MX2008012426A - Superficies modificadas y metodo para modificar una superficie. - Google Patents
Superficies modificadas y metodo para modificar una superficie.Info
- Publication number
- MX2008012426A MX2008012426A MX2008012426A MX2008012426A MX2008012426A MX 2008012426 A MX2008012426 A MX 2008012426A MX 2008012426 A MX2008012426 A MX 2008012426A MX 2008012426 A MX2008012426 A MX 2008012426A MX 2008012426 A MX2008012426 A MX 2008012426A
- Authority
- MX
- Mexico
- Prior art keywords
- substrate
- oxide particles
- inorganic oxide
- particles
- nanoscale inorganic
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 121
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 94
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 52
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 42
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 38
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 37
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 20
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 claims description 14
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 13
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 12
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 10
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 10
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 9
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 7
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 6
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 5
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 5
- 239000004816 latex Substances 0.000 claims description 5
- 229920000126 latex Polymers 0.000 claims description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 claims description 4
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 2
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 claims description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 claims 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 claims 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 71
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 27
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Inorganic materials [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 18
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 18
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 15
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 13
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 7
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 7
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 4
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 4
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001963 alkali metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N calcium nitrate Chemical compound [Ca+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 2
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000000703 Cerium Chemical class 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002544 Olefin fiber Polymers 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXLFVPUOFWMZAR-UHFFFAOYSA-N acetic acid cyanic acid Chemical compound OC#N.CC(O)=O PXLFVPUOFWMZAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229930013930 alkaloid Natural products 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVARTQFDIMZBAA-UHFFFAOYSA-O ammonium nitrate Chemical class [NH4+].[O-][N+]([O-])=O DVARTQFDIMZBAA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L barium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ba+2] WDIHJSXYQDMJHN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001626 barium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 235000012206 bottled water Nutrition 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001622 calcium bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L calcium dibromide Chemical compound [Ca+2].[Br-].[Br-] WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPQBNJRIWONKBL-UHFFFAOYSA-N cerium(3+);oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical class [O-2].[Zr+4].[Ce+3] WPQBNJRIWONKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000002322 conducting polymer Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 230000001687 destabilization Effects 0.000 description 1
- 230000000368 destabilizing effect Effects 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N dimethylformamide Substances CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 1
- 238000012377 drug delivery Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000009881 electrostatic interaction Effects 0.000 description 1
- 238000010336 energy treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium oxide Inorganic materials O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003703 image analysis method Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000000678 plasma activation Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000301 poly(3-hexylthiophene-2,5-diyl) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical class [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-I triphosphate(5-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/06—Coating with compositions not containing macromolecular substances
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/02—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/14—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to metal, e.g. car bodies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/056—Forming hydrophilic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1216—Metal oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1229—Composition of the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
- C23C18/1254—Sol or sol-gel processing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/125—Process of deposition of the inorganic material
- C23C18/1262—Process of deposition of the inorganic material involving particles, e.g. carbon nanotubes [CNT], flakes
- C23C18/127—Preformed particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/10—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by other chemical means
- B05D3/101—Pretreatment of polymeric substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/10—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by other chemical means
- B05D3/102—Pretreatment of metallic substrates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
- B05D5/04—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures to obtain a surface receptive to ink or other liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/50—Multilayers
- B05D7/51—One specific pretreatment, e.g. phosphatation, chromatation, in combination with one specific coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/0041—Digital printing on surfaces other than ordinary paper
- B41M5/0047—Digital printing on surfaces other than ordinary paper by ink-jet printing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
- B41M5/52—Macromolecular coatings
- B41M5/5218—Macromolecular coatings characterised by inorganic additives, e.g. pigments, clays
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2323/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers
- C08J2323/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers not modified by chemical after treatment
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
- Y10T428/31692—Next to addition polymer from unsaturated monomers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Un sustrato modificado de superficie incluye un sustrato que tiene una superficie y una capa de partículas de óxido inorgánico de nanoescala dispuestas sobre por lo menos una porción de la superficie.
Description
SUPERFICIES MODIFICADAS Y MÉTODO PARA MODIFICAR UNA SUPERFICIE Campo de la Invención Esta invención se relaciona a superficies modificadas y a un método para modificar una superficie. Antecedentes de la Invención Algunos materiales, particularmente polímeros y cerámicas, se utilizan en aplicaciones donde las interacciones entre sus superficies con otros materiales son importantes. Las propiedades químicas y físicas de la superficie son de principal importancia en muchas aplicaciones, tales como catálisis y suministro de fármaco, y pueden ser un factor importante en muchas consideraciones de diseño de ingeniería, tal como adhesión. Existen técnicas conocidas, tales como el tratamiento de plasma y descarga de corona para modificar las propiedades químicas y/o físicas de la superficie de un sustrato. Sin embargo, en muchos casos, tal como la modificación de superficies de polímero, los efectos de tratamientos de alta energía tienden a disiparse con el tiempo y la modificación de superficie impartida de esta manera es de durabilidad limitada. Por consiguiente, hay una necesidad de técnicas de modificación de superficie más durables. Breve Descripción de la Invención En un primero aspecto, la presente invención se
