。因而,绝缘层12被隔墙5与保护膜13覆盖,因此在与电泳分散液15相接的面中不会露出绝缘层12。其结果,能够抑制绝缘层12与电泳分散液15接触。
图5是用于说明像素与隔墙的关系的主要部分示意俯视图,是从图像显示面3a侧观察第一基板2的图。如图5所示,在第一基板2中,对应于一个像素8而具备一个像素电极14。然后,隔墙5设置为相对于一个像素8而包围像素电极14。需要说明的是,隔墙5也可以不包围像素电极14的整周而是使一部分缺损。然后,也可以在缺损的位置使电泳分散液15在像素8间移动。隔墙5设置为包围像素电极14。此时,与隔墙5包围多个像素电极14时相比,能够缩小隔墙5包围的面积。然后,能够提高隔墙5的强度。因此,即便向隔墙5施加载荷也能够抑制隔墙5倾倒或挤破。
图6是电泳显示装置的电气控制框图。如图6所示,电泳显示装置1与控制装置24连接来使用。控制装置24具备输入部25,输入部25与输出表示在电泳显示装置1上显示的图像的图像信号的装置连接,输入图像信号。输入部25与控制部26连接。而且,控制部26与存储部27、第一波形形成部28、第二波形形成部29以及信号分配部9连接。
控制部26是控制第一波形形成部28、第二波形形成部29以及信号分配部9的部位。存储部27对图像信号之外、在根据图像信号形成向电泳显示装置1输出的信号时使用的信息进行存储。第一波形形成部28经由挠性线缆4、信号分配部9以及控制信号线7b与第一半导体元件7连接,向第一半导体元件7输出以像素为单位的数据信号。第一半导体元件7与像素电极14连接,将与数据信号对应的电压向像素电极14输出。第二波形形成部29经由挠性线缆4以及信号分配部9与共用电极22连接,向共用电极22输出电压波形。
信号分配部9向第一半导体元件7分配驱动信号并切换向像素电极14输出的电压波形。而且,信号分配部9传递向共用电极22输出的电压波形。
图7以及图8是表示电泳显示装置的构造的示意侧剖视图。如图7所示,相对于像素电极14,将共用电极22设为低电压。此时,黑色荷电粒子17带有负的电压,因此黑色荷电粒子17被诱导至像素电极14。白色荷电粒子16带有正的电压,因此白色荷电粒子16被诱导至共用电极22。其结果,在第一基板2上集合黑色荷电粒子17,在第二基板3上集合白色荷电粒子16。在从第二基板3侧观察电泳显示装置1时,能够透过第二基板3而看到白色荷电粒子16。因此,在像素区域6中成为白色的显示。
如图8所示,相对于像素电极14,将共用电极22设为高电压。此时,黑色荷电粒子17带有负的电压,因此黑色荷电粒子17被诱导至共用电极22。由于白色荷电粒子16带有正的电压,因此白色荷电粒子16被诱导至像素电极14。其结果,在第一基板2上集合白色荷电粒子16,在第二基板3上集合黑色荷电粒子17。在从第二基板3侧观察电泳显示装置1时,透过第二基板3而能够看到黑色荷电粒子17。因此,在像素区域6中成为黑色的显示。
接下来,通过图9~图18对上述的电泳显示装置1的制造方法进行说明。图9是电泳显示装置的制造方法的流程图,图10~图18是用于说明电泳显示装置的制造方法的示意图。在图9的流程图中,步骤S1相当于上部电极设置工序。该工序是在第二基材21上设置共用电极22以及密封层23的工序。
接下来,移至步骤S2。步骤S2是元件设置工序。该工序是在第一基材10上设置元件层11的工序。
接下来,移至步骤S3。步骤S3是绝缘层设置工序。该工序是在元件层11上设置绝缘层12的工序。
接下来,移至步骤S4。步骤S4是保护膜设置工序。该工序是在绝缘层12上设置保护膜13的工序。
接下来,移至步骤S5。步骤S5是下部电极设置工序。该工序是在保护膜13上设置第一贯通电极7d以及像素电极14的工序。
接下来,移至步骤S6。步骤S6是隔墙设置工序。该工序是在第一基板2上设置隔墙5的工序。
