Der Patentanspruch des Hauptpatentes betrifft ein Verfahren zur photomechanischen Dessinierung von Druckschablonen für Film- und Siebdruck, insbesondere Rotationsfilmdruck, bei welchem eine lichtempfindliche Schicht entsprechend dem Druckbild belichtet und die unbelichteten Partien entfernt werden, wobei die lichtempfindliche Schicht als glatte Fläche mit konstanter und regulierbarer Schichtstärke auf das Sieb direkt aufgebracht wird. Die vorliegende Erfindung betrifft eine Weiterentwicklung des Verfahrens nach dem Hauptpatent.
In dem Zusatzpatent Nr. 552 836 ist eine Weiterentwicklung des Verfahrens nach dem Hauptpatent beschrieben, bei welchem auf die auf dem Sieb aufgebrachte lichtempfindliche erste Schicht nach deren Belichtung und weiteren Verarbeitung mindestens eine weitere lichtempfindliche Schicht als glatte Fläche mit konstanter und regulierbarer Schichtstärke direkt aufgebracht wird.
Bei diesem Verfahren ist es demnach notwendig, vor Aufbringen der zweiten lichtempfindlichen Schicht die erste lichtempfindlicheSchicht zu belichten und weiterzuverarbeiten (Entwickeln,Härten). Es hat sich nun gezeigt, dass eine Vereinfachungdieses Verfahrens möglich ist, welche Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist.
Das Verfahren gemäss der Erfindung kennzeichnet sich dadurch, dass die auf dem Sieb aufgebrachte lichtempfindliche erste Schicht nach deren Belichtung ohne weitere Verarbei- tung mindestens eine weitere lichtempfindliche Schicht als glatte Fläche mit konstanter und regulierbarer Schichtstärke direkt aufgebracht wird.
Dadurch erreicht man, dass auf die Fertigstellung d. h. auf die Entwicklung und Härtung, sowie auf die Präparierung durch Füllen mit Füllmaterial und Schleifen der ersten lichtempfindlichen Schicht verzichtet und nach deren Belichtung gleich die zweite, beispielsweise mustergebende, Schablonenmaterialschicht aufgelegt werden kann, welches Vorgehen zu einer erheblichen Reduzierung der Fehlerquote sowie zu einer wesentlichen Einsparung an Arbeitszeit und Arbeitsmaterial führt und somit wesentlich kostengünstiger ist. Trotzdem ermöglicht man in gleicher Weise wie beim Verfahren nach dem Zusatzpatent Nr. 552 836 die Ausbildung einer zweckmässigen Druckschulter, jedoch in vereinfachter Weise, und zudem lässt sich der Farbdurchlass des Siebmaterials begrenzen.
Die Erfindung wird anhand der beiliegenden Figur nachstehend beschrieben. Die Figur zeigt in vereinfachter perspektivischer Darstellung eine Siebschablone, welche mit zwei lichtempfindlichen Schichten beschichtet ist, -on denen die zweite Schicht die mustergebende Schicht ist.
Anhand der Figur wird die Anwendung des Verfahrens bei der Herstellung einer Siebdruckform, beispielsweise für den Rotationsfilmdruck, dargestellt. Es wird hierbei von einem beliebig groben oder feinen Siebmaterial mit Siebstegen 1 und Sieböffnungen 2 ausgegangen, das mit einem Füllmaterial derart gefüllt wird, dass einerseits die Sieb- oder Rasterstege unbedeckt sind und andererseits das Füllmaterial und die Rasterstegoberfläche eine glatte Fläche bilden. Die Behandlung der Siebdruckform mit dem Füllmaterial ist im Hauptpatent im Detail beschrieben.
Sodann wird in einem zweiten Arbeitsgang auf das nunmehr eingeebnete Siebmaterial eine lichtempfindliche Schablonenmaterialschicht aufgetragen und getrocknet. Diese wird sodann über ein Diapositiv belichtet, das beispielsweise lediglich Linien zeigt (Linienraster-Diapositiv).
Im dritten Arbeitsgang wird auf die belichtete Schablonenmaterialschicht eine zweite lichtempfindliche Schablonenmaterialschicht 5 aufgetragen, die wegen der glatten Oberfläche der ersten Schicht ebenfalls eine glatte Oberfläche bildet.
Unter Verwendung eines Diapositivs, welches die eingentliche Mustergebung aufweist, wird nunmehr im vierten Arbeitsgang diese zweite lichtempfindliche Schicht 5 belichtet, wobei zwangsläufig auch alle diejenigen Partien der ersten lichtempfindlichen Schicht belichtet werden, die durch das mustergebende Diapositiv hindurch Licht erhalten und in der ersten Belichtung unbelichtet geblieben sind; die schon belichteten Partien dagegen werden durch die zweite Belichtung noch einmal belichtet, was bei Verwendung der bekannten, polymerisierbaren Fotoemulsionen keineswegs schadet.
Im letzten Arbeitsgang wird die gesamte Schablonenmaterialschicht entwickelt, gehärtet, sowie das Füllmaterial enfemt, worauf die Siebdruckform druckfertig ist.