dirige a un sustrato modificado de superficie, que comprende un sustrato que tiene una superficie y una capa de partículas de óxido inorgánico de nanoescala dispuestas sobre por lo menos una porción de la superficie. En un segundo aspecto, la presente invención se dirige a un método para modificar la superficie de un sustrato, que comprende tratar por lo menos una porción de tal superficie con una suspensión de partículas de óxido inorgánico de nanoescala para depositar una cantidad de tales partículas sobre tal porción de tal superficie. Breve Descripción de los Dibujos La FIGURA 1 muestra una comparación, después de enjuagar con agua, de imágenes impresas sobre dos sustratos de poli(etilen tereftalato) , es decir, un primer sustrato que se ha tratado con una suspensión de partículas de óxido inorgánico de nanoescala antes de la impresión ("Tratado") , y un segundo sustrato que no se ha tratado con una suspensión de partículas de óxido inorgánico de nanoescala antes de la impresión ("No tratado") . La FIGURA 2 muestra una gráfica de la concentración de partículas de óxido de cerio adsorbidas contra el tiempo de contacto con dos soles de nanopart í culas de óxido de cerio, un primer sol que contuvo NaN03 0.03 M y un segundo sol que careció del componente NaNC>3. Descripción Detallada de la Invención
El proceso de modificación de la presente invención no es sensitivo a las propiedades químicas y físicas de la superficie del sustrato y el sustrato de la presente invención puede ser cualquier material sólido. En una modalidad, el sustrato es un polímero orgánico, un polímero de organosilicio, una cerámica, un metal, un material compuesto o un material inorgánico diferente a una cerámica o metal. Los polímeros orgánicos adecuados incluyen homopolímeros , copolímeros aleatorios, copolímeros de bloque y mezclas de polímero tales como poliolefinas , tales como polietileno, polipropileno y poliestireno, poliacrilatos , tales como polimetilmetacrilato, polímeros halogenados, tales como politetrafluoroetileno, polímeros de conducción tales como poliacetilenos , polipirroles , politiofenos, polianilinas , polifluorenos , poli ( 3-hexiltiofeno) , polinaftálenos , poli (sulfuro de p-fenileno) , poli (para-fenilen vinileno)s, plásticos de ingeniería tales como poliamidas, poli (éter cetonas), poliimidas, policarbonatos , poliésteres y poliuretanos . Los polímeros de organosilicio adecuados incluyen, por ejemplo, polidimetilsiloxano . Las cerámicas adecuadas incluyen, por ejemplo, alúmina, zirconia, sílice, carburo de silicona, nitruro de silicio. Los metales adecuados incluyen cromo, aluminio, hierro, níquel, cobre, platino, paladio, oro y aleaciones de los metales anteriores. Los materiales
compuestos adecuados incluyen, por ejemplo, polímeros reforzados con fibra o partículas, tales como caucho de etileno propileno dieno rellenado con sílice, materiales compuestos de polímero con nanotubo de carbón y polímeros rellenados con metal particulado. Los sustratos adicionales también incluyen materiales tales como vidrio fusionado, cuarzo, fluoruro de calcio, mica, silicio, germanio y óxido de estaño de indio. El sustrato puede ser de cualquier configuración física, tal como un artículo formado, que incluye por ejemplo, fibras, láminas planas o formadas, tubos huecos, esferas o como una capa, la cual puede ser continua o discontinua, soportada sobre un segundo sustrato. En una modalidad, la superficie del sustrato tiene una rugosidad de superficie cuadrada media de raíz ("RMS") de menos de aproximadamente 200 nm, más típicamente de aproximadamente 100 a aproximadamente 200 nm. En una modalidad el sustrato tiene una aspereza de superficie RMS de menos de aproximadamente 10 nm, más típicamente menos de aproximadamente 2 nm. Como se utiliza en la presente la terminología "partícula primaria" significa una partícula discreta individual y la terminología "partícula secundaria" significa un aglomerado de dos o más partículas primarias. Una referencia a "partículas" que no específica "primaria" o
"secundaria" significa partículas primarias, o partícula secundaria, o partículas primarias y partículas secundarias. Como se utiliza en la presente, el término "nanoescala" en referencia a partículas sicjnifica que las partículas tienen un diámetro de partícula medio ("D5o") de aproximadamente 1 a aproximadamente 1000 manómetros ("nm") . En una modalidad, las partículas primarias de nanoescala tienen una D50 de aproximadamente 5 a aproximadamente 1000 nm, aun más típicamente de aproximadamente 10 a aproximadamente 800 nm, y aun más típicamente de aproximadamente 20 a aproximadamente 500 nm. En una modalidad, las partículas primarias de nanoescala tienen una D50 de aproximadamente 1 a aproximadamente 500 nm, aun más típicamente de aproximadamente 1 a aproximadamente 100 nm, y aun más típicamente de aproximadamente 1 a aproximadamente 50 nm. El tamaño de partícula se puede determinar utilizando dispersión ligera dinámica. Los óxidos inorgánicos adecuados incluyen óxidos de elementos individuales, tales como as óxido de cerio, óxido de titanio, óxido de zirconio, óxido de halfnio, óxido de tántalo, óxido de tungsteno y óxido de bismuto, óxido de zinc, óxido de indio y óxido de estaño, óxido de hierro y mezclas de tales óxidos, así como óxidos de mezclas de tales elementos, tales como óxidos de cerio-zirconio . Las partículas de óxido inorgánico además pueden
comprender iones enlazados o absorbidos, tales como, por ejemplo, iones de metal, iones de nitrato. En una modalidad, el óxido inorgánico es un sólido cristalino. Más típicamente, los soles acuosos de las partículas del óxido inorgánico son estabilizados por cargas electrostáticas y/o fuerzas hidrostáticas y sometidas a la desestabilización mediante perturbaciones de pH, resistencia iónica y concentración. Tales óxidos inorgánicos son típicamente sintetizados bajo condiciones de reacción altamente acídicas o altamente básicas. En una modalidad, el óxido inorgánico se selecciona de óxido de hierro, óxido de zirconio y óxido de cerio. Más típicamente, el óxido inorgánico es óxido de cerio. Métodos para elaborar partículas de óxido inorgánico adecuados son conocidos, tales como técnicas de sol-gel, hidrólisis directa o alcaloides de metal mediante adición de agua, hidrólisis forzada o sales de metal o mediante reacción de alcóxidos de metal con haluros de metal. En una modalidad, las partículas de óxido inorgánico de nanoescala son hechas mediante la precipitación de una sal de cerio. En una modalidad, las partículas de óxido inorgánico de nanoescala inicialmente están presentes en la forma de un sol, también llamada "suspensión", de tales partículas dispersadas en un medio acuoso. Típicamente, el
medio acuoso comprende por lo menos 40% en peso, más típicamente por lo menos 50% en peso de agua y aun más típicamente por lo menos 60% en peso de agua. En una modalidad, el medio acuoso consiste esencialmente de agua. El medio acuoso opcionalmente además puede comprender uno o más líquidos orgánicos miscibles en agua, tal como por ejemplo, tet rahidrofurano , N, -dimetilformamida, acetonitrilo, acetona, alcanoles de (Ci-Cs) tales como metanol, etanol, 2-propanol y dioles tales como etilenglicol o propilenglicol . En una modalidad, el medio acuoso del sol comprende, basado en 100 partes en peso ("pbw") de tal medio acuoso, de aproximadamente 0 a aproximadamente 100 pbw, más típicamente de aproximadamente 40 a aproximadamente 100 pbw y aun más típicamente de aproximadamente 50 a aproximadamente 100 pbw de agua, y de 0 a aproximadamente 90 pbw, más típicamente de 0 a aproximadamente 60 pbw, y aun más típicamente de aproximadamente 0 a aproximadamente 50 pbw, de uno o más líquidos orgánicos miscibles en agua. El sol exhibe, por lo menos inicialmente , un pH efectivo para proporcionar un sol estable, es decir, un sol en donde las partículas de óxido inorgánico de nanoescala tienden a permanecer dispersadas en el medio acuso. En una modalidad, la suspensión de partícula de óxido inorgánico de nanoescala es una suspensión estable que comprende partículas de óxido de cerio de nanoescala e exhiben un pH de menos que
o igual a aproximadamente 2. En otra modalidad, la suspensión de partícula de óxido inorgánico de nanoescala es una suspensión estable que comprende partículas de óxido de silicio de nanoescala e exhiben un pH de aproximadamente 7.5 a aproximadamente 8.5. En una modalidad, las partículas de óxido inorgánico de nanoescala son depositadas sobre una superficie del sustrato al poner en contacto la superficie con un sol de partícula de óxido inorgánico de nanoescala estable y luego ajusfar el pH del sol para desestabilizar el sol y causar precipitación de las partículas de óxido inorgánico de nanoescala del sol sobre la superficie. En una modalidad, el sol comprende, basado en el peso total del sol, de mayor que 0 a aproximadamente 10 por ciento en peso (% en peso"), más típicamente de aproximadamente 0.01 a aproximadamente 5 por ciento en peso de partícula de óxido inorgánico de nanoescala. En una modalidad, el sol comprende de aproximadamente 0.01 a aproximadamente 1.0% en peso, y aun más típicamente de aproximadamente 0.01 a aproximadamente 0.5% en peso, de partículas de óxido inorgánico de nanoescala. En una modalidad, el pH del sol estable es inicialmente menor que o igual a aproximadamente 2, más típicamente menor que o igual a aproximadamente 1.5, y se ajusta a un valor de aproximadamente 3 a aproximadamente 14,