接下来,移至步骤S7。步骤S7是分散液填充工序。该工序是在像素区域6中填充电泳分散液15的工序。
接下来,移至步骤S8。步骤S8是基板组装工序。该工序是粘合隔墙5与第二基板3的工序。
通过以上的工序,结束制造电泳显示装置1的工序。
接下来,使用图10~图18,对应于图9所示的步骤来详细说明制造方法。
首先,制造第二基板3。图10是与步骤S1的上部电极设置工序对应的图。如图10所示,准备第二基材21。在第二基材21中使用将玻璃板磨削以及研磨为预定的厚度而减小了表面粗糙度的板。接下来,在第二基材21上设置共用电极22。使用溅射法等成膜法而在第二基材21上形成膜厚100nm左右的ITO膜。接下来,利用光刻法以及蚀刻法对ITO膜进行图案化,形成共用电极22。
接下来,在共用电极22上设置密封层23。密封层23能够使用喷墨法、胶印、网版印刷、柔性印刷等凸版印刷、凹版(gravure)印刷等凹版印刷等各种印刷法进行设置。除此之外,也可以使用旋涂法、辊涂法、模涂法、缝涂法、帘式涂敷法、喷雾涂敷法、横涂法、浸渍涂敷法等。
接着,制造第一基板2。图11是与步骤S2的元件设置工序对应的图。如图11所示,在步骤S2中准备第一基材10。第一基材10也使用将玻璃板磨削以及研磨为预定的厚度而减小了表面粗糙度的板。在第一基材10上形成元件层11。元件层11的形成方法是公知的,因此省略详细的说明,说明概要的制造方法。元件层11的形成方法存在多种,没有特别限定。
首先,利用CVD法(chemical vapor deposition)在第一基材10上形成未图示的SiO2的基底绝缘膜30。接下来,在基底绝缘膜上,通过CVD法等形成膜厚50nm左右的非晶硅膜。对该非晶硅膜通过激光晶化法等进行晶化,形成多晶硅膜。之后,利用光刻法以及蚀刻法等形成作为岛状的多晶硅膜的半导体膜7e。
接下来,以覆盖半导体膜7e以及基底绝缘膜的方式通过CVD法等形成膜厚100nm左右的SiO2,设为栅极绝缘膜7f。通过溅射法等,在栅极绝缘膜7f上形成膜厚500nm左右的Mo膜,通过光刻法以及蚀刻法来形成岛状的栅电极7g。通过离子注入法向半导体膜注入杂质离子,形成源极区域7h、漏极区域7j以及沟道形成区域7k。以覆盖栅极绝缘膜7f以及栅电极7g的方式形成膜厚800nm左右的SiO2膜,设为第一层间绝缘膜11m。
接下来,在第一层间绝缘膜11m上形成达到源极区域7h的接触孔与达到漏极区域7j的接触孔。之后,在第一层间绝缘膜11m上与接触孔以及接触孔内,通过溅射法等形成膜厚500nm左右的Mo膜,通过光刻法以及蚀刻法来进行图案化,形成源电极7n、第一漏电极7p以及未图示的布线。
以覆盖第一层间绝缘膜11m、源电极7n、第一漏电极7p以及布线的方式形成膜厚800nm左右的Si3N4膜,设为第二层间绝缘膜11r。通过光刻法以及蚀刻法来进行图案化,在第二层间绝缘膜11r上形成接触孔。
图12是与步骤S3的绝缘层设置工序对应的图。如图12所示,在步骤S3中,在第二层间绝缘膜11r上设置绝缘层12。首先,设置成为绝缘层12的材料的树脂膜。在元件层11之上,将溶解丙烯酸类树脂而成的溶液涂敷在元件层11上并使其干燥而固化。树脂膜能够使用喷墨法、胶印、网版印刷、柔性印刷等凸版印刷、凹版(gravure)印刷等凹版印刷等各种印刷法进行设置。除此之外,也可以使用旋涂法、辊涂法、模涂法、缝涂法、帘式涂敷法、喷雾涂敷法、横涂法、浸渍涂敷法等。接下来,将树脂膜通过光刻法以及蚀刻法来进行图案化。由此,对于绝缘层12的外形形状以及贯通孔12a的形状,进行图案化。接着,使用蚀刻液而蚀刻绝缘层12,形成贯通孔12a。