Die Figur stellt eine solche Siebdruckform dar, die auf die vorstehend beschriebene Weise aufgebaut worden ist. Zusammenfassend ergibt sich:
1. Durch den Aufbau eines Linienrasters 3 kann der Farbdurchlass des Siebmaterials beliebig reduziert werden.
Dies deswegen, weil die Dimension der Linienstege 3, selbst über die Variation der Schichtstärke 6 der ersten lichtempfindlichen Schicht in Verbindung mit der Linienbreite bzw. -anzahl des zuerst verwendeten Diapositivs variiert werden kann.
2. Durch die Applikation einer zweiten lichtempfindlichen Schicht 5 beliebiger Stärke 7 auf der fertig belichteten ersten Schicht, wodurch eine Gesamtstärke 8 erreicht wird, wird eine Höhendifferenz 7 der zweiten lichtempfindlichen Schicht 5 gegenüber der ersten 3 mit der Schichtstärke 6 erreicht, was zu einer zweckmässigen Druckschulterausbildung 10 an den Figurenrändern führt.
3. Durch die Belichtung der zweiten Schicht 5 über das mustergebende Diapositiv werden auch alle Partien 9 der ersten lichtempfindlichen Schicht belichtet, die für einen Farbdurchlass von vornherein nicht vorgesehen sind. Durch diese Belichtung wird neben der Mustergebung ein sehr stabiler Verbund beider Schichten 4 untereinander sowie zum Siebmaterial erreicht, wodurch auch an den Überbrückungsstellen der Rasteröffnungen 2 eine gute Stabilität erreicht ist.
The claim of the main patent relates to a method for the photomechanical design of printing stencils for film and screen printing, in particular rotary film printing, in which a light-sensitive layer is exposed according to the print image and the unexposed areas are removed, the light-sensitive layer being a smooth surface with a constant and adjustable layer thickness the sieve is applied directly. The present invention relates to a further development of the method according to the main patent.
In the additional patent no. 552 836 a further development of the process according to the main patent is described, in which at least one further photosensitive layer is applied directly as a smooth surface with a constant and adjustable layer thickness on the photosensitive first layer applied to the screen after exposure and further processing .
In this method it is therefore necessary to expose the first photosensitive layer and to process it further (developing, hardening) before applying the second photosensitive layer. It has now been shown that a simplification of this method is possible, which is the subject of the present invention.
The method according to the invention is characterized in that the light-sensitive first layer applied to the screen is applied directly after exposure without further processing as a smooth surface with a constant and adjustable layer thickness.
This achieves that on completion d. H. the development and hardening, as well as the preparation by filling with filler material and grinding of the first photosensitive layer is dispensed with and after its exposure the second, for example patterning, stencil material layer can be applied immediately, which procedure leads to a considerable reduction in the error rate and significant savings leads to working hours and materials and is therefore much cheaper. Nevertheless, in the same way as with the method according to the additional patent no. 552 836, the formation of an appropriate pressure shoulder is made possible, but in a simplified manner, and the color passage of the screen material can also be limited.
The invention is described below with reference to the accompanying figure. The figure shows a simplified perspective illustration of a screen stencil which is coated with two light-sensitive layers, of which the second layer is the pattern-giving layer.
Using the figure, the application of the method in the production of a screen printing form, for example for rotary film printing, is shown. Any coarse or fine sieve material with sieve bars 1 and sieve openings 2 is assumed, which is filled with a filler material in such a way that, on the one hand, the sieve or grid bars are uncovered and, on the other hand, the filler material and the grid bar surface form a smooth surface. The treatment of the screen printing form with the filling material is described in detail in the main patent.
Then, in a second step, a light-sensitive stencil material layer is applied to the now leveled screen material and dried. This is then exposed via a slide which, for example, only shows lines (line grid slide).
In the third working step, a second photosensitive stencil material layer 5 is applied to the exposed stencil material layer, which layer also forms a smooth surface because of the smooth surface of the first layer.
Using a slide which has the actual patterning, this second photosensitive layer 5 is now exposed in the fourth operation, whereby all those parts of the first photosensitive layer that receive light through the patterning slide and are not exposed in the first exposure are also exposed have stayed; the areas that have already been exposed, on the other hand, are exposed again by the second exposure, which in no way harms when using the known, polymerizable photo emulsions.
In the last step, the entire stencil material layer is developed, hardened and the filler material removed, after which the screen printing form is ready for printing.
The figure shows such a screen printing form which has been built up in the manner described above. In summary:
1. By constructing a line grid 3, the color transmission of the screen material can be reduced as desired.
This is because the dimension of the line webs 3 can be varied even by varying the layer thickness 6 of the first light-sensitive layer in conjunction with the line width or number of the first slide used.
2. By applying a second photosensitive layer 5 of any thickness 7 on the finished exposed first layer, whereby a total thickness of 8 is achieved, a height difference 7 of the second photosensitive layer 5 compared to the first 3 with the layer thickness 6 is achieved, which makes a useful one Pressure shoulder training 10 leads to the edges of the figure.
3. By exposing the second layer 5 via the pattern-giving slide, all parts 9 of the first light-sensitive layer that are not intended for color transmission from the outset are also exposed. As a result of this exposure, in addition to the patterning, a very stable bond between the two layers 4 with one another and with the screen material is achieved, as a result of which good stability is also achieved at the bridging points of the grid openings 2.