más típicamente de aproximadamente 4 a aproximadamente 12, y aun más típicamente de aproximadamente 5 a aproximadamente 8, para precipitar las partículas inorgánicas de nanoescala del sol . En una modalidad, el pH del sol estable es inicialmente mayor que o igual a aproximadamente 10, más típicamente mayor que o igual a aproximadamente 11, y se ajusta a un valor de aproximadamente 1 a aproximadamente 9, más típicamente de aproximadamente 4 a aproximadamente 9, y aun más típicamente de aproximadamente 5 a aproximadamente 8, para precipitar las partículas inorgánicas de nanoescala del sol . En una modalidad, el medio acuoso del sol además comprende un electrolito disuelto, en una cantidad efectiva para estimular la deposición de las partículas del sol sobre la superficie del sustrato sin desestabilizar el sol. Mientras que no se desea ser encontrado por la teoría, se cree que la presencia del electrolito reduce las interacciones electrostáticas entre las partículas de óxido inorgánico de nanoescala del sol y prevenir la acumulación de una carga electrostática como partículas de óxido inorgánico de nanoescala depositadas del sol sobre la superficie del sustrato. En una modalidad, la cantidad efectiva de electrolito es de mayor que 0 a aproximadamente 1 pbw, más típicamente de aproximadamente 0.01 a aproximadamente 0.1 pbw
de electrolito, por 100 pbw del medio acuoso, es decir, de la cantidad combinada del agua y cualquiera de los componentes liquido orgánicos miscibles en agua del sol. Los electrolitos adecuados son aquellos que no desestabilizan el sol cuando está presente en una cantidad efectiva para estimular la deposición de las partículas del sol sobre la superficie del sustrato e incluyen sales orgánicas, sales inorgánicas y mezclas de los mismos. El electrolito típicamente comprende una sal que tiene un componente catiónico y un componente aniónico. Los cationes adecuados pueden ser monovalentes o multivalent.es, pueden ser orgánicos o inorgánicos, e incluyen, por ejemplo, cationes de sodio, potasio, litio, calcio, magnesio, cesio y litio, así como catión de amonio o piridino mono-, di- tri- o cuaternario. Los aniones adecuados pueden ser un monovalente o multivalente , pueden ser orgánicos o inorgánicos, e incluyen, por ejemplo, aniones de cloruro, sulfato, nitrato, nitrito, carbonato, citrato, acetato de cianato, benzoato, tartarato, oxalato, fosfato y fosfonato. Los electrolitos adecuados incluyen, por ejemplo, sales de aniones multivalentes con cationes monovalentes, tales como sales de pirofosfato de potasio, tripolifosfato de potasio y citrato de sodio, de cationes multivalentes con aniones monovalentes, tales como cloruro de calcio, bromuro de calcio, haluros de zinc, cloruro de bario y nitrato de calcio y sales de
cationes monovalentes con aniones monovalentes, tales como cloruro de sodio, cloruro de potasio, yoduro de potasio, bromuro de sodio, bromuro de amonio, nitratos de metal alcalinos y nitratos de amonio. En una modalidad, el electrolito comprende una o más de sales de aniones multivalentes con cationes monovalentes y cationes monovalentes con aniones monovalentes . En una modalidad, el electrolito comprende un componente catiónico monovalente y un componente aniónico monovalente o multivalente . En una modalidad, el electrolito comprende una sal de nitrato. Las sales de nitrato adecuadas incluyen sales de nitrato de metal alcalinas, tales como nitrato de sodio y nitrato de potasio, asi como nitrato de amonio o una mezclas de los mismos. En una modalidad, el sol de partícula de óxido inorgánico de nanoescala estable que contiene un electrolito y partículas inorgánicas de nanoescala se depositan del sol sobre una superficie de un sustrato al poner en contacto la superficie con el sol de partícula de óxido inorgánico de nanoescala que contiene electrolito estable. En una modalidad, el sol es un sol de partícula de óxido de cerio de nanoescala que contiene electrolito estable y exhibe un pH que es menor que o igual a aproximadamente 2, más típicamente menor que o igual a aproximadamente 1.5.
La superficie del sustrato se pone en contacto con el sol de partícula de óxido inorgánico de nanoescala que contiene electrolito estable y la superficie es subsecuentemente enjuagada en una solución de enjuague acuosa . En una modalidad, la superficie del sustrato se pone en contacto con el sol al sumergir el sustrato en el sol . La superficie del sustrato se pone en contacto con el sol durante un período de tiempo efectivo para permitir la deposición de una cantidad de partículas de óxido inorgánico de nanoescala del sol sobre por lo menos una porción de la superficie del sustrato. Para un sol dado, el tiempo de contacto más largo típicamente da por resultado la deposición de una mayor cantidad de partículas del sol sobre la superficie del sustrato. En una modalidad, suficiente tiempo de contacto es cualquier tiempo mayor que 0 segundos, más típicamente de mayor que 0 segundos a aproximadamente 100 horas. En una modalidad, el tiempo de contacto es de mayor que 0 segundos a aproximadamente 24 horas, más típicamente de mayor que o igual a aproximadamente 1 segundo a aproximadamente 5 horas y aun más típicamente de aproximadamente 10 segundos a aproximadamente 1 hora. En general, el período de tiempo entre el contacto discontinuo de la superficie tratada con el sol y enjuagar la
superficie tratada no es critica. En una modalidad, la superficie tratada se enjuaga para remover cualquiera de las partículas de óxido inorgánico de nonoescala pobremente adheridas de la superficie tratada. Típicamente, el contacto de la superficie con el sol es discontinua y la superficie se enjuaga con solución de enjuague acuoso inmediatamente o sustancialmente inmediatamente después del contacto de la superficie con el sol es discontinua. Opcionalmente , la superficie tratada se puede dejar secar durante el período de tiempo después del contacto de la superficie con el sol es discontinua y antes del enjuague. La solución de enjuague acuoso comprende agua y puede además, opcionalmente, comprender hasta aproximadamente 70% en peso, más típicamente hasta aproximadamente 30% en peso, de un líquido orgánico miscible en agua. En una modalidad, la solución de enjuague además comprende un electrolito en una cantidad efectiva para desfavorecer la desorción de las partículas de óxido inorgánico de nonoescala depositadas de la superficie tratada, que es típicamente de mayor que 0 a aproximadamente 1% en peso, más típicamente de aproximadamente 0.01% en peso a aproximadamente 0.1% en peso de un electrolito. El pH de la solución de enjuague no es crítico. En una modalidad, en donde las partículas de óxido inorgánico de nanoescala del sol son partículas de óxido de cerio de
nanoescala, la solución de enjuague exhibe un pH de mayor que o igual a 7, más típicamente, de 7 a aproximadamente 12 y es más típicamente de aproximadamente 10 a aproximadamente 12. En una modalidad, la capa de partículas de nanoescala sobre la superficie es una monocapa . Como se utiliza en la presente en referencia a las partículas inorgánicas de nanoescala, el término "monocapa" significa una capa que es grosor de partícula: En una modalidad, la capa de partículas de nanoescala sobre la superficie hidrofóbica es una capa discontinua de partículas. Como se utiliza en la presente en referencia a una capa de partículas, el término "discontinuo" significa que la capa incluye regiones de espacio vacío definido entre partículas discretas y/o entre regiones de más partículas estrechamente empacadas. En una modalidad, la capa de partículas de nanoescala sobre la superficie hidrofóbica es una capa por lo menos sustancialmente continua de partículas. Como se utiliza en la presente en referencia a una monocapa de partículas, el término "continua" significa que las partículas de la capa son estrechamente empacadas de modo que una partícula típica de la capa es sustancialmente circundada por y en contacto con otras partículas de la capa. En una modalidad, el sustrato que contiene las partículas inorgánicas depositadas se pueden endurecer por