图13以及图14是与步骤S4的保护膜设置工序对应的图。如图13所示,在步骤S4中,在绝缘层12上与贯通孔12a内使用蒸镀或者CVD法等成膜法而形成膜厚500nm左右的SiN膜。接下来,如图14所示,对SiN膜进行图案化以及蚀刻而形成保护膜13。使第一漏电极7p在贯通孔12a中露出。而且,在设置隔墙5的位置使绝缘层12露出。蚀刻法没有特别限定,但在本实施方式中使用干式蚀刻法。
图15是与步骤S5的下部电极设置工序对应的图。如图15所示,在步骤S5中,在绝缘层12、保护膜13上以及贯通孔12a内使用溅射法等成膜法而形成膜厚500nm左右的ITO膜。而且,通过光刻法以及蚀刻法对ITO膜进行蚀刻而形成像素电极14以及第一贯通电极7d。在设置隔墙5的预定的位置使绝缘层12以及保护膜13露出。蚀刻法没有特别限定,但在本实施方式中使用干式蚀刻法。
图16是与步骤S6的隔墙设置工序对应的图。如图16所示,在步骤S6中,在露出的绝缘层12以及保护膜13上设置隔墙5。首先,在像素电极14上涂敷成为隔墙5的材料的感光性树脂材料。作为涂敷方法,能够使用胶印、网版印刷、凸版印刷等各种印刷法进行设置。除此之外,也可以使用旋涂法、辊涂法等涂敷法。接着,对感光性树脂材料进行加热干燥使其固化。接下来,将感光性树脂材料通过光刻法进行图案化并蚀刻而成形隔墙5。在除去保护膜13的一部分的位置覆盖绝缘层12而设置树脂材料的隔墙5。通过该工序完成第一基板2。
图17是与步骤S7的分散液填充工序对应的图。如图17所示,在步骤S7中,将设置有隔墙5的第一基板2设置在未图示的容器内。然后,向分散介质18添加白色荷电粒子16以及黑色荷电粒子17进行搅拌并准备电泳分散液15。接下来,使用注射器等供给器具而向像素区域6供给电泳分散液15。电泳分散液15的供给方法也可以使用各种印刷法、喷墨法。电泳分散液15被供给至从像素区域6溢出的程度。
图18是与步骤S8的基板组装工序对应的图。如图18所示,在步骤S8中,在隔墙5上设置第二基板3。首先,将供给有电泳分散液15的第一基板2设置在减压腔室内。接下来,在隔墙5上搭载第二基板3。接着,对减压腔室内进行减压并向第一基板2加压第二基板3。在维持该状态的同时向密封层23照射紫外线。密封层23是紫外线固化型,也可以作为粘合剂发挥功能,对隔墙5与第二基板3进行临时固定。接下来,通过加热设置有第二基板3的第一基板2并对密封层23进行固化,由此将第二基板3固定于隔墙5。通过以上的工序来完成电泳显示装置1。
如上所述,根据本实施方式,具有以下的效果。
(1)根据本实施方式,在第一基材10上设置有绝缘层12。然后,在绝缘层12上设置有隔墙5。绝缘层12以及隔墙5均由树脂材料形成。因此,与绝缘层12和隔墙5中之一为无机材料且另一为树脂材料时相比,能够将绝缘层12与隔墙5以高强度固定。而且,隔墙5的硬度比绝缘层12高,因此强度较高。其结果,即便在向隔墙5施加载荷时也能够抑制隔墙5从绝缘层12剥离而倾倒或挤破。
(2)根据本实施方式,在绝缘层12的表面设置有保护绝缘层12的保护膜13。因此,防止电泳分散液15与绝缘层12接触。而且,能够防止电泳分散液15、绝缘层12相互受到损伤。
(3)根据本实施方式,保护膜13的一部分位于隔墙5与绝缘层12之间。即,成为隔墙5堵塞保护膜13的开口部的形状。因此,在像素区域6中不会露出绝缘层12。其结果,能够抑制电泳分散液15与绝缘层12接触。
(4)根据本实施方式,在第一基板2上与一个像素8对应地设置有一个像素电极14。然后,将隔墙5设置为包围像素电极14。此时,与隔墙5包围多个像素电极14时相比,由于隔墙5包围的位置的面积狭窄,因此能够提高隔墙5的强度。因而,即便向隔墙5施加载荷也能够抑制隔墙5倾倒或挤破。