periodos prolongados de tiempo a temperaturas entre 298°K y 773°K, más típicamente entre 298°K y 473°K y aun más típicamente entre 298°K y 298°K en un ambiente que puede o no puede ser saturado con vapor de agua. Las partículas de óxido inorgánico pueden comprender grupos hidroxilo de superficie disponibles a someterse a la condensación con grupos hidroxilo de partículas adyacentes de la capa para formar enlaces covalentes entre tales partículas. En una modalidad, la capa de partículas de nanoescala sobre la superficie es una monocapa de por lo menos sustancialmente continua de partículas, en donde una partícula típica de la capa es sustancialmente circundada por, en contacto con, y enlazada a otras partículas de la monocapa . La capa de partículas de óxido inorgánico de nanoescala modifica las propiedades químicas y/o físicas, por ejemplo, la reactividad química y/o la energía de superficie, del sustrato modificado de superficie de la presente invención . En una modalidad, el sustrato modificado de superficie es un sustrato hidrofilizado, que comprende un sustrato inicialmente que tiene una superficie hidrofóbica y una capa de partículas de óxido inorgánico de nanoescala dispuestas sobre por lo menos una porción de tal superficie
hidrofóbica en una cantidad efectiva para incrementar la hidrofilicidad de tal porción de tal superficie hidrofóbica. Como se utiliza en la presente, "superficie hidrofóbica" significa una superficie que exhibe una tendencia para repeler el agua y para de esta manera resistir ser humedad al agua, como evidencia por un ángulo de contacto con agua de mayor que o igual a 70°, más típicamente mayor que o igual a 90°, "superficie hidrofílica" significa una superficie que exhibe una afinidad para el agua y para de esta manera ser humectable al agua, como evidencia por un ángulo de contacto con agua de menor de 70°, más típicamente menos de 60°, y aun más típicamente menos de 20° e "hidrofilización" una superficie hidrofóbica significa hacer la superficie más hidrofílica y de esta manera menos hidrofóbica, como es indicado por un ángulo de contacto de retroceso con agua, en donde en cada caso, el ángulo de contacto con agua se mide por un método de análisis de imagen convencional, es decir, al disponer una gotita de agua sobre la superficie, típicamente una superficie sustancialmente plana, a 25°C, fotografiar la gotita y medir el ángulo de contacto mostrado en la imagen fotográfica. Una indicación de hidrofilicidad incrementada de una superficie hidrofóbica tratada es un ángulo de contacto de retroceso de gotitas de agua con una superficie tratada comparada con el ángulo de contacto de gotitas de agua con
una superficie sin tratar. El ángulo de contacto de gotita de agua se complica con respecto a una fibra típica debido a la configuración de superficie de la fibra, la cual es debido a la falta de una superficie sustancialmente plana. Una medición de ángulo de contacto de gotita de agua que es representativa de la superficie de la fibra puede ser convenientemente hecha utilizando una lámina plana o cupón de muestra del material mismo como la fibra de interés. Típicamente, la superficie tratada exhibe un ángulo de contacto de gotita de agua de menos de 70°, más típicamente menos de 60°, aun más típicamente, menos de 45°. En una modalidad, un sustrato hidrofóbica sin tratar que tiene un ángulo de contacto de agua de avance (0a) de mayor que o igual a aproximadamente 70°, más típicamente mayor que o igual a 80° y después de la modificación de superficie de acuerdo con la presente invención exhibe un ángulo de contacto de agua de avance (Ga) de menos de o igual a aproximadamente 40°, más típicamente menos de o igual a aproximadamente 20° y un ángulo de contacto de agua de retroceso (TG) de menos de o igual a aproximadamente 60°, más típicamente menos de o igual a aproximadamente 45°. Las propiedades hidrofílicas impartidas mediante la modificación de superficie de acuerdo con la presente invención son sustratos muy durables e hidrofílicamente modificados de acuerdo con la presente invención mantener una
9a de menos de 45° y una 9r de menos de 20° después del tratamiento. Esto es en contraste para la recuperación hidrofóbica de la región amorfa para polímeros tales como polipropileno que es típicamente visto después de tratamientos clásicos, tal como funcionali zación de plasma y volumen. La capa de óxido orgánico del sustrato modificado de superficie de la capa de la presente invención actúa como si fuertemente se sujetara a la superficie subyacente y reticulada en el plano de la capa de óxido, aparentemente impidiendo cualquier reorganización de minimización-inducida de energía libre de la superficie subyacente. Los sustratos adecuados que tienen superficies hidrofóbicas incluyen sustratos de poli olefina, tales como polietileno, polipropileno y poliestireno, sustratos de poliacrilato, tales como polimetilmetacrilato , sustratos de polímero halogenados , tales como politetrafluroetileno y sustratos de polímero de organosilicio tal como polidimetilsiloxano . En una modalidad, el sustrato es una lámina de poliolefina o artículo de poliolefina formado, tal como, por ejemplo, un componente de un automóvil. En una modalidad, el sustrato modificado de superficie se recubre con recubrimiento sostenido de agua, tal como un recubrimiento de látex de vinilo o un recubrimiento de látex de acrílico y la capa de partículas de
óxido inorgánico de nanoescala permite la aplicación de una capa continua de recubrimiento sostenida de agua sobre la superficie hidrofóbica del sustrato y típicamente mejora la adhesión del recubrimiento del sustrato. En una modalidad, el sustrato comprende un sustrato fabricado que comprende una pluralidad de fibras. Como se utiliza en la presente, el término "fibra" significa un artículo generalmente alargado que tiene una dimensión longitudinal característica, típicamente una "longitud", y una dimensión transversal característica, típicamente un "diámetro" o un "ancho", en donde la relación de la dimensión longitudinal característica a la dimensión transversal característica es mayor que o igual a aproximadamente 50, más típicamente mayor que o igual a aproximadamente 100. Las fibras adecuadas son aquellas que tienen una superficie hidrofóbica y son típicamente fibras poliméricas sintéticas hidrofóbicas , tales como fibras de poliacrilonitrilo, fibras de poli ( etilentereftalato ) y fibras de poli ( olefina ) , tales como, por ejemplo, fibras de poli (etileno) o fibras de poli (propileno) . En una modalidad, el sustrato modificado de superficie de la presente invención exhibe actividad incrementada que comprende un sustrato inicialmente que tiene una superficie relativa químicamente inerte y una capa de partículas de óxido inorgánico de nanoescala dispuestas sobre
por lo menos una porción de tal superficie en una cantidad efectiva para incrementar la reactividad químicamente de tal porción de tal superficie. Por ejemplo, la capa de partículas de óxido inorgánico de nanoescala dispuestas sobre por lo menos una porción de la superficie del sustrato relativamente inerte introduce grupos funcionales hidroxilo reactivos sobre la superficie. En una modalidad, el sustrato modificado de superficie se recubre con una capa de un recubrimiento orgánico, tal como un adhesivo o un recubrimiento basado en solvente orgánico y la capa de partículas de óxido inorgánico de nanoescala mejora la adhesión de la capa orgánica al sustrato . Ejemplo 1 Obleas de silicio delgadas (de Wafer World Inc, 1 lado pulido, (100) se recubren con una capa de óxido de silicio nativo (SiC2) de aproximadamente 2 nm (mediante elipsometría ) . El sustrato se sumergió en un sol acuoso al 0.1% en peso de partículas de óxido de cerio de nanoescala a pH aproximadamente igual a 1.5 durante 10 minutos. Las partículas de óxido de cerio del sol exhibieron un tamaño de partícula promedio de aproximadamente 10 nanómetros mediante la medición de dispersión de luz dinámica. El pH luego se incrementó a pH aproximadamente igual a 10 mediante la adición de NH4OH. El sustrato luego se enjuagó completamente
con agua desionizada pura para remover cualquier material no adsorbido. El sustrato luego se secó bajo flujo de nitrógeno y los ángulos de contacto se midieron. Los ángulos de contacto de avance (6a) fueron alrededor de 45°. Los ángulos de contacto de retroceso (TG) estuvieron por debajo de 15-20°. La AFM (microscopía de fuerza atómica) y las mediciones de elipsometría han mostrado que la capa de hecho fue una monocapa homogénea de nanoceria (espesor de aproximadamente igual a 6-10 nm) . Después de 1 mes, los ángulos de contacto permanecieron los mismos ((9a aproximadamente igual a 45°, 0r aproximadamente igual a 15-20°) . Ejemplo 2 El poliestireno es un polímero amorfo, vidrioso (Tg ~ 100°C) e hidrofóbico (0a = 90°) . El recubrimiento de giro se utilizó para obtener una capa de poliestireno de modelo liso (RMS de aproximadamente igual a 1 nm sobre el área lxl m2) de una solución orgánica (2.5% en peso en tolueno) sobre una oblea de silicio. El espesor final fue aproximadamente 100 nm. Las muestras de sustrato recubiertas de poliestireno se trataron con nanoceria de acuerdo con el mismo procedimiento como es descrito anteriormente en el Ejemplo 1. Los ángulos de contacto de Avance (9a) fueron
alrededor de 45°. Los ángulos de contacto de retroceso (9r) estuvieron por debajo de 15-20. Las mediciones de AFM han mostrado que la capa de hecho fue una monocapa homogénea de nanoceria (espesor de aproximadamente igual a 6-10 nm) . Después de 1 mes, los ángulos de contacto permanecieron los mismos ( (9a aproximadamente igual a 45°, 9r aproximadamente igual a 15-20° ) . Ejemplo 3 El polipropileno es un polímero semi-cristalino, elástico (Tg de aproximadamente igual a -20°C) e hidrofóbico (9a = 105°) . El recubrimiento de giro se utilizó para obtener una capa de polipropileno de modelo liso (RMS de aproximadamente igual a 2 nm sobre el área lxl im2) de una solución orgánica (2.5% en peso en xileno caliente) sobre una oblea de silicio. El espesor final fue 100 nm. Las muestras de sustrato recubiertas con polipropileno se trataron con nanoceria de acuerdo con el mismo procedimiento como es descrito anteriormente en el Ej emplo 1. Los ángulos de contacto de avance (9a) fueron de alrededor de 45°. Los ángulos de contacto de retroceso (9r) estuvieron por debajo de 15-20°. Las mediciones de AFM han mostrado que la capa de hecho fue una monocapa homogénea de nanoceria (espesor de aproximadamente igual a 6-10 nm) . Después de 1 mes, los ángulos de contacto permanecieron los
mismos (6a de aproximadamente igual a 45°, 0r de aproximadamente igual a 15-20°). Ejemplo 4 Los sustratos modificados de la superficie de acuerdo con el Ejemplo 1 se empaparon durante la noche en cada una de las tres diferentes soluciones ele organosilano respectivas (octadeciltriclorosilano al 99.9% (ALDRICH) , heptadecafluoro-1 , 1, 2, 2-tetrahidrodecil-dimetilclorosilano (GELEST Inc) y n-octiltrimetoxisilano (GELEST Inc) . , cada uno de 1.7% en peso en hexano) . En cada caso, después de un enjuague completo en hexano caliente para la obtención de moléculas no quimiosorbidas , se midieron los ángulos de contacto. Los ángulos de contacto de avance (?3) después de cada uno de los tres tratamientos con silano fueron mayores que 105°, mostrando similarmente una reacción entre las moléculas de silano y los grupos hidroxilo presentes sobre la superficie de monocapa de ceria. Ejemplo 5 El etanol puro (pH de aproximadamente igual a 9.8) se acidificó al adicionar HN03 a un pH de aproximadamente igual a 1.5. Un sol al 1% en peso de partículas de óxido de cerio de nanoscala dispersadas en agua (pH de aproximadamente igual a 1.5) se diluyó con la solución de etanol previa para conseguir un sol 50:50 V:V a una concentración de partícula
de óxido de cerio de 0.1% en peso. Las partículas de óxido de cerio del sol exhibieron un tamaño de partícula promedio de aproximadamente 10 nanómetros mediante la medición de dispersión de luz dinámica. Tal sol tiene una tensión de superficie de aproximadamente 30 miliNe tons por metro (mN/m) (agua pura que es aproximadamente 72 mN/m) . Las láminas de polietileno (2 cm x 1 cm x 1 mm) se sumergieron en el sol (debido a que el polietileno tiene una tensión de superficie crítica yc de aproximadamente 32 mn/m, la solución completamente humedece el sustrato) y de retroceso después de 10 segundos y luego inmediatamente sumergirla en agua desionizada pura (pH de aproximadamente igual a 6) para precipitar el sol. El sustrato luego se enjuagó meticulosamente y se secó bajo flujo de nitrógeno. Los ángulos de contacto fueron medidos el día siguiente. Los ángulos de contacto de avance (0a) fueron aproximadamente 45°. Los ángulos de contacto de retroceso (TG) estuvieron por debajo de 15-20°. Ejemplo 6 Un sol al 0.1% en peso de partículas de óxido de cerio de nanoescala dispersadas en agua desionizada se preparó y se acidificó a pH 1.5 con ácido nítrico. Las partículas de óxido de cerio del sol exhibieron un tamaño de partícula promedio de aproximadamente 10 nanómetros mediante la medición de dispersión de luz dinámica. Las placas de
muestra de poliestireno se trataron al sumergir las placas en la dispersión durante 10 minutos. El pH luego se incrementó a 9 al adicionar NH4OH. Después de 10 minutos de agitación, las placas de muestra se removieron y se enjuagaron con agua desionizada a pH 1.5. Después del secado, se probó la hidrofilicidad de las superficies tratadas de las placas. Las placas tratadas se limpiaron con alcohol isopropilico y las placas húmedas luego se colocaron verticalmente y se rociaron con agua potable con una botella rociadora. Cada dos rocíos se contaron como 1 ciclo de enjuague. La prueba concluiría cuando ya sea 70% de la loseta empezaría a formar cuentas (de regreso a la hidrofobicidad) o 20 ciclos de laminación de agua . Las placas tratadas mostraron bastante hidrofilización duradera. Aunque el laminado de agua no fue aun (las cavidades de cuentas de agua estuvieron siempre presentes), las áreas que fueron hidrofílicas permanecieron hidrofílicas aun bajo enjuagues ásperos a 7.5 L/min. Ejemplo 7 Un sol al 0.1% en peso de partículas de óxido de cerio de nanoescala dispersadas en agua desionizada se preparó y se acidificó a pH 1.5 con ácido nítrico. Las partículas de óxido de cerio del sol exhibieron un tamaño de partícula promedio de aproximadamente 10 nanó etros mediante
la medición de dispersión de luz dinámica. La solución además se modificó mediante la adición de nitrato de sodio 0.1 M. La adición de sal no cambió la dispersabilidad de las nanopart iculas . Las placas de muestra de polipropileno se trataron al sumergir las placas en la dispersión durante 5 minutos. Estas placas luego se removieron de la solución y se enjuagaron en agua desionizada cuyo pH se ajustó a 11 al adicionar NH4OH. Después enjuagar el sustrato se secó con aire y la hidrof ilicidad de las superficies tratadas de las placas se probó utilizando mediciones de ángulo de contacto. Los ángulos de contacto de avance (0a) fueron aproximadamente 101°. Los ángulos de contacto de retroceso (9r) estuvieron por debajo de 26°. Ejemplo 8 En una primera etapa, las superficies resbaladizas de poli(etilen tereftalato) (PET) se sumergieron en un sol al 0.1% en peso de partículas de óxido de cerio de nanoescala dispersadas en agua a pH de aproximadamente igual a 1.5 durante un acoplamiento de horas y se enjuagaron con agua DI pura (pH de aproximadamente igual a 5.6) y se almacenaron en una capucha de flujo laminar hasta completar la sequedad. Las partículas de óxido de cerio del sol exhibieron un tamaño de partícula promedio de aproximadamente 10 nanómetros mediante la medición de dispersión de luz dinámica. Después de tal tratamiento, la superficie de PET llegó a ser hidrofílica
conduciendo a la formulación de una película humectable estable cuando se retira un lote de agua (ángulo de contacto de retroceso < 20°) . En una segunda etapa, la adhesión de tinta portada por agua sobre el PET tratado y no tratado se probaron utilizando una impresora de chorro de tinta regular. Después de la impresión correcta, ambos tipos de superficie resbaladiza se enjuagaron utilizando agua corriente caliente durante 1 minuto. Los resultados de la prueba se muestran en la FIGURA 1. Sobre la superficie no tratada, el flujo de agua caliente causa que la tinta se corra instantáneamente mientras que la tinta sobre la superficie tratada de nanopartícula es más resiliente al flujo de agua. Ejemplo 9 Un sol al 0.1% en peso de partículas de óxido de cerio de nanoescala dispersadas en agua desionizada se preparó y se acidificó a pH 1.5 con ácido nítrico. Las partículas de óxido de cerio del sol exhibieron un tamaño de partícula promedio de aproximadamente 10 nanómetros mediante la medición de dispersión de luz dinámica. La solución además se modificó mediante la adición de nitrato de sodio 0.1 M. La adición de sal no cambió la dispersabilidad de las nanopartículas . Las placas de muestra de aluminio se trataron al sumergir las placas en la dispersión durante 5 minutos. Estas placas luego se removieron de la solución y se
enjuagaron con agua desionizada. Después de enjuagar el sustrato se secó con aire y se envejeció durante 1 semana. Las placas luego se recubrieron con una pintura de látex acrilica y luego se sometieron a una prueba de lote cruzado (ASTM D3359-02) para evaluar la adhesión del recubrimiento sobre aluminio. Como control, las pruebas de adhesión del mismo material de recubrimiento de la misma muestra de recubrimiento se realizó. Las placas de muestra de aluminio se sumergieron en soluciones de ácido nítrico a pH 1.5 durante 5 minutos, se enjuagaron en agua desionizada y se envejecieron en aire durante períodos idénticos de tiempo como las placas de aluminio tratadas con nanopartículas . Los resultados de la prueba se resumen enseguida.