(5)根据本实施方式,绝缘层12以及隔墙5由树脂材料构成,热膨胀系数成为接近值。因此,即便在电泳显示装置1的制造工序中温度变化较大时,也能够使隔墙5相对于绝缘层12不容易剥离。
(6)根据本实施方式,绝缘层12与隔墙5的紧贴力较高。因此,即便在电泳分散液15被加热而膨胀时,也能够抑制隔墙5从绝缘层12剥离。
(第二实施方式)
接下来,使用图19对电泳显示装置的一实施方式进行说明。图19是表示电泳显示装置的构造的示意侧剖视图。本实施方式与第一实施方式的不同之处在于,保护膜13没有位于绝缘层12与隔墙5之间。需要说明的是,对于与第一实施方式相同的点,省略说明。
即,在本实施方式中,如图19所示,电泳显示装置33具备第一基板34以及第二基板3,成为利用第一基板34与第二基板3来夹持电泳分散液15的构造。在第一基板34中,保护膜35设置在绝缘层12上,且设置在隔墙5的上部以及隔墙5的侧面。需要说明的是,隔墙5的侧面的保护膜35只要设置为在隔墙5与绝缘层12的交界不使绝缘层12露出的程度即可,不一定需要设置在隔墙5的整个侧面。保护膜35没有被绝缘层12与隔墙5夹持。因此,隔墙5的整个底面与绝缘层12相接并固定。因此,隔墙5的底面与绝缘层12相接的面积比第一实施方式的第一基板2大,因此能够使隔墙5更不容易从绝缘层12剥离。
在向绝缘层12设置隔墙5之后,通过CVD法等形成保护膜35。之后,在使接触孔中的第一漏电极7p露出之后形成像素电极14。需要说明的是,在图19中,在隔墙5的上部也设置有保护膜35,但也可以删除隔墙5上部的保护膜35。
(第三实施方式)
接下来,使用图20以及图21对搭载有电泳显示装置的电子设备的一实施方式进行说明。图20是表示电子书的构造的简要立体图,图21是表示腕表的构造的简要立体图。如图20所示,作为电子设备的电子书38具有板状的外壳39。在外壳39上借助铰链40设置有盖部41。而且,在外壳39上设置有操作按钮42与作为显示装置的显示部43。操作者能够对操作按钮42进行操作而操作在显示部43中显示的内容。
在外壳39的内部设置有控制部44与对显示部43驱动数据信号的信号驱动部45。控制部44向信号驱动部45输出显示数据,并且也输出将该显示数据转换为数据信号时的定时信号。信号驱动部45根据显示数据生成数据信号并向显示部43输出。另外,控制部44将与由信号驱动部45输出的数据信号同步的显示控制信号向显示部43输出。显示部43根据被输入的显示控制信号以及数据信号在显示部43内部所具有的信号部分配电路中生成电泳显示所需的信号,从而能够进行与控制部44向显示部43输出的显示数据相应的显示。需要说明的是,基于操作按钮42的操作者的操作被适时信号化并向控制部44传递,且在控制部44的输出信号中反映。在显示部43中使用电泳显示装置1和电泳显示装置33中的任一者。因此,能够将电子书38设为使隔墙5难以倾倒且容易组装的构造的电泳显示装置应用于显示部43的装置。
如图21所示,作为电子设备的腕表48具有板状的外壳49。外壳49具备表带50,操作者能够将表带50卷绕于手腕而将腕表48固定于手腕。而且,在外壳49上设置有操作按钮51与作为显示装置的显示部52。操作者能够对操作按钮51进行操作而操作在显示部52上显示的内容。
在外壳49的内部设置有控制腕表48的控制部53与向显示部52驱动信号的信号驱动部54。控制部53向信号驱动部54输出显示数据与必要的定时信号。需要说明的是,在该必要的定时信号之中也可以具有从控制部53向显示部52直接输出的信号。信号驱动部54将显示所需的信号向显示部52输出,由此能够使显示部52显示与显示数据对应的内容。而且,在显示部52中使用电泳显示装置1和电泳显示装置33中的任一者。因此,能够将腕表48设为使隔墙5难以倾倒且容易组装的构造的电泳显示装置应用于显示部52的装置。