Como es visto de los resultados de prueba, adsorción de las nanopartículas aumenta la adhesión de la pintura de látex sobre el aluminio. Ejemplo 11 Un sol al 0.1% en peso de partículas de óxido de silicio de nanoescala dispersadas en agua desionizada se
preparó y se acidificó a pH 3 con ácido nítrico. Las partículas de dióxido de silicio del sol exhibieron un tamaño de partícula promedio de aproximadamente 9 nanómetros mediante la medición de dispersión de luz dinámica. La solución además se modificó mediante la adición de nitrato de sodio 0.1 M. La adición de sal no cambió la dispersabilidad de las nanoparticulas . Las placas de muestra de polipropileno se trataron al sumergir las placas en la dispersión durante 2 horas. Estas placas luego se removieron de la solución y se enjuagaron en agua desionizada. Después de enjuagar el sustrato se secó con aire y la hidrofilicidad de las superficies tratadas de las placas se probó utilizando mediciones de ángulo de contacto. Los ángulos de contacto de retroceso (9r) de agua sobre las placas de polipropileno tratadas con nanoparticulas de óxido de silicio en la presencia de aNC^ fue 34° mientras que el ángulo de contacto de retroceso de agua sobre las placas de polipropileno tratadas con nanoparticulas de óxido de silicio sin cualquier NaN03 fue 47 grados. El ángulo de contacto de retroceso de agua sobre una placa de polipropileno sin tratar fue 76°. Ejemplo 12 Un sol al 0.1% en peso de partículas de óxido de cerio de nanoescala dispersadas en agua desionizada se preparó y se acidificó a pH 1.5 con ácido nítrico. Las
partículas de óxido de cerio del sol exhibieron un tamaño de partícula promedio de aproximadamente 10 nanómetros mediante la medición de dispersión de luz dinámica. La solución además se modificó mediante la adición de nitrato de sodio 0.1 M. La adición de sal no cambió la dispersabilidad de las nanopartículas . Las placas de muestra de policarbonato se trataron al sumergir las placas en la dispersión durante 1 hora. Estas placas luego se removieron de la solución y se enjuagaron en agua desionizada. Después de enjuagar el sustrato se secó con aire y la hidrofilicidad de las superficies tratadas de las placas se probó utilizando mediciones de ángulo de contacto. El ángulo de contacto de retroceso (9r) de agua sobre las placas de policarbonato se trataron con nanopartículas de óxido de cerio en la presencia de NaNC>3 fue 39° mientras que el ángulo de contacto de retroceso de agua sobre placas de policarbonato sin tratar fue 60°. Ejemplo 13 Un sol al 0.1% en peso de partículas de óxido de cerio de nanoescala dispersadas en agua desionizada se preparó y se acidificó a pH 1.5 con ácido nítrico. Las partículas de óxido de cerio del sol exhibieron un tamaño de partícula promedio de aproximadamente 10 nanómetros mediante la medición de dispersión de luz dinámica. La solución además se modificó mediante la adición de nitrato de sodio 0.1 M. La
adición de sal no cambió la dispersabilidad de las nanoparticulas . Las placas de muestra de nylon 6,6 se trataron al sumergir las placas en la dispersión durante 1 hora. Estas placas luego se removieron de la solución y se enjuagaron con agua desionizada. Después de enjuagar el sustrato se secó con aire y la hidrofilicidad de las superficies tratadas de las placas se probó utilizando mediciones de ángulo de contacto. El ángulo de contacto de retroceso (9r) de agua sobre placas de Nylon 6, 6 tratadas con nanoparticulas de óxido de cerio en la presencia de NaNÜ3 fue 24° mientras que el ángulo de contacto de retroceso de agua sobre las placas de Nylon 6,6 sin tratar fue 53°. El tratamiento de las placas de Nylon 6,6 de una manera análoga con un sol de nanoparticula de óxido de cerio que careció del componente de sal NaN03 dio por resultado nada de cambio en el ángulo de contacto de retroceso de agua cobre las placas tratadas comparadas al ángulo de contacto de retroceso de agua sobre las placas sin tratar. Ejemplo 14 Un sol al 0.1% en peso de partículas de óxido de cerio de nanoescala dispersadas en agua desionizada se preparó y se acidificó a pH 1.5 con ácido nítrico. Las partículas de óxido de cerio del sol exhibieron un tamaño de partícula promedio de aproximadamente 10 nanómetros mediante
la medición de dispersión de luz dinámica. La solución además se modificó mediante la adición de nitrato de sodio 0.1 M. La adición de sal no cambió la dispersabilidad de las nanoparticulas . Las placas de muestra de teflón se trataron al sumergir las placas en la dispersión durante 1 hora. Estas placas luego se removieron de la solución y se enjuagaron con agua desionizada. Después de enjuagar el sustrato se secó con aire y la hidrofilicidad de las superficies tratadas de las placas se probó utilizando mediciones de ángulo de contacto. El ángulo de contacto de retroceso (9r) de agua sobre las placas de Teflón tratadas con nanoparticulas de óxido de cerio en la presencia de Na Ü3 fue 51° mientras que el ángulo de contacto de retroceso de agua sobre las placas de Teflón sin tratar fue 85°. El tratamiento de las placas de Teflón de una manera análoga con un sol de nanoparticula de óxido de cerio que careció del componente de sal NaN03 dio por resultado nada de cambio en el ángulo de contacto de retroceso de agua sobre las placas tratadas comparadas con el ángulo de contacto de retroceso de agua sobre las placas sin tratar. Ejemplo 15 Para demostrar que la presencia de electrolito adicionado aumenta la adsorción de las nanoparticulas sobre una superficie hidrofóbica los inventores presentan los resultados de las mediciones de reflectancia de luz que miden
la concentración de nanoparticulas de óxido de cerio adsorbidas sobre las superficies de poliestireno como una función del tiempo. Los detalles de la técnica de reflectancia de luz se pueden encontrar en el siguiente articulo (Dijt, J. C . ; Cohén Stuart, M. A.; Fleer, G.J.; "Reflectometry as a tool for adsorption studies"; Adv. Colloid. Interface. ScL 1994, 50, 79). En esta medición, una superficie de poliestireno fue primero equilibrada en agua desionizada durante aproximadamente 10 minutos para generar una linea de base plana. Después del equilibrio, un sol al 0.1% en peso de partículas de óxido de cerio de nanoescala se introdujo y la adsorción de las nanoparticulas sobre la superficie se midió como una función del tiempo. Las partículas de óxido de cerio del sol exhibieron un tamaño de partícula promedio de aproximadamente 10 nanómetros mediante la medición de dispersión de luz dinámica. Los datos (mostrados en la FIGURA 2) muestran que la concentración de óxido de cerio adsorbido sobre el poliestireno se incrementa por 30% cuando el sol de nanoparticulas contiene NaN03 0.03 M comparado a aquella obtenida utilizando un sol análogo que careció del componente NaNC>3.
Claims (22)
- REIVINDICACIONES 1. Un sustrato modificado de superficie, caracterizado porque comprende un sustrato que tiene una superficie y una capa de partículas de óxido inorgánico de nanoescala dispuestas sobre por lo menos una porción de la superficie .
- 2. El sustrato modificado de superficie de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el sustrato es un polímero orgánico, un polímero de organosilicio, una cerámica, un metal, un material compuesto, o un material inorgánico diferente de una cerámica o metal.
- 3. El sustrato modificado de superficie de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el sustrato es un polímero orgánico.
- 4. El sustrato modificado de superficie de conformidad con la reivindicación 3, caracterizado porque el polímero se selecciona de poliestireno , polietileno, polipropileno, polietilentereftalato, nylon y politetrafluoroetileno.