需要说明的是,本实施方式不限定于上述的实施方式,在本发明的技术构思内,也能够由在本领域中具有通常知识的人员施加各种变更、改进。变形例如下所述。
(变形例1)
在所述第一实施方式中,在电泳分散液15中设置有白色荷电粒子16以及黑色荷电粒子17。也可以替代白色荷电粒子16以及黑色荷电粒子17而使用红色、绿色、蓝色等荷电粒子。根据该结构,能够通过显示红色、绿色、蓝色等而进行彩色显示。除此之外,也可以在电泳分散液15中仅使用一种颜色的荷电粒子。
(变形例2)
在所述第一实施方式中,在一个像素区域6中设置有一个像素电极14。也可以在一个像素区域6中设置多个像素电极14。能够对显示进行细分化。
(变形例3)
在所述第一实施方式中,使白色荷电粒子16正极带电,使黑色荷电粒子17负极带电。也可以使白色荷电粒子16负极带电,使黑色荷电粒子17正极带电。也可以设为容易控制的带电状态。
(变形例4)
在所述第一实施方式中,像素区域6的形状为四边形。像素区域6的形状也可以是圆形、椭圆形、多边形以及包括圆弧与直线的形状。此时,隔墙5由树脂材料形成,因此隔墙5的形状能够与像素区域6的形状容易配合。
(变形例5)
在所述第一实施方式中,在向第一基板2的像素区域6设置有电泳分散液15之后接合第一基板2与第二基板3。除此之外,也可以在使像素区域6连通而接合第一基板2与第二基板3之后在像素区域6中设置电泳分散液15。也可以设为容易制造的工序顺序。
(变形例6)
在所述第一实施方式中,在第一基板2上设置有第一半导体元件7。也可以是在第一基板2上不设置第一半导体元件7而仅设置有像素电极14的构造。而且,也可以设置直接向像素电极14施加电压的驱动电路。第一基板2的构造变得简单,因此能够容易制造。
将2015年9月18日向日本特许厅提出申请的日本特愿2015-184810的全部内容引用于此。

Claims (7)

1.一种显示装置用基板,其特征在于,所述显示装置用基板具备:
基板,具备绝缘层;以及
隔墙,设置在所述绝缘层上,
所述绝缘层以及所述隔墙由树脂材料形成,所述隔墙的硬度比所述绝缘层的硬度高,
其中,在所述绝缘层的表面设置有用于保护所述绝缘层的保护膜;
其中,所述保护膜具有开口部,所述隔墙设置为堵塞所述开口部;以及
其中,所述开口部的宽度比所述隔墙的底部的宽度窄。
2.根据权利要求1所述的显示装置用基板,其特征在于,
所述基板具备与一个像素对应的一个像素电极,
所述隔墙设置为包围所述像素电极。
3.根据权利要求2所述的显示装置用基板,其特征在于,
与所述像素电极进行电连接的电路部设置在所述基板与所述绝缘层之间。
4.根据权利要求1所述的显示装置用基板,其特征在于,
所述绝缘层为平坦化层。
5.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置具备:
权利要求1所述的显示装置用基板;
透明密封构件,被隔墙支承;
对置电极,设置在所述透明密封构件上;
电路部,与基板和绝缘层之间的像素电极连接;以及
电泳分散液,被由所述隔墙、所述透明密封构件和所述基板形成的空间密封。
6.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备具备:
权利要求5所述的显示装置;以及
控制所述显示装置的控制部。
7.一种显示装置用基板的制造方法,其特征在于,
在基板上设置树脂材料的绝缘层,
在所述绝缘层上设置保护膜,
除去所述保护膜的一部分,
在除去了所述保护膜的一部分的位置,覆盖所述绝缘层而设置树脂材料的隔墙,
其中,除去了所述保护膜的一部分的所述位置的宽度比所述隔墙的底部的宽度窄。
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