- 5. El sustrato modificado de superficie de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el sustrato es un sustrato de metal.
- 6. El sustrato modificado de superficie de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el sustrato es un sustrato de aluminio.
- 7. El sustrato modificado de superficie de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque las partículas de óxido inorgánico de nanoescala comprenden óxido de cerio, óxido de titanio, óxido de zirconio, óxido de hafnio, óxido de tántalio, óxido de tungsteno y óxido de bismuto, óxido de zinc, óxido de indio y óxido de estaño, óxido de hierro.
- 8. El sustrato modificado de superficie de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque las partículas de óxido inorgánico de nanoescala comprenden partículas de óxido de cerio o partículas de óxido de silicio .
- 9. El sustrato modificado de superficie de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque las partículas de óxido inorgánico de nanoescala se dispersan en una monocapa sobre la superficie.
- 10. El sustrato modificado de superficie de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque la superficie es una superficie de aluminio y las partículas de óxido inorgánico de nanoescala comprenden partículas de óxido de cerio.
- 11. El sustrato modificado de superficie de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el sustrato modificado de superficie es un sustrato hidrofilizado, que comprende un sustrato inicialmente que tiene una superficie hidrofóbica y una capa de partículas de óxido inorgánico de nanoescala dispuestas sobre por lo menos una porción de tal superficie hidrofóbica en una cantidad efectiva para incrementar la hidrofilicidad de tal porción de tal superficie hidrofóbica.
- 12. El sustrato modificado de superficie de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque el sustrato modificado de superficie exhibe incrementos de reactividad que comprende un sustrato inicialmente que tiene una superficie de manera relativa químicamente inerte y una capa de partículas de óxido inorgánico de nanoescala dispuestas sobre por lo menos una porción de tal superficie en una cantidad efectiva para incrementar la reactividad químicamente de tal porción de tal superficie.
- 13. Un artículo, caracterizado porque comprende un sustrato modificado de superficie que tiene una superficie y una capa de partículas de óxido inorgánico de nanoescala dispuestas sobre por lo menos una porción de la superficie y una capa de un recubrimiento dispuesta sobre por lo menos una porción de la capa de partículas inorgánicas.
- 14. El artículo de conformidad con la reivindicación 13, caracterizado porque el sustrato es un sustrato de aluminio, las partículas de óxido inorgánico de nanoescala comprenden partículas de óxido de cerio y la capa de recubrimiento comprende un látex acrílico.
- 15. El articulo de conformidad con la reivindicación 13, caracterizado porque el sustrato es un sustrato de polímero, las partículas de óxido inorgánico de nanoescala comprenden partículas de óxido de cerio y la capa de recubrimiento comprende una tinta de impresión.
- 16. Un método para modificar la superficie de un sustrato, caracterizado porque comprende tratar por lo menos una porción de tal superficie con una suspensión de partículas de óxido inorgánico de nanoescala para depositar una cantidad de tales partículas sobre tal porción de tal superficie .
- 17. El método de conformidad con la reivindicación 16, caracterizado porque la suspensión es inicialmente una dispersión estable de partículas de óxido inorgánico de nanoescala en un medio acuoso, y la superficie se trata al poner en contacto la superficie con la suspensión y al ajusfar el pH de la suspensión mientras que la superficie está en contacto con la suspensión para precipitar las partículas de óxido inorgánico de nanoescala de la suspensión.
- 18. El método de conformidad con la reivindicación 16, caracterizado porque la suspensión comprende una dispersión estable de partículas de óxido inorgánico de nanoescala en un medio acuoso, el medio acuoso comprende un electrolito disuelto y la superficie se trata al poner en contacto la superficie con la suspensión y luego al descontinuar el contacto de la superficie con la suspensión.
- 19. El método de conformidad con la reivindicación 18, caracterizado porque las partículas inorgánicas de nanoescala comprenden partículas de óxido de cerio.
- 20. El método de conformidad con la reivindicación 18, caracterizado porque el medio acuoso comprende de aproximadamente 0.01 a aproximadamente 0.1 por ciento en peso del electrolito.
- 21. El método de conformidad con la reivindicación 18, caracterizado porque el electrolito comprende una sal de nitrato .
- 22. El método de conformidad con la reivindicación 18, caracterizado porque además comprende enjuagar la superficie tratada con una solución de enjuague acuosa después de descontinuar el contacto de la superficie con la suspensión estable.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US78736906P | 2006-03-30 | 2006-03-30 | |
| PCT/US2007/007726 WO2007126925A2 (en) | 2006-03-30 | 2007-03-28 | Modified surfaces and method for modifying a surface |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| MX2008012426A true MX2008012426A (es) | 2008-12-18 |
Family
ID=38656053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| MX2008012426A MX2008012426A (es) | 2006-03-30 | 2007-03-28 | Superficies modificadas y metodo para modificar una superficie. |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20080124467A1 (es) |
| EP (1) | EP2001811A4 (es) |
| JP (1) | JP2009532312A (es) |
| CN (1) | CN101410334B (es) |
| CA (1) | CA2647528A1 (es) |
| MX (1) | MX2008012426A (es) |
| WO (1) | WO2007126925A2 (es) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20080124467A1 (en) * | 2006-03-30 | 2008-05-29 | Jean-Paul Chapel | Modified surfaces and method for modifying a surface |
| WO2009061435A1 (en) | 2007-11-06 | 2009-05-14 | Rhodia Inc. | Articles having an interface between a polymer surface and a modified glass surface |
| US8062555B2 (en) * | 2009-04-16 | 2011-11-22 | Rhodia Operations | Co-assembly method and co-assembled structures made thereby |
| JP2012087213A (ja) * | 2010-10-19 | 2012-05-10 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 金属材用親水性皮膜、親水化処理剤、及び親水化処理方法 |
| US9724727B2 (en) | 2014-02-13 | 2017-08-08 | Corning Incorporated | Methods for printing on glass |
| US10068683B1 (en) | 2014-06-06 | 2018-09-04 | Southwire Company, Llc | Rare earth materials as coating compositions for conductors |
| JP6540377B2 (ja) * | 2015-08-27 | 2019-07-10 | 株式会社Ihi | 親水性フィルム、電解質膜、及びその親水性フィルムの製造方法 |
| CA2999594C (en) * | 2015-09-24 | 2020-04-28 | Siemens Aktiengesellschaft | A system and a method for modifying a surface of a substrate |
| CN106183144A (zh) * | 2016-08-08 | 2016-12-07 | 苏州极地实业有限公司 | 一种耐磨陶瓷金属材料 |
| CN106206945A (zh) | 2016-09-08 | 2016-12-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种柔性基板及其制备方法、柔性显示装置 |
| US11374184B2 (en) | 2016-09-08 | 2022-06-28 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Flexible substrate and fabrication method thereof, and flexible display apparatus |
| CN110770285A (zh) * | 2017-02-06 | 2020-02-07 | M·戈瑟兰 | 在塑料支持物上物理沉积硅质颗粒以增强表面性能 |
| US12060272B2 (en) | 2018-01-11 | 2024-08-13 | The Curators Of The University Of Missouri | Method of forming conformable nanoscale coatings on substrates |
| JP7276159B2 (ja) * | 2018-02-08 | 2023-05-18 | 住友金属鉱山株式会社 | 近赤外線吸収材料微粒子分散体、近赤外線吸収体、近赤外線吸収物積層体および近赤外線吸収用合わせ構造体 |
| CN109097984B (zh) * | 2018-08-22 | 2020-11-24 | 安徽利思达网业有限公司 | 一种油水分离用超疏水聚酯滤布的制备方法 |
| JP6991626B1 (ja) | 2021-06-11 | 2022-01-12 | 竹本油脂株式会社 | 高分子フィルム用コーティング剤組成物、並びにそれを用いた改質フィルムの製造方法及び改質フィルム |
| CN115466424A (zh) * | 2022-09-28 | 2022-12-13 | 深圳市英维克科技股份有限公司 | 一种塑料表面的亲水处理方法及换热器芯体 |
Family Cites Families (40)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3657003A (en) * | 1970-02-02 | 1972-04-18 | Western Electric Co | Method of rendering a non-wettable surface wettable |
| US4235226A (en) * | 1976-04-15 | 1980-11-25 | Dornier System Gmbh | Collector panel for solar energy |
| DE2616662C2 (de) * | 1976-04-15 | 1984-02-02 | Dornier System Gmbh, 7990 Friedrichshafen | Verfahren zur herstellung einer selektiven solarabsorberschicht auf aluminium |
| US4224213A (en) * | 1978-06-09 | 1980-09-23 | Cook Paint And Varnish Company | Single package inorganic zinc rich paints having a silicate and titanate ester copolymer binder |
| US4364731A (en) * | 1981-01-29 | 1982-12-21 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Methods for producing adhesive bonds between substrate and polymer employing an intermediate oxide layer |
| JP2673840B2 (ja) * | 1990-11-30 | 1997-11-05 | キヤノン株式会社 | 被記録材及びインクジェット記録方法 |
| US5316854A (en) * | 1991-12-06 | 1994-05-31 | Ppg Industries, Inc. | Glass or quartz articles having high temperature UV absorbing coatings containing ceria |
| MY114512A (en) * | 1992-08-19 | 2002-11-30 | Rodel Inc | Polymeric substrate with polymeric microelements |
| US6069080A (en) * | 1992-08-19 | 2000-05-30 | Rodel Holdings, Inc. | Fixed abrasive polishing system for the manufacture of semiconductor devices, memory disks and the like |
| US5817160A (en) * | 1992-12-16 | 1998-10-06 | The Center For Innovative Technology | UV absorbing glass |
| AU676299B2 (en) * | 1993-06-28 | 1997-03-06 | Akira Fujishima | Photocatalyst composite and process for producing the same |
| FR2738813B1 (fr) * | 1995-09-15 | 1997-10-17 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a revetement photo-catalytique |
| US5825526A (en) * | 1996-04-24 | 1998-10-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Tape for use in manufacturing electrochromic devices |
| US6040053A (en) * | 1996-07-19 | 2000-03-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties |
| WO1998025761A1 (en) * | 1996-12-09 | 1998-06-18 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Non-fogging article and process for the production thereof |
| JPH11100234A (ja) * | 1996-12-09 | 1999-04-13 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 防曇物品及びその製造方法 |
| US20010048969A1 (en) * | 1997-05-05 | 2001-12-06 | Constantino Stephen A. | Dispersible, metal oxide-coated, barium titanate materials |
| US6022619A (en) * | 1998-01-15 | 2000-02-08 | Kuhn; Hans H. | Textile composite with iron oxide film |
| WO2001027204A1 (en) * | 1999-10-12 | 2001-04-19 | Toray Industries, Inc. | Resin structure and use thereof |
| JP4562894B2 (ja) * | 2000-04-17 | 2010-10-13 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止膜およびその製造方法 |
| DE10021726A1 (de) * | 2000-05-04 | 2001-11-15 | Henkel Kgaa | Verwendung von nanoskaligen Teilchen zur Verbesserung der Schmutzablösung |
| US20030211747A1 (en) * | 2001-09-13 | 2003-11-13 | Nyacol Nano Technologies, Inc | Shallow trench isolation polishing using mixed abrasive slurries |
| EP1304229A3 (en) * | 2001-10-22 | 2004-12-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Hydrophilic member, hydrophilic graft polymer, and support of planographic printing plate |
| AU2002359356A1 (en) * | 2001-11-16 | 2003-06-10 | Ferro Corporation | Particles for use in cmp slurries and method for producing them |
| DE10159767A1 (de) * | 2001-12-05 | 2003-06-18 | Degussa | Verfahren zur Herstellung von Gegenständen mit antiallergischen Oberflächen |
| US20030108691A1 (en) * | 2001-12-12 | 2003-06-12 | Eastman Kodak Company | Ink jet printing method |
| DE60221953T2 (de) * | 2001-12-12 | 2008-05-21 | Eastman Kodak Co. | Tintenstrahlaufzeichnungselement und Druckverfahren |
| EP1384451B1 (de) * | 2002-07-23 | 2011-01-05 | Heinz Kurz GmbH Medizintechnik | Steigbügelprothese |
| US7275818B2 (en) * | 2003-02-03 | 2007-10-02 | Kodak Il Ltd. | Process and materials for marking plastic surfaces |
| US20050064183A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-03-24 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive articles including a nanoparticle primer and methods for preparing same |
| JP2005126460A (ja) * | 2003-10-21 | 2005-05-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 親水化処理された樹脂成形品 |
| BE1015823A3 (fr) * | 2003-12-17 | 2005-09-06 | Ct Rech Metallurgiques Asbl | Procede de revetement d'une surface metallique par une couche ultrafine. |
| JP2005298570A (ja) * | 2004-04-07 | 2005-10-27 | Asahi Glass Co Ltd | 無機塗料組成物及び親水性塗膜 |
| JP2006056922A (ja) * | 2004-08-17 | 2006-03-02 | Onid Technology Corp | プラスチック素材の表面処理方法 |
| CA2630526A1 (en) * | 2004-11-30 | 2006-08-31 | The Regents Of The University Of California | Joining of dissimilar materials |
| JP4595118B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2010-12-08 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 改質されたプラスチックス及びその製造方法 |
| TWI305587B (en) * | 2005-11-16 | 2009-01-21 | Daxon Technology Inc | Optical film and fabrication method thereof |
| US20080124467A1 (en) * | 2006-03-30 | 2008-05-29 | Jean-Paul Chapel | Modified surfaces and method for modifying a surface |
| EP2535400A2 (en) * | 2006-07-11 | 2012-12-19 | Rhodia, Inc. | Aqueous dispersions of hybrid coacervates delivering specific properties onto solid surfaces and comprising inorganic solid particles and a copolymer |
| WO2009061435A1 (en) * | 2007-11-06 | 2009-05-14 | Rhodia Inc. | Articles having an interface between a polymer surface and a modified glass surface |
-
2007
- 2007-03-28 US US11/729,376 patent/US20080124467A1/en not_active Abandoned
- 2007-03-28 CN CN2007800112819A patent/CN101410334B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-03-28 WO PCT/US2007/007726 patent/WO2007126925A2/en not_active Ceased
- 2007-03-28 CA CA 2647528 patent/CA2647528A1/en not_active Abandoned
- 2007-03-28 EP EP07754274A patent/EP2001811A4/en not_active Withdrawn
- 2007-03-28 MX MX2008012426A patent/MX2008012426A/es unknown
- 2007-03-28 JP JP2009502986A patent/JP2009532312A/ja active Pending
-
2010
- 2010-11-19 US US12/950,610 patent/US20110117286A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101410334A (zh) | 2009-04-15 |
| EP2001811A4 (en) | 2011-07-06 |
| CN101410334B (zh) | 2012-08-29 |
| EP2001811A2 (en) | 2008-12-17 |
| WO2007126925A2 (en) | 2007-11-08 |
| WO2007126925A3 (en) | 2008-01-03 |
| US20080124467A1 (en) | 2008-05-29 |
| JP2009532312A (ja) | 2009-09-10 |
| CA2647528A1 (en) | 2007-11-08 |
| US20110117286A1 (en) | 2011-05-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MX2008012426A (es) | Superficies modificadas y metodo para modificar una superficie. | |
| US10668501B2 (en) | Process for obtaining superhydrophobic or superhydrophilic surfaces | |
| CA2704483C (en) | Articles having an interface between a polymer surface and a modified glass surface | |
| WO2003039856A1 (en) | Ultra-water-repellent substrate | |
| EP2247548A1 (en) | Superhydrophilic coating compositions and their preparation | |
| US8263218B2 (en) | Modified surfaces and method for modifying a surface | |
| AU2024204644A1 (en) | Coating process | |
| JP2007256528A (ja) | セラミック超微粒子膜の製造方法 | |
| EP4393979A1 (en) | Bifunctional polyfluoropolyether silanes as anti-insect adhesion agent |